基本信息:
- 专利标题： 一种耐高压抗冲击氧化铝陶瓷纳滤膜支撑体的制备方法
- 申请号：CN202411246191.X 申请日：2024-09-06
- 公开(公告)号：CN119215686A 公开(公告)日：2024-12-31
- 发明人： 丘助国 , 洪昱斌 , 方富林 , 蓝伟光
- 申请人： 三达膜科技（厦门）有限公司
- 申请人地址： 福建省厦门市集美区杏林锦亭北路66号（主厂房）
- 专利权人： 三达膜科技（厦门）有限公司
- 当前专利权人： 三达膜科技（厦门）有限公司
- 当前专利权人地址： 福建省厦门市集美区杏林锦亭北路66号（主厂房）
- 代理机构： 厦门市首创君合专利事务所有限公司
- 代理人： 姜谧; 李雁翔
- 主分类号： B01D71/02
- IPC分类号： B01D71/02 ; B01D67/00 ; B01D61/00 ; C04B38/06 ; C04B35/10 ; C04B35/622 ; C04B35/628 ; C04B35/64
摘要：
本发明公开了一种耐高压抗冲击氧化铝陶瓷纳滤膜支撑体的制备方法，首先采用高压水热法，将纳米粒子均匀地包裹在氧化铝陶瓷颗粒的表面，并填充颗粒内部的裂纹缺陷。此外，本发明采用了微波低温快速一次烧结技术，利用均匀快速的加热方式，结合纳米氧化锆颗粒的高吸波效率(这一效率优于大颗粒α‑氧化铝)，将纳米氧化锆颗粒稳定且迅速地结合到大颗粒氧化铝陶瓷粉体的表面和颗粒内部的裂缝中。本发明有效避免了后续混料、成型及烧结过程中可能出现的纳米颗粒脱附、团聚和偏析问题，从而减少了陶瓷膜支撑体的缺陷和不均匀性。同时，与传统加热方法相比，本发明中的微波加热实现了更均匀的温度分布，防止了纳米晶粒的异常团聚和生长。
IPC结构图谱:
| B | 作业；运输 |
| --B01 | 一般的物理或化学的方法或装置 |
| ----B01D | 分离 |
| ------B01D71/00 | 以材料为特征的用于分离工艺或设备的半透膜；其专用制备方法 |
| --------B01D71/02 | .无机材料 |