基本信息:
- 专利标题： 光致抗蚀剂组合物
- 专利标题（英）：Photoresist compositions
- 申请号：CN200710096933.5 申请日：2007-04-19
- 公开(公告)号：CN101071266A 公开(公告)日：2007-11-14
- 发明人： 金东敏 , 金柄郁 , 朴大然 , 金周赫 , 崔基植 , 金贞元 , 李起范 , 卞哲基 , 金纹秀 , 金炳厚 , 边滋勋 , 申在浩
- 申请人： 株式会社东进世美肯
- 申请人地址： 韩国仁川市
- 专利权人： 株式会社东进世美肯
- 当前专利权人： 株式会社东进世美肯
- 当前专利权人地址： 韩国仁川市
- 代理机构： 北京金信立方知识产权代理有限公司
- 代理人： 朱梅; 徐志明
- 优先权： 10－2006－0041088 2006.05.08 KR
- 主分类号： G03F7/016
- IPC分类号： G03F7/016 ; G03F7/004
摘要：
本发明涉及一种适于制造液晶显示装置的电路、半导体集成电路等微细电路的光致抗蚀剂组合物，具体涉及一种包含由下述化学式1表示的酚醛清漆树脂、重氮类感光性化合物、有机溶剂的光致抗蚀剂组合物。上述化学式1中，R表示氢、羟基或甲基，n是3至20的整数。本发明的光致抗蚀剂组合物，由于加入了酚醛清漆树脂，具有优异的耐热性及分辨率，且可提高图案均匀性。所述酚醛清漆树脂由芳香族醇聚合而成，所述芳香族醇包含间甲酚、对甲酚、间苯二酚。