基本信息:
- 专利标题： 感光化射线性或感放射线性树脂组合物、抗蚀剂膜、图案形成方法及电子器件的制造方法
- 申请号：CN201880059342.7 申请日：2018-09-07
- 公开(公告)号：CN111095105B 公开(公告)日：2023-08-01
- 发明人： 吉村务 , 米久田康智 , 畠山直也 , 东耕平 , 西田阳一
- 申请人： 富士胶片株式会社
- 申请人地址： 日本国东京都
- 专利权人： 富士胶片株式会社
- 当前专利权人： 富士胶片株式会社
- 当前专利权人地址： 日本国东京都
- 代理机构： 中科专利商标代理有限责任公司
- 代理人： 薛海蛟
- 国际申请： PCT/JP2018/033328 2018.09.07
- 国际公布： WO2019/054311 JA 2019.03.21
- 进入国家日期： 2020-03-12
- 主分类号： G03F7/039
- IPC分类号： G03F7/039 ; G03F7/20 ; G03F7/004
摘要：
本发明供一种感光化射线性或感放射线性树脂组合物、使用了感光化射线性或感放射线性的抗蚀剂膜、图案形成方法及电子器件的制造方法，该感光化射线性或感放射线性树脂组合物含有树脂(A)且用于形成膜厚为2μm以上的膜，上述树脂(A)包含具有酸性基团的重复单元及具有酸分解性基团的重复单元，上述具有酸性基团的重复单元的含量相对于上述树脂(A)中的所有重复单元为15摩尔％以上，上述具有酸分解性基团的重复单元的含量相对于上述树脂(A)中的所有重复单元大于20摩尔％，上述树脂(A)的玻璃化转变温度为145℃以下。
公开/授权文献:
- CN111095105A 感光化射线性或感放射线性树脂组合物、抗蚀剂膜、图案形成方法及电子器件的制造方法 公开/授权日：2020-05-01