基本信息:
- 专利标题： 用于辐射吸收度测量的装置及其校准方法
- 专利标题（英）：Device for radiation absorption measurements and method for calibration thereof
- 申请号：CN200980162144.4 申请日：2009-10-28
- 公开(公告)号：CN102575982B 公开(公告)日：2014-12-31
- 发明人： 斯万特·瓦林 , 列夫·尤内鄂斯
- 申请人： 奥普斯公司
- 申请人地址： 瑞典富鲁隆德
- 专利权人： 奥普斯公司
- 当前专利权人： 奥普斯公司
- 当前专利权人地址： 瑞典富鲁隆德
- 代理机构： 北京安信方达知识产权代理有限公司
- 代理人： 苏蕾; 郑霞
- 国际申请： PCT/EP2009/064227 2009.10.28
- 国际公布： WO2011/050841 EN 2011.05.05
- 进入国家日期： 2012-04-25
- 主分类号： G01N21/31
- IPC分类号： G01N21/31
摘要：
在此说明了一种用于辐射吸收度测量的装置以及一种用于校准这种装置的方法。这种装置包括一个辐射源(4，16)，该辐射源发射具有在0.2μm到20μm的区间内的波长的电磁辐射；一个检测所述电磁辐射的检测器(2)；当处于一种测量模式时，在到达所述检测器之前，所述辐射的至少一部分已经穿过一种介质并且在离所述辐射源(4，16)一段距离处已经被一个表面(5)反射。该装置的特征在于，所述装置进一步包括一个流体校准单元(8)，这个流体校准单元被适配为安排在所述辐射源(4，16)与所述检测器(2)之间的电磁辐射的路径中。这种用于校准辐射吸收度测量装置的方法包括以下步骤：发射具有在0.2μm到20μm的区间内的波长的电磁辐射，引导所述电磁辐射的至少一部分穿过一个流体校准单元(8)并且检测所述电磁辐射。
公开/授权文献:
- CN102575982A 用于辐射吸收度测量的装置及其校准方法 公开/授权日：2012-07-11
IPC结构图谱:
| G | 物理 |
| --G01 | 测量；测试 |
| ----G01N | 借助于测定材料的化学或物理性质来测试或分析材料 |
| ------G01N21/00 | 利用光学手段，即利用红外光、可见光或紫外光来测试或分析材料 |
| --------G01N21/01 | .便于进行光学测试的装置或仪器 |
| ----------G01N21/21 | ..影响偏振的性质 |
| ------------G01N21/31 | ...测试材料在特定元素或分子的特征波长下的相对效应，例如原子吸收光谱术 |