基本信息:
- 专利标题： 基于磁控溅射的PECVD镀膜装置及方法
- 申请号：CN202210695363.6 申请日：2022-06-20
- 公开(公告)号：CN115110048B 公开(公告)日：2023-05-02
- 发明人： 朱建明
- 申请人： 肇庆市科润真空设备有限公司
- 申请人地址： 广东省肇庆市端州一路南侧(市财贸学校对面)
- 专利权人： 肇庆市科润真空设备有限公司
- 当前专利权人： 肇庆市科润真空设备有限公司
- 当前专利权人地址： 广东省肇庆市端州一路南侧(市财贸学校对面)
- 代理机构： 广州蓝晟专利代理事务所
- 代理人： 谢静娜
- 主分类号： C23C14/35
- IPC分类号： C23C14/35 ; C23C16/50
摘要：
本发明公开一种基于磁控溅射的PECVD镀膜装置及方法，通过在PECVD镀膜装置中加入磁控溅射用的磁铁及阴极靶材，使真空镀膜室内同时产生电场作用和磁场作用；利用电场作用使进入镀膜室内的工作气体产生等离子体，高密度的等离子体使进入镀膜室内的反应气体或介质气体分解；同时，利用磁场作用使等离子体也溅射到阴极靶材上，将阴极靶材上的材料离子溅射出来，与反应气体或介质气体分解产生的基团混合并同步沉积于基片表面，从而形成掺杂有材料离子的膜层。本发明实现在PECVD镀膜的过程中同时掺杂上金属离子或膜层所需的其他离子，从而简化设备结构及整个生产工艺，并实现在所镀膜层中均匀掺杂所需的材料离子，从而提高膜层质量。
公开/授权文献:
- CN115110048A 基于磁控溅射的PECVD镀膜装置及方法 公开/授权日：2022-09-27