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1. 发明申请

WO2021114068A1 一种航空发动机钛合金零件TiN涂层制备方法审中-公开
公开(公告)号：WO2021114068A1
公开(公告)日：2021-06-17
申请号：PCT/CN2019/124208
申请日：2019-12-10
申请人：中国航发贵州黎阳航空动力有限公司
发明人：王悦欣 , 敖斌 , 李昌 , 郭向民 , 杨斌 , 桂培培
IPC分类号： C23C8/36 , C23C8/04 , C23C14/04 , C23C14/02 , C23C14/06
摘要：本发明公开了一种航空发动机钛合金零件TiN涂层制备方法，零件待喷涂表面加工到最终尺寸后，吹砂、清洗零件，将零件放入夹具，夹具内部尺寸与零件外部尺寸相同，拧紧螺钉，将装好夹具的零件放入离子氮化炉中，按参数先在基体表面生成一层富含TiN、Ti2N的底层，以提高多层膜与基体之间的结合强度，然后将装好夹具的零件放入沉积设备中，按参数进行刻蚀，然后沉积TiN涂层。本发明的涂层制备方法控制了钛合金零件的变形、减少了涂层工艺周期、增加了零件耐磨性。

2. 发明申请

WO2019114060A1 电极板及其表面处理方法审中-公开
公开(公告)号：WO2019114060A1
公开(公告)日：2019-06-20
申请号：PCT/CN2018/071431
申请日：2018-01-04
申请人：武汉华星光电半导体显示技术有限公司
发明人：邢升阳
IPC分类号： C23C8/36 , C23C8/02 , C23C16/505
摘要：一种电极板（10）及其表面处理方法。电极板（10）的表面处理方法首先采用退火工艺对电极板（10）进行处理，在镁铝合金材料层（11）表面形成一层镁薄膜（12），然后使镁薄膜（12）与氟离子发生化学反应，在镁薄膜（12）的表层生成氟化镁薄膜（13），或者将整个镁薄膜（12）转化为氟化镁薄膜（13）。电极板（10）表面设有氟化镁薄膜（13），所述氟化镁薄膜（13）能够作为保护层对镁铝合金材料层（11）进行保护，因此所述电极板（10）具有优异的耐氟离子腐蚀性能，能够提高化学气相沉积成膜质量。

3. 发明申请

WO2018188686A1 CARBONITRIEREN VON SPANLOS HERGESTELLTEN WÄLZLAGERN 审中-公开
公开(公告)号：WO2018188686A1
公开(公告)日：2018-10-18
申请号：PCT/DE2018/100230
申请日：2018-03-15
申请人： SCHAEFFLER TECHNOLOGIES AG & CO. KG
发明人： LACHNIT, Sven , KRUPPA, Martin
IPC分类号： C21D9/40 , C23C8/26 , C23C8/32 , C23C8/36 , F16C33/64
CPC分类号： C21D9/40 , C21D1/06 , C21D1/74 , C23C8/26 , C23C8/32 , C23C8/36 , F16C33/64 , F16C2220/40 , F16C2223/16 , F16C2240/06
摘要： Spanlos hergestelltes Wälzlager mit einem Außenring und/oder Innenring, der eine durch wenigstens eine Maßnahme zur Eindiffusion eines Elements in oberflächennahe Bereiche des Wälzlagers gebildete Randschicht aufweist, wobei die Randschicht des Außenrings und/oder Innenrings Stickstoff umfasst. Ferner betrifft die Erfindung Verfahren zur Herstellung eines spanlos hergestellten Wälzlagers und/oder zur Steigerung der Verschleißfestigkeit eines spanlos hergestellten Wälzlagers mit einer Stickstoff enthaltenden Randschicht.

