![一种精抛棉及其制备方法](/CN/2018/1/312/images/201811564755.jpg)
基本信息:
- 专利标题: 一种精抛棉及其制备方法
- 申请号:CN201811564755.9 申请日:2018-12-20
- 公开(公告)号:CN109434675A 公开(公告)日:2019-03-08
- 发明人: 卞振伟 , 方红 , 杨伟
- 申请人: 东莞金太阳研磨股份有限公司
- 申请人地址: 广东省东莞市大岭山镇大环路东66号
- 专利权人: 东莞金太阳研磨股份有限公司
- 当前专利权人: 东莞金太阳研磨股份有限公司
- 当前专利权人地址: 广东省东莞市大岭山镇大环路东66号
- 代理机构: 东莞市华南专利商标事务所有限公司
- 代理人: 赵超群
- 主分类号: B24B37/11
- IPC分类号: B24B37/11 ; B24D3/00 ; B24D3/28 ; B24D11/00 ; B24D11/02 ; B24D18/00
摘要:
本发明涉及磨具技术领域,具体涉及一种精抛棉及其制备方法,其结构包括依次复合的海绵层、基布层和研磨层,所述基布层靠近研磨层的一侧设有用于增加基布层和研磨层之间的附着力的粘结层,所述研磨层包括树脂基体、粘附于树脂基体上的多个用于研磨抛光的主研磨单元和多个用于协助主研磨单元进行研磨抛光的辅研磨单元,所述主研磨单元呈锥形,所述主研磨单元的尖端凸出树脂基体的上表面,所述主研磨单元凸出树脂基体的端部高于所述辅研磨单元凸出树脂基体的端部,所述基布层由多条经线和多条纬线交织而成,所述经线包括设于纬线上方的多个施胶部,所述粘结层设于施胶部上,所述研磨层设于粘结层上,研磨时磨料消耗速度慢,研磨抛光效果好。
公开/授权文献:
- CN109434675B 一种精抛棉及其制备方法 公开/授权日:2024-07-23
IPC结构图谱:
B | 作业;运输 |
--B24 | 磨削;抛光 |
----B24B | 用于磨削或抛光的机床、装置或工艺;磨具磨损表面的修理或调节;磨削,抛光剂或研磨剂的进给 |
------B24B37/00 | 研磨机床或装置,即需要在相对软但仍为刚性的研具和被研磨表面之间加入粉末状磨料;及其附件 |
--------B24B37/11 | .研具 |