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    • 1. 发明申请
    • DIREKTBELICHTUNGSEINRICHTUNG ZUR DIREKTBELICHTUNG VON LÖTSTOPPLACKEN IN 2-DIMENSIONALER, KURZZEITTEMPERIERTER UMGEBUNG
    • 直接暴露于二维短时环境中的焊接工具的暴露装置
    • WO2017125560A1
    • 2017-07-27
    • PCT/EP2017/051209
    • 2017-01-20
    • LIMATA GMBH
    • NAGEL, Matthias
    • H05K3/00G03F7/20H05K3/06
    • H05K3/0082G03F7/2053H05K3/064H05K2203/0505H05K2203/107H05K2203/108
    • Die vorliegende Erfindung betrifft allgemein eine Belichtungseinrichtung, insbesondere eine Belichtungseinrichtung (20) zum Belichten und Strukturiereneines mit einem Lötstopplack beschichteten Substrats, sowie das entsprechende Verfahren zur Belichtung mit der erfindungsgemäßen Belichtungseinrichtung (20). Insbesondere betrifft die Erfindung eine Belichtungseinrichtung (20) mit mindestens einem Lichtstrahl (51), der vorzugsweise von zwei oder mehreren Laserstrahlen (51) unterschiedlicher UV-Wellenlänge gebildet wird, der durch eine veränderbare Ablenkeinrichtung (30) relativ zum Substrat (100) abgelenkt wird, um Strukturen auf dem Substrat (100) zu erzeugen. Insbesondere wird dem Lichtstrahl (51) eine räumlich begrenzte, hochenergetische vorzugsweise extern gelagerte Wärmequelle (10) räumlich in der Bildebene (40) und zeitlich in der Belichtung überlagert,wobei vorzugsweise Infrarotlaserdioden mit Zeilenformoptiken verwendet werden.
    • 本发明总体上涉及一种曝光装置,特别是一种曝光装置(20)用于曝光,并用L&ouml图案之一; tstopplack涂覆的基底,以及用于与本发明曝光AUML相应的方法,及;大街; S曝光装置(20 )。 特别地,本发明涉及一种曝光装置(20)与至少一个光束(51),优选不同的UV波长的两个或更多的激光束(51)的长度是由一个版本&AUML形成BEAR; nderbare偏转器(30)(相对于基板 100)偏转以在衬底(100)上形成结构。 特别地,该光束(51)是一个RÄ在空间上的限制,高能量优选外部安装WÄ辐射热源(10)R AUML;在空间上在图像平面(40)和在时间上的曝光导航用途叠加,优选红外激光二极管与线状光学用的“。 / p>

    • 5. 发明申请
    • タッチセンサの製造方法
    • 制造触摸传感器的方法
    • WO2016194474A1
    • 2016-12-08
    • PCT/JP2016/061527
    • 2016-04-08
    • 日本写真印刷株式会社
    • 面 了明橋本 孝夫西村 剛
    • G06F3/041G06F3/044H05K3/06
    • G06F3/044G03F7/20G06F3/0416G06F2203/04103H05K3/0023H05K3/06H05K3/064H05K3/22H05K2203/0307
    • 【課題】 引き回し回路パターンを基材フィルムの両面に同時に加工することが出来、表裏面の引き回し回路パターンの位置合わせ精度に優れた、タッチセンサの製造方法を提供する。 【解決手段】 支持フィルムと、該支持フィルム上に設けられ導電性繊維を含有する導電層と、該導電層上に設けられた第2感光性樹脂層とを備える感光性導電フィルムを用い、両面同時露光及び現像して、基材フィルムの両面に電極パターンを形成するタッチセンサの製造方法において、 あらかじめ基材フィルムの両面に、遮光性金属層をパターン化してなる引き回し回路パターンを形成しておくことを特徴とする。
    • 提供一种用于制造触摸传感器的方法,使得可以在基膜的两侧同时形成布线电路图案,同时实现前表面和后表面上的布线电路图案的良好的定位精度。 [解决方案]一种触摸传感器的制造方法,其中通过使用包括支撑膜的感光导电膜,导电纤维 - 纤维素膜等在两侧同时曝光和显影而在基膜的两侧上形成电极图案, 设置在所述支撑膜上的含有导电层的第二感光性树脂层和配置在所述导电层上的第二感光性树脂层。 该方法的特征在于,预先在基膜的两侧形成有由图案化的遮光金属层构成的布线电路图案。
    • 6. 发明申请
    • 配線基板およびその設計方法
    • 接线板及其设计方法
    • WO2016117320A1
    • 2016-07-28
    • PCT/JP2016/000205
    • 2016-01-15
    • 日本電気株式会社
