基本信息:
- 专利标题： 光敏酚醛清漆树脂和包含其的正性光敏树脂组合物
- 专利标题（英）：Photosensitive novolac resin, positive photosensitive resin composition including same
- 申请号：CN201210287599.2 申请日：2012-08-13
- 公开(公告)号：CN103186039A 公开(公告)日：2013-07-03
- 发明人： 李种和 , 赵显龙 , 郑闵鞠 , 郑知英 , 车明焕
- 申请人： 第一毛织株式会社
- 申请人地址： 韩国庆尚北道
- 专利权人： 第一毛织株式会社
- 当前专利权人： 第一毛织株式会社
- 当前专利权人地址： 韩国庆尚北道
- 代理机构： 北京康信知识产权代理有限责任公司
- 代理人： 李丙林; 王玉桂
- 优先权： 10-2011-0146190 2011.12.29 KR
- 主分类号： G03F7/004
- IPC分类号： G03F7/004 ; G03F7/039 ; C08G8/30 ; G03F7/09 ; H01L23/29
摘要：
本发明公开了一种光敏酚醛清漆树脂和包含其的正性光敏树脂组合物。所述光敏酚醛清漆树脂包含由下列化学式1表示的结构单元和由下列化学式2表示的结构单元。此外，本发明还涉及使用正性光敏树脂组合物制造的光敏树脂膜；以及包含所述光敏树脂组合物的半导体装置。 在化学式1和2中，R11、R12、R13和R14与具体实施方式中所定义的相同。
摘要（英）：
Disclosed is a photosensitive novolac resin including a structural unit represented by the following Chemical Formula 1 and structural unit represented by the following Chemical Formula 2, wherein R<11>, R<12>, R<13>, and R<14> in Chemical Formulae 1 and 2 are the same as defined in the detailed description, a positive photosensitive resin composition including the same, a photosensitive resin film fabricated using the same, and a semiconductor device including the photosensitive resin composition.
公开/授权文献:
- CN103186039B 光敏酚醛清漆树脂和包含其的正性光敏树脂组合物 公开/授权日：2015-04-15