![中子辐射屏蔽透明材料及其制造方法](/CN/1992/1/2/images/92113357.jpg)
基本信息:
- 专利标题: 中子辐射屏蔽透明材料及其制造方法
- 专利标题(英):Neutron radiation shielded transparent material and its making method
- 申请号:CN92113357.X 申请日:1992-11-28
- 公开(公告)号:CN1087441A 公开(公告)日:1994-06-01
- 发明人: 段谨源 , 张兴祥 , 于俊林 , 王学晨 , 金剑
- 申请人: 天津纺织工学院
- 申请人地址: 天津市河东区程林庄道63号
- 专利权人: 天津纺织工学院
- 当前专利权人: 天津纺织工学院
- 当前专利权人地址: 天津市河东区程林庄道63号
- 代理机构: 天津市专利事务所
- 代理人: 杨忠民
- 主分类号: G21F1/10
- IPC分类号: G21F1/10
摘要:
中子辐射屏蔽透明材料由具有一般式(见结构式),其中R1为氢或甲基,R2为2—3个碳原子的烷基,R3为4—8个碳原子的烷基的含硼活性硼酸酯均聚物或是以含硼活性硼酸酯为一种单体与甲基丙烯酸烷基酯或苯乙烯中任意一种为另一种单体共聚而成的含硼量为0.5—4%(重量),最好为2—3%(重量)的共聚物。
摘要(英):
The present invention relates to a neutron radiation shield transparent material. It is a boron-containing active boracic ester homopolymer whose structure is of the general formula (ref. to its structure formula) in which R1 is hydrogen or methyl, R2 is alkyl with 2-3 carbon atoms and R3 is alkyl with 4-8 carbon atoms or is a copolymer whose boron content is 0.5-4% (by weight), optimum is 2-3% (by weight) and is copolymerized by using boron-containing active boracic ester as one monomer and any one of methacrylic acid, alkyl ester or phenylethylene as another monomer.
公开/授权文献:
- CN1032832C 中子辐射屏蔽透明材料及其制造方法 公开/授权日:1996-09-18
IPC结构图谱:
G | 物理 |
--G21 | 核物理;核工程 |
----G21F | X射线,γ射线、微粒射线或粒子轰击的防护;处理放射性污染材料;及其去污染装置 |
------G21F1/00 | 以材料组分为特征的防护物 |
--------G21F1/02 | .均匀的防护材料的选择 |
----------G21F1/10 | ..有机物质,在有机载体中的弥散 |