基本信息:
- 专利标题： 密合膜形成用组成物、图案形成方法、及密合膜的形成方法
- 申请号：CN202311035093.7 申请日：2023-08-17
- 公开(公告)号：CN117590692A 公开(公告)日：2024-02-23
- 发明人： 橘诚一郎 , 渡边武 , 郡大佑 , 泽村昂志
- 申请人： 信越化学工业株式会社
- 申请人地址： 日本东京都
- 专利权人： 信越化学工业株式会社
- 当前专利权人： 信越化学工业株式会社
- 当前专利权人地址： 日本东京都
- 代理机构： 北京林达刘知识产权代理事务所
- 代理人： 刘新宇; 李茂家
- 优先权： 2022-130259 2022.08.17 JP
- 主分类号： G03F7/004
- IPC分类号： G03F7/004 ; G03F1/56 ; G03F1/76 ; G03F7/038
摘要：
本发明涉及密合膜形成用组成物、图案形成方法、及密合膜的形成方法。本发明的课题为提供密合膜形成用组成物、使用该组成物的图案形成方法、及密合膜的形成方法，该密合膜形成用组成物提供于半导体装置制造步骤中微细图案化处理中，得到良好的图案形状，同时具有与抗蚀剂上层膜高的密合性且抑制微细图案的崩塌的密合膜。解决该课题的手段为一种密合膜形成用组成物，其用于形成抗蚀剂上层膜的正下的密合膜，其特征在于包含：(A)含有下列通式(1)表示的重复单元、及下列通式(2)表示的重复单元的高分子化合物，以及(B)有机溶剂。