4. 发明申请

WO2014170022A1 VERFAHREN UND VORRICHTUNG FÜR DAS THERMOCHEMISCHE HÄRTEN VON WERKSTÜCKEN 审中-公开
标题翻译：方法和设备的热化学硬化工件
公开(公告)号：WO2014170022A1
公开(公告)日：2014-10-23
申请号：PCT/EP2014/001017
申请日：2014-04-15
申请人： ALD VACUUM TECHNOLOGIES GMBH
发明人： HEUER, Volker , LÖSER, Klaus
IPC分类号： C23C8/36 , C23C8/34 , C21D9/67 , C21D9/00
CPC分类号： C23C8/30 , C21D1/06 , C21D9/0062 , C23C8/34 , C23C8/36 , H01J37/3244 , H01J37/32458 , H01J37/32899 , H01J2237/332
摘要： In einem Verfahren und einer Vorrichtung für das thermochemische Härten von Werkstücken werden in variabler Reihenfolge: ein oder mehrere Aufkohl-Schritte, jeweils in einer kohlenstoffhaltigen Gasatmosphäre mit einem Druck von kleiner 50 mbar, wobei die Werkstücke auf Temperaturen von 900 bis 1050 °C gehalten werden; gegebenenfalls ein oder mehrere Diffusions-Schritte, jeweils in einer Gasatmosphäre mit einem Druck von kleiner 100 mbar; und ein oder mehrere Aufstick-Schritte, jeweils in einem stickstoffhaltigen Entladungsplasma mit einem Druck von kleiner 50 mbar, wobei die Werkstücke auf Temperaturen von 800 bis 1050 °C gehalten werden; ausgeführt.
摘要翻译：在一种方法和用于工件的热化学硬化的装置是在一个可变序列：一个或更多个渗碳步骤，每个步骤在小于50毫巴的压力，其中，所述工件被保持在900温度下，以1050℃的含碳气体的气氛 ; 任选一种或多种扩散步骤，在具有小于100毫巴的压力下的气体气氛每种情况下; 和一个或多个氮化步骤，每个步骤在低于50毫巴的压力，其中所述工件保持在800温度下，以1050℃的含氮等离子体放电; 执行。

5. 发明申请

WO2013150639A1 硬化層形成装置审中-公开
标题翻译：硬化层形成装置
公开(公告)号：WO2013150639A1
公开(公告)日：2013-10-10
申请号：PCT/JP2012/059398
申请日：2012-04-05
申请人：株式会社東亜精機工作所 , 國友熱工株式会社 , カインド・ヒート・テクノロジー株式会社 , 平田ネジ株式会社 , 高橋良政 , 坪田輝一 , 種岡一男
发明人：高橋　良政 , 坪田　輝一 , 種岡　一男
IPC分类号： C23C8/36
CPC分类号： C23C8/36 , H01J37/32027 , H01J2237/3385 , H01J2237/3387
摘要：　炭素ガスおよび窒素ガスのうちの少なくともいずれか一方のガスを導入する真空チャンバ（２）と、真空チャンバ（２）内に配置され、小物部品を複数個収容可能な容器（３）とを備え、容器（３）に陰極電圧を印加するパルスＤＣ電源（４）と、容器（３）の近傍に設けられたヒータ（５）と、容器（３）を駆動させる駆動装置（６）と、真空チャンバ（２）内にガスを供給するガス供給装置（７）と、真空チャンバ（２）内の圧力を制御する圧力制御装置（７１）とを有し、容器（３）は導電性材料で形成され、陰極電圧を印加された容器（３）がグロー放電中に可動陰極として作用することにより、小物部品の表面全体に均一な厚さの硬化層を形成する。
摘要翻译：本发明装备有引入碳气和/或氮气的真空室（2）和布置在真空室（2）中并能够容纳多个小部件的容器（3）。另外，本发明具有向容器（3）施加阳极电压的脉冲直流电源（4）。设置在容器（3）附近的加热器（5）; 驱动所述容器（3）的驱动装置（6）; 向所述真空室（2）的内部供给气体的气体供给装置（7）; 以及控制真空室（2）内的压力的压力控制装置（71）。容器（3）由导电材料形成，并且通过使用在辉光放电期间已经施加阳极电压的容器（3）作为可移动阳极，在小部件的整个表面上形成硬化层，均匀的厚度。

6. 发明申请

WO2013111744A1 被覆部材およびその製造方法审中-公开
标题翻译：涂覆部件及其制造方法
公开(公告)号：WO2013111744A1
公开(公告)日：2013-08-01
申请号：PCT/JP2013/051184
申请日：2013-01-22
申请人：株式会社豊田中央研究所
发明人：太刀川　英男 , 鈴木　憲一 , 北原　学 , 五十嵐　新太郎 , 八木　祐介 , 関　純太郎
IPC分类号： C23C8/36 , C22C19/00 , C23C28/00
CPC分类号： C22C19/00 , C23C8/02 , C23C8/36
摘要：　従来なかった新規なＮｉ系被膜を有する被覆部材を提供する。本発明の被覆部材は、基材と、この基材の表面に被着され、少なくともＮを含むニッケル合金からなる多孔質層を有するニッケル系被膜と、からなることを特徴とする。この被覆部材は、基材の表面にＮｉを含むＮｉ系めっき層を形成するめっき工程と、Ｎｉ系めっき層にプラズマを供給するプラズマ工程とを経て得られる。Ｎｉ系被膜を構成する多孔質層は、数十～数百ｎｍ程度の微細な空孔を多数有するため、潤滑油の保持性に優れる。その結果、その表面において高い摺動性を発揮する。また、多孔質層による投錨効果により、Ｎｉ系被膜上にも高密着性のＤＬＣ膜等を形成し得る。なお、プラズマ工程により、多孔質層が形成されるのみならず、基材まで窒化され得る。
摘要翻译：提供具有新型非常规Ni基涂层的涂层构件。本发明的被覆构件的特征在于，由基材和镍基涂膜构成，所述基材和镍基涂膜粘附到基材的表面，并且具有由至少含有N的镍合金形成的多孔层。通过电镀步骤获得涂覆部件，其中在基底的表面上形成含有Ni的Ni基镀层和其中将等离子体供应到Ni基镀层的等离子体步骤。由于构成Ni系涂膜的多孔层具有多个尺寸为数十〜数百nm的细孔，所以Ni系涂膜具有优异的润滑剂保持性。结果，Ni系涂膜在表面具有优异的滑动性。此外，由于多孔层的锚固效果，可以在Ni基涂膜上形成高粘合性DLC膜等。此外，不仅形成多孔层，而且可以通过等离子体步骤对基底进行氮化。

