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    • 1. 发明申请
    • 遷移金属化合物及びオレフィン系重合体の製造方法
    • WO2020050226A1
    • 2020-03-12
    • PCT/JP2019/034464
    • 2019-09-02
    • 出光興産株式会社
    • 岡本 卓治
    • C08F4/6192C07F17/00C08F4/44C08F12/00
    • 下記一般式(I)で表される周期律表第3~10族又はランタノイド系列の遷移金属化合物。 (式(I)中、A 1 、A 2 はそれぞれ独立に下記一般式(II)で表される架橋基を示し、それらは互いに同一でも異なっていてもよい。Xはσ結合性又はπ結合性の配位子を示し、Xが複数ある場合には複数のXは同じでも異なっていてもよい。Yはルイス塩基を示しYが複数ある場合、複数のYは同一でも異なっていてもよい。また、Yは他のYやXと架橋していてもよい。qは1~5の整数で[(Mの原子価)-2]を示し、rは0~3の整数である。Mは周期律表第3~10族又はランタノイド系列の金属元素である。nは0~4の整数であり、mは0~4の整数である。複数のRは同一でも異なっていてもよい。)(式(II)中、EはC、Si、Ge、Snを示し、R 1 及びR 2 はそれぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、炭素数1~20の炭化水素基又は炭素数1~20のハロゲン化炭化水素基でそれらは互いに同一でも異なっていてもよく、また互いに結合して環を形成していてもよい。eは1~4の整数を示す。)
    • 6. 发明申请
    • スチレン系重合体及びその製造方法
    • 苯乙烯聚合物及其制备方法
    • WO2011086926A1
    • 2011-07-21
    • PCT/JP2011/000137
    • 2011-01-13
    • 日本曹達株式会社高橋 栄治
    • 高橋 栄治
    • C08F112/06C08F4/44
    • C08F12/08C08F8/12C08F12/22C08F2/38C08F112/14
    • 数平均分子量が2000以下であり、かつ分散度が1.01~1.10というような、低数平均分子量かつ狭分散度のスチレン系重合体を製造する方法を提供することである。そのため、エーテル基含有溶媒を含む溶媒中において、式〔II〕(式中、R 1 は、水素原子、アルキル基、又はフェニル基を表し、R 2 は、アルキル基を表し、R 3 は、アルキル基、又はアルコキシ基を表し、nが2以上の場合、同一又は相異なっていてもよい。nは0~5の整数を表す。)で表される重合開始剤と、式〔III〕 (R 8 ) m M 〔III〕 (式中、R 8 は、アルキル基又はアリール基を表し、mが2以上の場合、R 8 は同一又は相異なっていてもよく、Mは、長周期型周期律表第2族、第12族又は第13族に属する原子を表し、mはMの原子価を表す。)で表される有機金属化合物と、有機カリウム化合物の存在下、-10℃以上溶媒の沸点以下の温度で、スチレン系単量体を重合する。
    • 本发明提供数均分子量为2000以下,分散性为1.01〜1.10的低分子量低分子量苯乙烯聚合物的制造方法。 为了制造所述苯乙烯聚合物,苯乙烯单体在含有有机溶剂的溶剂中,在有机钾化合物的存在下,在-10℃至溶剂的沸点之间的温度下聚合, 与式(II)表示的聚合引发剂(其中R1表示氢原子,烷基或苯基; R2表示烷基; R3表示烷基或烷氧基; n表示 0和5;如果n为2以上,则R3可以相同或不同)和由式(III)表示的有机金属化合物(其中,R 8表示烷基或芳基; M表示 长方形周期表的第二,第十二或第十三组的原子; m表示原子M的化合价;如果m为2以上,则R8可以相同也可以不同。 (II)(III)(R8)m M
    • 8. 发明申请
    • ENERGY EFFICIENT SYNTHESIS OF BORANES
    • 能量有效地合成硼
    • WO2007092601A3
    • 2007-11-22
    • PCT/US2007003511
    • 2007-02-08
    • LOS ALAMOS NAT SECURITY LLCTHORN DAVID LTUMAS WILLIAMSCHWARZ DANIEL EBURRELL ANTHONY K
    • THORN DAVID LTUMAS WILLIAMSCHWARZ DANIEL EBURRELL ANTHONY K
    • C08F4/44C08F4/00C08F4/14
    • C01B6/15C01B6/19C01B35/061
    • The reaction of halo-boron compounds (B-X compounds, compounds having one or more boron-halogen bonds) with silanes provides boranes (B-H compounds, compounds having one or more B-H bonds) and halosilanes. Inorganic hydrides, such as surface-bound silane hydrides (Si-H) react with B-X compounds to form B-H compounds and surface-bound halosilanes. The surface bound halosilanes are converted back to surface- bound silanes electrochemically. Halo-boron compounds react with stannanes (tin compounds having a Sn-H bond) to form boranes and halostannanes (tin compounds having a Sn-X bond). The halostannanes are converted back to stannanes electrochemically or by the thermolysis of Sn-formate compounds. When the halo-boron compound is BCI 3 , the B-H compound is B 2 H 6 , and where the reducing potential is provided electrochemically or by the thermolysis of formate.
    • 卤代硼化合物(B-X化合物,具有一个或多个硼 - 卤键的化合物)与硅烷的反应提供硼烷(B-H化合物,具有一个或多个B-H键的化合物)和卤代硅烷。 无机氢化物,例如表面结合的硅烷氢化物(Si-H)与B-X化合物反应以形成B-H化合物和表面结合的卤代硅烷。 表面结合的卤代硅烷通过电化学转化回表面结合的硅烷。 卤代硼化合物与锡烷(具有Sn-H键的锡化合物)反应形成硼烷和卤代烷(具有Sn-X键的锡化合物)。 卤代烷腈通过电化学方法或通过Sn-甲酸酯化合物的热解转化回锡烷。 当卤代硼化合物是BCI 3 N时,BH化合物是B 2 H 6 N,并且其中还原电位是电化学或由 甲酸盐的热解。