基本信息:
- 专利标题： CVD反应器的进气机构
- 申请号：CN201280033705.2 申请日：2012-07-05
- 公开(公告)号：CN103649369B 公开(公告)日：2015-12-02
- 发明人： H.席尔瓦 , N.朱奥尔特 , V.塞韦尔 , F.克劳利 , M.道尔斯伯格 , J.林德纳
- 申请人： 艾克斯特朗欧洲公司
- 申请人地址： 德国黑措根拉特
- 专利权人： 艾克斯特朗欧洲公司
- 当前专利权人： 艾克斯特朗欧洲公司
- 当前专利权人地址： 德国黑措根拉特
- 代理机构： 北京市柳沈律师事务所
- 代理人： 侯宇
- 优先权： 102011051778.2 2011.07.12 DE; 102011056589.2 2011.12.19 DE
- 国际申请： PCT/EP2012/063072 2012.07.05
- 国际公布： WO2013/007580 DE 2013.01.17
- 进入国家日期： 2014-01-07
- 主分类号： C23C16/455
- IPC分类号： C23C16/455 ; C30B25/14 ; C23C16/30
摘要：
本发明涉及一种CVD反应器的进气机构(2)，其具有进气壳体，进气壳体具有至少一个可由第一输送管(21)输送第一处理气体的第一气体分配腔(5)，第一气体分配腔(5)具有多个分别设计为管件的气体管道(8)，气体管道(8)伸入安置于进气壳体壁(10)前方的排气板(14)的第一开口(16)内，并且第一处理气体通过气体管道(8)进入设置于排气板(14)下方的处理室内，并且进气机构(2)还具有设置在进气壳体壁(10)和排气板(14)之间的间隔空间(20)。设置有与进气壳体壁(10)邻接的冷却剂室(7)，冷却剂可被送入冷却剂室(7)内，用于冷却进气壳体壁(10)以及与被冷却的进气壳体壁(10)传热连接的气体管道(8)的管口(8')，其中，排气板(14)与进气壳体壁(10)之间不传热，从而使得受到来自于处理室(22)的热辐射的排气板(14)相比于伸入到排气板(14)的开口(16)内的管口(8')被更大程度地加热。
公开/授权文献:
- CN103649369A CVD反应器的进气机构 公开/授权日：2014-03-19