基本信息:
- 专利标题： 光罩杂质去除设备和光罩杂质去除方法
- 申请号：CN202110126225.1 申请日：2021-01-29
- 公开(公告)号：CN112934859A 公开(公告)日：2021-06-11
- 发明人： 韩露露 , 贺遵火 , 吴仕伟 , 谢发政
- 申请人： 泉芯集成电路制造(济南)有限公司
- 申请人地址： 山东省济南市高新区机场路7617号411-2-9室
- 专利权人： 泉芯集成电路制造(济南)有限公司
- 当前专利权人： 泉芯集成电路制造(济南)有限公司
- 当前专利权人地址： 山东省济南市高新区机场路7617号411-2-9室
- 代理机构： 北京超凡宏宇专利代理事务所
- 代理人： 刘曾
- 主分类号： B08B7/00
- IPC分类号： B08B7/00
摘要：
本发明的实施例提供了一种光罩杂质去除设备和光罩杂质去除方法，涉及半导体技术领域，光罩杂质去除设备包括黏胶棒、升降机构和承载盘，承载盘用于放置光罩，黏胶棒与升降机构传动连接，并与承载盘相对设置，升降机构设置在承载盘的一侧，用于带动黏胶棒靠近或者远离光罩，黏胶棒用于粘附光罩表面的杂质。相较于现有技术，本发明提供了一种新型的杂质去除方式，能够有效粘走杂质微粒，避免了由于静电吸附导致的杂质去除不彻底的情况，同时，无需额外设置复杂的吹扫机构和滴液辅助结构，操作过程简单，简化了杂质去除流程。
公开/授权文献:
- CN112934859B 光罩杂质去除设备和光罩杂质去除方法 公开/授权日：2022-06-07
IPC结构图谱:
| B | 作业；运输 |
| --B08 | 清洁 |
| ----B08B | 一般清洁；一般污垢的防除 |
| ------B08B7/00 | 不包含在其他小类或本小类的其他组中的清洁方法 |