基本信息:
- 专利标题： 一种采用石英环光学镀膜材料改善高反膜微缺陷的方法
- 申请号：CN201710515223.5 申请日：2017-06-29
- 公开(公告)号：CN109207934B 公开(公告)日：2020-09-18
- 发明人： 杨勇 , 马云峰 , 杨莉莉 , 魏玉全 , 刘学建 , 黄政仁
- 申请人： 中国科学院上海硅酸盐研究所
- 申请人地址： 上海市长宁区定西路1295号
- 专利权人： 中国科学院上海硅酸盐研究所
- 当前专利权人： 中国科学院上海硅酸盐研究所
- 当前专利权人地址： 上海市长宁区定西路1295号
- 代理机构： 上海瀚桥专利代理事务所
- 代理人： 曹芳玲; 郑优丽
- 主分类号： C23C14/30
- IPC分类号： C23C14/30 ; C23C14/10 ; C23C14/08
摘要：
本发明涉及一种采用石英环光学镀膜材料改善高反膜微缺陷的方法，在真空镀膜过程中使用经预熔制得的石英镀膜材料进行镀膜；将石英素坯先在700～800℃下预熔120～150分钟，再于1000～1200℃下煅烧120～180分钟，得到所述石英镀膜材料。本发明的特点是，相较于之前使用的石英颗粒膜料，这种石英环光学镀膜材料的使用有效地抑制了镀膜过程SiO2膜料脱离靶源飞向衬底造成膜表面出现节瘤缺陷。
公开/授权文献:
- CN109207934A 一种采用石英环光学镀膜材料改善高反膜微缺陷的方法 公开/授权日：2019-01-15