基本信息:
- 专利标题： 显示基板及其制作方法、显示装置
- 申请号：CN202010528548.9 申请日：2020-06-11
- 公开(公告)号：CN111650787B 公开(公告)日：2023-06-30
- 发明人： 刘弘 , 徐敬义 , 张永强 , 刘鹏 , 霍培荣 , 陈婉芝 , 许晓春 , 刘建涛 , 李波
- 申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司
- 申请人地址： 北京市朝阳区酒仙桥路10号;
- 专利权人： 京东方科技集团股份有限公司,鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司
- 当前专利权人： 京东方科技集团股份有限公司,鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司
- 当前专利权人地址： 北京市朝阳区酒仙桥路10号;
- 代理机构： 北京清亦华知识产权代理事务所
- 代理人： 王佳璐
- 主分类号： G02F1/1343
- IPC分类号： G02F1/1343 ; H04M1/02 ; H10K59/65 ; H04N23/57 ; H10K59/12
摘要：
本发明提出了显示基板及其制作方法、显示装置。该显示基板包括：基板，其上限定有盲孔区；缓冲层，覆盖基板的一侧；有机膜层，设置在缓冲层远离基板的表面，且在盲孔区中具有第一开孔；钝化层，设置在有机膜层远离基板的一侧，且在盲孔区中具有第二开孔；透明电极层，覆盖钝化层和第二开孔中的缓冲层。本发明所提出的显示基板，其缓冲层在盲孔区中的表面虽会被钝化层的干法刻蚀成凹凸不平，但通过在缓冲层的表面进一步形成平整的透明电极层，从而使盲孔区内的均一性更好，在减缓盲孔区发黄问题的同时，还可保证盲孔区的透过率达到90％以上。
公开/授权文献:
- CN111650787A 显示基板及其制作方法、显示装置 公开/授权日：2020-09-11
IPC结构图谱:
| G | 物理 |
| --G02 | 光学 |
| ----G02F | 用于控制光的强度、颜色、相位、偏振或方向的器件或装置，例如转换、选通、调制或解调，上述器件或装置的光学操作是通过改变器件或装置的介质的光学性质来修改的；用于上述操作的技术或工艺；变频；非线性光学；光学逻辑元件；光学模拟/数字转换器 |
| ------G02F1/00 | 控制来自独立光源的光的强度、颜色、相位、偏振或方向的器件或装置，例如，转换、选通或调制；非线性光学 |
| --------G02F1/01 | .对强度、相位、偏振或颜色的控制 |
| ----------G02F1/09 | ..基于磁—光元件的，例如，呈现法拉第效应的 |
| ------------G02F1/133 | ...构造上的设备；液晶单元的工作；电路装置 |
| --------------G02F1/1333 | ....构造上的设备 |
| ----------------G02F1/1343 | .....电极 |