基本信息:
- 专利标题： 电镀过程中监测籽晶层上的表面氧化物
- 申请号：CN201880031649.6 申请日：2018-03-29
- 公开(公告)号：CN110622288B 公开(公告)日：2023-12-01
- 发明人： 黄璐丹 , 李·J·布罗根 , 泰伊·A·斯柏林 , 尚蒂纳特·古艾迪 , 乔纳森·大卫·里德 , 马尼什·兰詹 , 布赖恩·彭宁顿 , 克利福德·雷蒙德·拜里
- 申请人： 朗姆研究公司
- 申请人地址： 美国加利福尼亚州
- 专利权人： 朗姆研究公司
- 当前专利权人： 朗姆研究公司
- 当前专利权人地址： 美国加利福尼亚州
- 代理机构： 上海胜康律师事务所
- 代理人： 李献忠; 张静
- 优先权： 15/475,022 2017.03.30 US
- 国际申请： PCT/US2018/025265 2018.03.29
- 国际公布： WO2018/183755 EN 2018.10.04
- 进入国家日期： 2019-11-13
- 主分类号： H01L21/66
- IPC分类号： H01L21/66 ; H01L21/288
摘要：
描述了用于确定衬底是否包括在该衬底的表面上的不可接受的大量氧化物的方法和设备。所述衬底通常是要电镀的衬底。该确定可以在电镀工艺的初始部分期间直接在电镀装置中进行。该确定可以包括将衬底浸入具有在浸入期间或浸入之后立即提供的特定施加的电压或施加的电流的电解质中，并记录在同一时间范围内的电流响应或电压响应。施加的电流或施加的电压可以为零或非零。通过将电流响应或电压响应与阈值电流、阈值电压或阈值时间进行比较，可以确定衬底是否包含在其表面上的不可接受的大量氧化物。可以基于校准程序来选择阈值电流、阈值电压和/或阈值时间。
公开/授权文献:
- CN110622288A 电镀过程中监测籽晶层上的表面氧化物 公开/授权日：2019-12-27
IPC结构图谱:
| H | 电学 |
| --H01 | 基本电气元件 |
| ----H01L | 半导体器件；其他类目未包含的电固体器件 |
| ------H01L21/00 | 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备 |
| --------H01L21/66 | .在制造或处理过程中的测试或测量 |