![压电薄膜元件及压电薄膜设备](/CN/2011/8/1/images/201180009228.jpg)
基本信息:
- 专利标题: 压电薄膜元件及压电薄膜设备
- 专利标题(英):Piezoelectric thin film element, and piezoelectric thin film device
- 申请号:CN201180009228.1 申请日:2011-02-15
- 公开(公告)号:CN102754232A 公开(公告)日:2012-10-24
- 发明人: 末永和史 , 柴田宪治 , 渡边和俊 , 野本明
- 申请人: 日立电线株式会社
- 申请人地址: 日本东京都
- 专利权人: 日立电线株式会社
- 当前专利权人: 住友化学株式会社
- 当前专利权人地址: 日本东京都
- 代理机构: 北京集佳知识产权代理有限公司
- 代理人: 金世煜; 苗堃
- 优先权: 2010-031289 2010.02.16 JP
- 国际申请: PCT/JP2011/053097 2011.02.15
- 国际公布: WO2011/102329 JA 2011.08.25
- 进入国家日期: 2012-08-06
- 主分类号: H01L41/187
- IPC分类号: H01L41/187 ; H01L41/09 ; H01L41/18 ; H01L41/22
摘要:
本发明提供能够实现压电特性的提高、并具有高性能、且能够实现制造成品率的提高的压电薄膜元件及压电薄膜设备。压电薄膜元件(1)具备基板(10)和压电薄膜(40),所述压电薄膜(40)设在基板(10)上,具有用通式(NaxKyLiz)NbO3(0≤x≤1,0≤y≤1,0≤z≤0.2,x+y+z=1)表示、选自近似立方晶、正方晶、及斜方晶中的至少一种晶体结构,含有以质量比计为80ppm以下的非活性气体元素。
摘要(英):
Disclosed are a piezoelectric thin film element and a piezoelectric thin film device which have improved piezoelectric properties and high performance and can be produced in improved yields. The piezoelectric thin film element (1) comprises: a substrate (10); and a piezoelectric thin film (40) which is arranged on the substrate (10), has at least one crystal structure represented by general formula (NaxKyLiz)NbO3 (0<=x<=1, 0<=y<=1, 0<=z<=0.2, x+y+z=1) and selected from the group consisting of a pseudo-cubic crystal, a hexagonal crystal and an orthorhombic crystal, and contains an inert gas element at a ratio of 80 ppm or less by mass.
公开/授权文献:
- CN102754232B 压电薄膜元件及压电薄膜设备 公开/授权日:2014-10-22
IPC结构图谱:
H | 电学 |
--H04 | 电通信技术 |
----H04R | 扬声器、送话器、唱机拾音器或类似的传感器 |
------H01L41/16 | .材料的选择 |
--------H01L41/18 | ..用于压电器件或电致伸缩器件的 |
----------H01L41/187 | ...陶瓷合成物 |