基本信息:
- 专利标题： 电镀过程中监测籽晶层上的表面氧化物
- 专利标题（英）：MONITORING SURFACE OXIDE ON SEED LAYERS DURING ELECTROPLATING
- 申请号：CN201880031649.6 申请日：2018-03-29
- 公开(公告)号：CN110622288A 公开(公告)日：2019-12-27
- 发明人： 黄璐丹 , 李·J·布罗根 , 泰伊·A·斯柏林 , 尚蒂纳特·古艾迪 , 乔纳森·大卫·里德 , 马尼什·兰詹 , 布赖恩·彭宁顿 , 克利福德·雷蒙德·拜里
- 申请人： 朗姆研究公司
- 申请人地址： 美国加利福尼亚州
- 专利权人： 朗姆研究公司
- 当前专利权人： 朗姆研究公司
- 当前专利权人地址： 美国加利福尼亚州
- 代理机构： 上海胜康律师事务所
- 代理人： 李献忠; 张静
- 优先权： 15/475,022 2017.03.30 US
- 国际申请： PCT/US2018/025265 2018.03.29
- 国际公布： WO2018/183755 EN 2018.10.04
- 进入国家日期： 2019-11-13
- 主分类号： H01L21/66
- IPC分类号： H01L21/66 ; H01L21/288
Methods and apparatus for determining whether a substrate includes an unacceptably high amount of oxide on its surface are described. The substrate is typically a substrate that is to be electroplated. The determination may be made directly in an electroplating apparatus, during an initial portion of an electroplating process. The determination may involve immersing the substrate in electrolyte with a particular applied voltage or applied current provided during or soon after immersion, and recording a current response or voltage response over this same timeframe. The applied current or applied voltage may be zero or non-zero. By comparing the current response or voltage response to a threshold current, threshold voltage, or threshold time, it can be determined whether the substrate included an unacceptably high amount of oxide on its surface. The threshold current, threshold voltage, and/or threshold time may be selected based on a calibration procedure.
公开/授权文献:
- CN110622288B 电镀过程中监测籽晶层上的表面氧化物 公开/授权日：2023-12-01
IPC结构图谱:
| H | 电学 |
| --H01 | 基本电气元件 |
| ----H01L | 半导体器件；其他类目未包含的电固体器件 |
| ------H01L21/00 | 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备 |
| --------H01L21/66 | .在制造或处理过程中的测试或测量 |