7. 发明申请

WO2012123530A1 BESCHICHTUNG SOWIE VERFAHREN UND VORRICHTUNG ZUM BESCHICHTEN 审中-公开
标题翻译：涂料和方法及装置COATING
公开(公告)号：WO2012123530A1
公开(公告)日：2012-09-20
申请号：PCT/EP2012/054530
申请日：2012-03-15
申请人： REINHAUSEN PLASMA GMBH , ECKART GMBH , BISGES, Michael , WOLFRUM, Christian , GREB, Marco , RUPPRECHT, Markus
发明人： BISGES, Michael , WOLFRUM, Christian , GREB, Marco , RUPPRECHT, Markus
IPC分类号： C23C4/12 , C23C8/36 , B05B7/22 , H05H1/26
CPC分类号： C23C16/50 , B05B7/1404 , B05B7/226 , C23C4/12 , C23C4/134 , C23C8/36 , C23C16/06 , H05H1/34 , H05H1/42 , H05H1/48 , Y10T428/256 , Y10T428/257
摘要： Es ist ein Verfahren und eine Vorrichtung zum Aufbringen einer Beschichtung auf ein Substrat (20) offenbart. Bei dem durch Hindurchleiten eines Arbeitsgases (3) durch eine Anregungszone wird ein Plasmastrahl (2) eines Niedertemperaturplasmas erzeugt. Der Plasmastrahl wird auf das Substrat (20) gerichtet und in den Plasmastrahl (2) werden plättchenförmige Partikel (10) mit einer mittleren Dicke (H) zwischen 10 und 50.000 Nanometer und einem Formfaktor (F) in dem Wertebereich von 10 bis 2000 eingespeist. Die Einspeisung in den Plasmastrahl (2) erfolgt mit Hilfe eines Trägergases (14). Der Plasmastrahl (2) wird durch Anregung des Arbeitsgases (3) mittels einer Wechselspannung oder einer gepulsten Gleichspannung erzeugt.
摘要翻译：它是用于将涂层施加到基材上的方法和设备（20）中被公开。在其中通过使工作气体（3）通过一个激发区，（2）低温等离子体中产生的等离子流。等离子体射流被引导到衬底（20）并进入到等离子体射流（2）是具有的平均厚度（H）10-50000纳米和10中的值范围内的纵横比（F），以第2000张纸薄片状粒子（10）进料入等离子体射流（2）由载气（14）来实现的。等离子体射流（2）是由工作气体（3）的激励由交流电压或脉冲直流电压的装置产生。

8. 发明申请

WO2012105641A1 プラズマ処理装置审中-公开
标题翻译：等离子体加工装置
公开(公告)号：WO2012105641A1
公开(公告)日：2012-08-09
申请号：PCT/JP2012/052361
申请日：2012-02-02
申请人：株式会社IHI , 株式会社IHI機械システム , 勝俣和彦
发明人：勝俣　和彦
IPC分类号： C23C8/36 , C21D1/09 , C21D1/773 , F27D11/08
CPC分类号： C23C16/448 , C21D1/09 , C21D1/38 , C21D1/773 , F27B5/04 , F27B5/06 , F27D7/06
摘要：　真空炉（１）内部にて金属材料からなる被処理物（Ｘ）に対してプラズマによる表面改質を行うプラズマ処理装置（Ｓ１）であって、プラズマ処理装置（Ｓ１）は、真空炉（１）内部にて移動可能とされた可動式給電装置（１４，１５）を備える。
摘要翻译：该等离子体处理装置（S1）在真空炉（1）内通过等离子体对包含金属材料的被处理物品（X）进行表面改性，其中，移动供电装置（14），15）可以在真空炉（1）内移动。

