基本信息:
- 专利标题： 用于衬底的等离子体处理的方法和装置
- 申请号：CN201480078566.4 申请日：2014-05-09
- 公开(公告)号：CN107078013B 公开(公告)日：2019-06-21
- 发明人： T.格林斯纳 , C.弗勒特根 , J.伯瑙尔 , T.瓦根莱特纳 , T.韦泽 , F.施密德 , T.普拉赫 , R.安岑格鲁贝尔 , A.诺内斯 , U.克里比施
- 申请人： EV , 集团 , E·索尔纳有限责任公司
- 申请人地址： 奥地利圣弗洛里安
- 专利权人： EV,集团,E·索尔纳有限责任公司
- 当前专利权人： EV,集团,E·索尔纳有限责任公司
- 当前专利权人地址： 奥地利圣弗洛里安
- 代理机构： 中国专利代理(香港)有限公司
- 代理人： 吴晟; 刘春元
- 国际申请： PCT/EP2014/059524 2014.05.09
- 国际公布： WO2015/169385 DE 2015.11.12
- 进入国家日期： 2016-10-28
- 主分类号： H01J37/32
- IPC分类号： H01J37/32 ; H01L21/687
摘要：
本发明涉及一种装置，其用于将至少一个衬底(7)施加以等离子体，该装置具有第一电极(1)和可与该第一电极相对布置的第二电极(12)，该电极构造成在该电极(1、12)之间产生该离子体，其特征在于，该电极(1、12)中的至少一个由至少两个电极单元(2、3)形成。此外，本发明涉及相应方法。
摘要（英）：
A device for bombarding at least one substrate with a plasma with a first electrode fiend a second electrode that can be arranged opposite thereto, which electrodes are formed together producing the plasma between the electrodes wherein at least one of the electrodes is formed from at least two electrode units. In addition, this invention relates to a corresponding method.
公开/授权文献:
- CN107078013A 用于衬底的等离子体处理的方法和装置 公开/授权日：2017-08-18