会员体验
专利管家(专利管理)
工作空间(专利管理)
风险监控(情报监控)
数据分析(专利分析)
侵权分析(诉讼无效)
联系我们
交流群
官方交流:
QQ群: 891211   
微信请扫码    >>>
现在联系顾问~
热词
    • 8. 发明申请
    • VERFAHREN ZUM HERSTELLEN EINES PASSIVEN ELEKTRONISCHEN BAUELEMENTS, VERFAHREN ZUM HERSTELLEN EINER OPTOELEKTRONISCHEN BAUGRUPPE UND PASSIVES ELEKTRONISCHES BAUELEMENT
    • 一种用于生产无源电子元件,方法制造光电组件和无源电子元件
    • WO2014048639A1
    • 2014-04-03
    • PCT/EP2013/067348
    • 2013-08-20
    • OSRAM OPTO SEMICONDUCTORS GMBH
    • INGLE, Andrew
    • H01L27/01H01L23/522H01L49/02H01G4/33H01G4/005
    • H01L27/3225H01G4/005H01G4/33H01L27/016H01L27/0682H01L28/20H01L28/40H01L28/60H01L51/56
    • In verschiedenen Ausführungsbeispielen wird ein Verfahren zum Herstellen eines passiven elektronischen Bauelements bereitgestellt. Dabei wird eine erste elektrisch leitfähige Schicht (12) auf einem Substrat (10) ausgebildet. Eine zweite elektrisch leitfähige Schicht (14) wird auf der ersten elektrisch leitfähigen Schicht (12) ausgebildet. In der ersten und zweiten elektrisch leitfähigen Schicht (12, 14) wird ein erster Graben (24) so ausgebildet, dass das Substrat (10) in dem ersten Graben (24) frei gelegt ist, wobei der erste Graben (24) einen ersten Kontaktbereich (16) von einem zweiten Kontaktbereich (18) abgrenzt. Ein Dielektrikum (28) wird derart strukturiert auf die zweite elektrisch leitfähige Schicht (14) in dem ersten Kontaktbereich (16) und zumindest teilweise auf das Substrat (10) in dem ersten Graben (24) aufgebracht, dass das Dielektrikum (28) den ersten Kontaktbereich (16) gegenüber dem zweiten Kontaktbereich (18) elektrisch isoliert. Eine elektrisch leitfähige Elektrodenschicht (38) wird über dem ersten Kontaktbereich (16) auf das Dielektrikum (28) und auf den zweiten Kontaktbereich (18) strukturiert aufgebracht.
    • 在各种实施方案中,提供了一种制造无源电子元件的方法。 形成在基板(10)上形成第一导电层(12)。 第二导电层(14)形成在第一导电层(12)上。 在形成为使得在所述第一沟槽中的所述衬底(10)(24)被覆盖在第一和第二导电层(12,14),一个第一沟槽(24),其中,所述第一沟槽(24)包括第一接触部分 (16)从第二接触区域(18)分隔开。 电介质(28)在第一接触区域(16)中的第二导电层(14)上这样的方式被构造,并且至少部分(10),以在所述第一沟槽(24)在基板施加使得电介质(28),所述第一 第二接触区域(18)相对的接触区域(16)电绝缘。 过在电介质(28)的第一接触区域(16)和所述第二接触区域(18),被构造的方式的导电电极层(38)。
    • 9. 发明申请
    • TECHNIQUE FOR STABLE PROCESSING OF THIN/FRAGILE SUBSTRATES
    • 用于稳定处理薄/弱基材的技术
    • WO2007127925B1
    • 2008-12-18
    • PCT/US2007067640
    • 2007-04-27
    • ICEMOS TECHNOLOGY CORPWILSON ROBINBROGAN CONORGRIFFIN HUGH JMACNAMARA CORMAC
    • WILSON ROBINBROGAN CONORGRIFFIN HUGH JMACNAMARA CORMAC
    • H01L27/01H01L27/12H01L31/0392
    • H01L21/78
    • A semiconductor on insulator (SOI) wafer includes a semiconductor substrate having first and second main surfaces opposite to each other. A dielectric layer is disposed on at least a portion of the first main surface of the semiconductor substrate. A device layer has a first main surface and a second main surface. The second main surface of the device layer is disposed on a surface of the dielectric layer opposite to the semiconductor substrate. A plurality of intended die areas are defined on the first main surface of the device layer. The plurality of intended die areas are separated from one another. A plurality of die access trenches are formed in the semiconductor substrate from the second main surface. Each of the plurality of die access trenches are disposed generally beneath at least a respective one of the plurality of intended die areas.
    • 绝缘体上半导体(SOI)晶片包括具有彼此相对的第一和第二主表面的半导体衬底。 电介质层设置在半导体衬底的第一主表面的至少一部分上。 器件层具有第一主表面和第二主表面。 器件层的第二主表面设置在与半导体衬底相对的电介质层的表面上。 在装置层的第一主表面上限定多个预期的模具区域。 多个预期的模具区域彼此分离。 多个裸片存取沟槽从第二主表面形成在半导体衬底中。 多个管芯存取沟槽中的每一个通常设置在多个预期管芯区域中的至少一个相应的一个的下方。