9. 发明申请

WO2011114775A1 軟窒化用鋼、並びに軟窒化鋼部品及びその製造方法审中-公开
标题翻译：用于硝化的钢，硝基化组分及其生产方法
公开(公告)号：WO2011114775A1
公开(公告)日：2011-09-22
申请号：PCT/JP2011/051329
申请日：2011-01-25
申请人：新日本製鐵株式会社 , 久保田学
发明人：久保田　学
IPC分类号： C22C38/00 , C21D1/06 , C21D9/28 , C21D9/32 , C21D9/40 , C22C38/60 , C23C8/32 , C23C8/36 , C23C8/56
CPC分类号： C22C38/50 , C21D1/06 , C21D1/28 , C21D9/28 , C21D9/32 , C21D9/40 , C21D2211/004 , C21D2211/005 , C22C38/001 , C22C38/004 , C22C38/02 , C22C38/04 , C22C38/06 , C22C38/12 , C22C38/14 , C22C38/28 , C22C38/42 , C23C8/24 , C23C8/26 , C23C8/32 , C23C8/48 , C23C8/74
摘要：　この軟窒化用鋼は、質量％で、Ｃ：０％以上かつ０．１５％未満、Ｓｉ：０．０１～１．００％、Ｍｎ：０．０１～１．００％、Ｓ：０．０００１～０．０５０％、Ａｌ：０．０００１～０．０５０％、Ｔｉ：０．５０％超かつ１．５０％以下、Ｎ：０．０００５～０．０１００％を含有し、残部がＦｅ及び不可避的不純物からなり、Ｐ：０．０５０％以下、Ｏ：０．００６０％以下に制限し、かつＴｉ量［Ｔｉ％］と、Ｃ量［Ｃ％］と、Ｎ量［Ｎ％］と、Ｓ量［Ｓ％］とが、０．４８＜［Ｔｉ％］－４７．９×（［Ｃ％］／１２＋［Ｎ％］／１４＋[Ｓ％]／３２）≦１．２０を満足する。
摘要翻译：所公开的用于氮碳共渗的钢包括以质量％计小于0.15％C，0.01-1.00％Si，0.01-1.00％Mn，0.0001-0.050％S，0.0001-050％Al，大于0.50但不大于1 0.5％Ti和0.0005-0.0100％N，其余为Fe和不可避免的杂质，其中P含量至多为0.050％，O含量限制在0.0060％以下，Ti含量[ Ti％]，C含量[C％]，N含量[N％]和S含量[S％]满足式0.48 [[Ti％] -47.9×（[C％] / 12 + ] / 14 + [S％] / 32）= 1.20。

10. 发明申请

WO2009125803A1 成膜装置及び成膜方法审中-公开
标题翻译：膜沉积装置和膜沉积方法
公开(公告)号：WO2009125803A1
公开(公告)日：2009-10-15
申请号：PCT/JP2009/057228
申请日：2009-04-08
申请人：株式会社アルバック , 山本治彦 , 国分健二郎
发明人：山本治彦 , 国分健二郎
IPC分类号： C23C28/00 , C23C8/36 , C23C16/06
CPC分类号： G02B1/10 , B05D1/002 , B05D1/60 , B05D3/108 , B05D5/083 , C23C8/36 , C23C14/0078 , C23C14/568 , C23C14/5853 , C23C28/00 , C23C28/04 , G02B1/105 , G02B1/18
摘要：　酸化物膜上に形成する撥液膜の機械的耐性を向上させた成膜装置（１０）。成膜装置（１０）は、真空槽（１１）内で回転される基板に向けて粒子を放出することにより前記基板上に被酸化物膜を形成し、前記被酸化物膜に向けて酸素プラズマを照射することにより前記基板上に酸化物膜を形成する酸化物膜形成部（１４，１５，１６）と、加水分解性の重縮合基と撥液基とを有するシランカップリング剤を前記酸化物膜上に蒸着する蒸着部（１７）と、前記回転される基板上の前記酸化物膜に向けて水を供給することにより前記シランカップリング剤を重縮合させる重縮合部（２０）とを備える。前記重縮合部は、前記蒸着部が酸化物膜上にシランカップリング剤を蒸着する前に、酸化物膜上に水を供給する。
摘要翻译：可以在氧化膜上形成具有改善的机械阻力的疏液膜的成膜装置（10）。成膜装置（10）配备有：向真空容器（11）内旋转的基板发射粒子的氧化膜形成部（14,15,16），从而在基板上形成可氧化物质的膜并将氧等离子体喷射到可氧化物质膜上，从而在基板上形成氧化膜; 将具有可水解缩合反应性基团和拒液基团的硅烷偶联剂气相沉积在氧化物膜上的蒸镀部分（17）和向被旋转的基板上形成的氧化膜供水的缩聚部（20），由此将硅烷偶联剂进行缩聚。在气相沉积部分将硅烷偶联剂沉积在氧化物膜上之前，缩聚部分将水供应到氧化膜的表面。

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