基本信息:
- 专利标题： 离子铣削装置以及离子铣削方法
- 申请号：CN201680077769.0 申请日：2016-02-26
- 公开(公告)号：CN108475608B 公开(公告)日：2021-07-09
- 发明人： 岩谷彻 , 高须久幸 , 高堀荣
- 申请人： 株式会社日立高新技术
- 申请人地址： 日本东京都
- 专利权人： 株式会社日立高新技术
- 当前专利权人： 株式会社日立高新技术
- 当前专利权人地址： 日本东京都
- 代理机构： 北京银龙知识产权代理有限公司
- 代理人： 金成哲; 宋春华
- 国际申请： PCT/JP2016/055868 2016.02.26
- 国际公布： WO2017/145371 JA 2017.08.31
- 进入国家日期： 2018-07-03
- 主分类号： H01J37/30
- IPC分类号： H01J37/30 ; H01J37/20
摘要：
本发明提供一种加工技术，其能够抑制在加工面产生再沉积的可能性，并且获得所需的加工内容。为了解决该问题，根据本发明的离子铣削装置具有：离子源(1)，其发出离子束；试样保持部，其保持试样；以及试样滑动移动机构(70)，其使试样保持部沿包括离子束的轴的法线方向成分的方向滑动移动。
公开/授权文献:
- CN108475608A 离子铣削装置以及离子铣削方法 公开/授权日：2018-08-31
IPC结构图谱:
| H | 电学 |
| --H01 | 基本电气元件 |
| ----H01J | 放电管或放电灯 |
| ------H01J37/00 | 有把物质或材料引入使受到放电作用的结构的电子管,如为了对其检验或加工的 |
| --------H01J37/30 | .物体局部处理用的电子束管或离子束管 |