基本信息:
- 专利标题： 确定污染层厚或材料种类的方法、光学元件和EUV光刻系统
- 申请号：CN201710236373.2 申请日：2017-04-12
- 公开(公告)号：CN107388976B 公开(公告)日：2022-02-11
- 发明人： I.阿门特 , M.贝克
- 申请人： 卡尔蔡司SMT有限责任公司
- 申请人地址： 德国上科亨
- 专利权人： 卡尔蔡司SMT有限责任公司
- 当前专利权人： 卡尔蔡司SMT有限责任公司
- 当前专利权人地址： 德国上科亨
- 代理机构： 北京市柳沈律师事务所
- 代理人： 侯宇
- 优先权： 102016206088.0 20160412 DE
- 主分类号： G01B11/06
- IPC分类号： G01B11/06 ; G01N21/41
摘要：
本发明涉及一种用于确定光学系统中的表面(7)处、尤其在EUV光刻系统(101)中的表面(7)处的污染层(13)的厚度(d1,d2)和/或污染材料的种类的方法，该方法包括：用测量射线(10)来照射在其处形成有等离激元纳米颗粒(8a,b)的表面(7)，检测在所述等离激元纳米颗粒(8a,b)处散射的测量射线(10a)，以及借助所检测到的测量射线(10a)来确定污染层(13)的厚度(d1,d2)和/或污染材料的种类。本发明还涉及一种用于反射EUV射线(4)的光学元件(1)以及一种EUV光刻系统。
公开/授权文献:
- CN107388976A 确定污染层厚或材料种类的方法、光学元件和EUV光刻系统 公开/授权日：2017-11-24
IPC结构图谱:
| G | 物理 |
| --G01 | 测量；测试 |
| ----G01B | 长度、厚度或类似线性尺寸的计量；角度的计量；面积的计量；不规则的表面或轮廓的计量 |
| ------G01B11/00 | 以采用光学方法为特征的计量设备 |
| --------G01B11/02 | .用于计量长度、宽度或厚度 |
| ----------G01B11/06 | ..用于计量厚度 |