基本信息:
- 专利标题： 一种等离子密度可调的离子源装置
- 申请号：CN202110002081.9 申请日：2021-01-04
- 公开(公告)号：CN114724911A 公开(公告)日：2022-07-08
- 发明人： 张瑶瑶 , 刘小波 , 胡冬冬 , 张怀东 , 刘海洋 , 李娜 , 郭颂 , 李晓磊 , 许开东
- 申请人： 江苏鲁汶仪器有限公司
- 申请人地址： 江苏省徐州市邳州经济开发区辽河西路8号
- 专利权人： 江苏鲁汶仪器有限公司
- 当前专利权人： 江苏鲁汶仪器有限公司
- 当前专利权人地址： 江苏省徐州市邳州经济开发区辽河西路8号
- 代理机构： 南京经纬专利商标代理有限公司
- 代理人： 石艳红
- 主分类号： H01J37/32
- IPC分类号： H01J37/32 ; H01J37/08
摘要：
本发明公开了一种等离子密度可调的离子源装置，包括离子源腔、放电腔、螺旋线圈、平面线圈和射频电源；离子源腔和放电腔从外至内依次同轴设置；放电腔的头部设置有进气面板；螺旋线圈同轴套设在放电腔的筒身外周，两者间具有径向间隙R；平面线圈同轴安装在进气面板的外侧上游，两者间具有轴向间隙L；螺旋线圈和平面线圈的一端均依次与功率分配器、射频匹配器和射频电源电连接，另一端均接地；功率分配器能对进入螺旋线圈和平面线圈的射频功率进行分配，通过对分配率r进行调节，从而实现放电腔内等离子密度分布的调节。本发明同时采用螺旋形和平面线圈，并对两个线圈进行功率分配，针对不同工况进行调节，能有效改善刻蚀均匀性。