基本信息:
- 专利标题： 双层涂布的负性光致抗蚀干膜
- 专利标题（英）：Double coating negative photoresist dry film
- 申请号：CN201210308978.5 申请日：2012-08-27
- 公开(公告)号：CN102799070B 公开(公告)日：2014-03-05
- 发明人： 陆德凯 , 杨卫国 , 董岩
- 申请人： 珠海市能动科技光学产业有限公司
- 申请人地址： 广东省珠海市高栏港经济区口岸大厦312房
- 专利权人： 珠海市能动科技光学产业有限公司
- 当前专利权人： 珠海市能动科技光学产业有限公司
- 当前专利权人地址： 广东省珠海市高栏港经济区口岸大厦312房
- 代理机构： 上海天翔知识产权代理有限公司
- 代理人： 黄静
- 主分类号： G03F7/11
- IPC分类号： G03F7/11 ; G03F7/09 ; G03F7/004 ; G03F7/033
摘要：
本发明提供了一种应用于印刷线路板的双层涂布的负性光致抗蚀干膜，包括载体薄膜、覆盖薄膜、光阻剂层及中间保护层，其特征在于：中间保护层位于载体薄膜及光阻剂层之间,是无色透明的，在光阻剂层的显影液中可溶解，与光阻剂层及载体薄膜具有良好的粘着力，但其与光阻剂层的粘着力要大于其与载体薄膜的粘着力的聚乙烯醇或含有羧基的高分子聚合物；光阻剂层的组份中含有高分子粘合剂、光游离基引发剂、可加聚单体、热聚合抑制剂,为进一步改善性能,还可以添加其它组分,如增塑剂、染料、增粘剂等。可以降低了载体薄膜的成本，使光阻干膜的解析度得以提高。
公开/授权文献:
- CN102799070A 双层涂布的负性光致抗蚀干膜 公开/授权日：2012-11-28