基本信息:
- 专利标题： 具有用于静电放电应用的导电聚合物涂层的方法及系统
- 申请号：CN202280083875.5 申请日：2022-12-21
- 公开(公告)号：CN118402053A 公开(公告)日：2024-07-26
- 发明人： 李志峰 , P·R·瓦兰阿西 , M·C·扎布卡
- 申请人： 恩特格里斯公司
- 申请人地址： 美国马萨诸塞州
- 专利权人： 恩特格里斯公司
- 当前专利权人： 恩特格里斯公司
- 当前专利权人地址： 美国马萨诸塞州
- 代理机构： 北京律盟知识产权代理有限责任公司
- 代理人： 李婷
- 优先权： 63/292,927 2021.12.22 US
- 国际申请： PCT/US2022/053716 2022.12.21
- 国际公布： WO2023/122214 US 2023.06.29
- 进入国家日期： 2024-06-18
- 主分类号： H01L21/673
- IPC分类号： H01L21/673 ; C09D5/24 ; C09D165/00 ; C09D179/00 ; C09D139/04
摘要：
一种半导体处理设备包含：衬底，其包括聚合物材料层；及导电聚合物涂层，其涂覆所述衬底的所述聚合物材料层的至少一部分，其中所述导电聚合物涂层包括共轭聚合物，其中所述导电聚合物涂层具有小于400ng/g的总可萃取金属，且其中所述导电聚合物涂层经配置以在连接到半导体处理系统时使所述半导体处理设备中的静电积聚放电。