![半导体装置及其制造方法](/CN/2018/1/110/images/201810553143.jpg)
基本信息:
- 专利标题: 半导体装置及其制造方法
- 专利标题(英):Semiconductor device and manufacturing method thereof
- 申请号:CN201810553143.3 申请日:2018-06-01
- 公开(公告)号:CN108682679A 公开(公告)日:2018-10-19
- 发明人: 龙海凤 , 李天慧 , 黄晓橹 , 柯天麒
- 申请人: 德淮半导体有限公司
- 申请人地址: 江苏省淮安市淮阴区长江东路599号
- 专利权人: 德淮半导体有限公司
- 当前专利权人: 淮安西德工业设计有限公司
- 当前专利权人地址: 223001 江苏省淮安市淮阴区钱江路南侧、市振达钢管公司东侧6幢318室
- 代理机构: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所
- 代理人: 魏小薇
- 主分类号: H01L27/146
- IPC分类号: H01L27/146
摘要:
本公开涉及半导体装置及其制造方法。一种半导体装置,包括:衬底;在衬底上的滤色元件;以及在相邻滤色元件之间的隔离结构;其中,隔离结构包括邻近滤色元件的第一隔离体以及位于第一隔离体之间的第二隔离体,第一隔离体和第二隔离体中的相邻隔离体之间具有间隙。
摘要(英):
The invention relates to a semiconductor device and a manufacturing method thereof. The semiconductor device comprises a substrate; color filtering elements on the substrate; and an isolating structure between the adjacent color filtering elements, wherein the insulating structure comprises first isolators which are adjacent with the color filtering elements and a second isolator between the firstisolators. A clearance exists between the adjacent isolators in the first isolators and the second isolator.
公开/授权文献:
- CN108682679B 半导体装置及其制造方法 公开/授权日:2020-07-14
IPC结构图谱:
H | 电学 |
--H01 | 基本电气元件 |
----H01L | 半导体器件;其他类目未包含的电固体器件 |
------H01L27/00 | 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件 |
--------H01L27/02 | .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的 |
----------H01L27/144 | ..由辐射控制的器件 |
------------H01L27/146 | ...图像结构 |