    • 柏倉 和弘
    • H05K3/46H05K1/02
    • H05K1/0298H05K1/0237H05K1/024H05K1/0245H05K1/0248H05K1/0366H05K3/064H05K2201/0187H05K2201/0195
    • [課題]設計の自由度を確保しつつ、差動信号配線を構成する2本の信号配線間の遅延量の差を抑制することが可能な配線基板を得る。 [解決手段]配線基板を、第1の絶縁層1と、第1の信号配線2と、第2の信号配線3を備える構成とする。第1の絶縁層1は、第1の方向に長軸を有し第1の間隔で略平行に並んだ繊維4と、第1の方向の繊維4の間を満たすように充てんされた絶縁材5を備えている。第1の信号配線2は、第1の絶縁層1上に第1の方向と略平行に形成されている。第2の信号配線3は、第1の信号配線2と平行に、第1の信号配線2との間隔が第1の間隔の略整数倍となるように形成され、第1の信号配線2で伝送される信号の差動信号を伝送する。
    • [问题]在确保设计自由的同时,获得能够抑制构成差分信号线对的两条信号线之间的延迟量差异的布线板。 [解决方案]布线板包括第一绝缘层1,第一信号线2和第二信号线3.第一绝缘层1设置有沿第一方向具有长轴并基本上平行于一个的纤维4 另一个具有第一间隔,以及绝缘材料5,其填充在第一方向上延伸的纤维之间的间隙。 第一信号线2形成在第一绝缘层1上,基本上平行于第一方向。 第二信号线3以与第一信号线2的间隔大致为第一间隔的整数倍的方式与第一信号线2平行地形成,并且第二信号线发送发送的信号的差分信号 在第一信号线2上。
    • 9. 发明申请
    • VERFAHREN ZUM KONTAKTIEREN EINES IN EINE LEITERPLATTE EINGEBETTETEN BAUELEMENTS SOWIE LEITERPLATTE
    • 方法用于接触在一块电路板上和嵌入式器件的电路板
    • WO2015127489A1
    • 2015-09-03
    • PCT/AT2015/050052
    • 2015-02-26
    • AT&S AUSTRIA TECHNOLOGIE & SYSTEMTECHNIK AKTIENGESELLSCHAFT
    • WEIDINGER, GeraldZLUC, Andreas
    • H05K1/18H05K3/10H01L23/538
    • H05K1/188H01L23/13H01L23/5389H01L24/19H01L24/20H01L2224/04105H01L2224/24227H01L2224/32225H01L2224/73267H01L2224/92244H01L2924/15153H05K3/064H05K3/108H05K3/30H05K2201/10674
    • Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Kontaktieren eines in eine Leiterplatte (13) eingebetteten Bauelements (6), welches die folgenden Schritte aufweist: a) Bereitstellen eines Cores (1), das zumindest eine Isolierschicht (2) und zumindest eine auf der Isolierschicht (2) aufgebrachte Leiterschicht (3, 4) aufweist, b) Einbetten zumindest eines Bauelements (6) in eine Vertiefung (5) der Isolierschicht (2), wobei die Anschlüsse (8) des Bauelements (6) im Wesentlichen in der Ebene einer die zumindest eine Leiterschicht (4) aufweisenden Außenfläche des Cores (1) liegen, c) Aufbringen eines photostrukturierbaren Lacks (9) auf die eine Außenfläche des Cores (1), an der das Bauelement (6) angeordnet ist, unter Ausfüllen der Räume zwischen den Anschlüssen (8) des Bauelements (6), d) Freilegen von Stirnflächen der Anschlüsse (8) und der von dem photostrukturierbaren Lack (9) bedeckten Gebiete der Leiterschicht (4) durch Belichten und Entwickeln des photostrukturierbaren Lacks (9), e) durch Anwenden eines semi-additiven Prozesses Ablagern einer Schicht (10) von Leitermaterial auf den freigelegten Stirnflächen der Anschlüsse (8) sowie den freigelegten Gebieten der Leiterschicht (4) und Bilden einer Leiterstruktur (12-12) zumindest auf der einen Außenfläche des Cores (1), an der das Bauelement (6) angeordnet ist, sowie der Verbindungsleitungen (11) zwischen den Anschlüssen (8) und der Leiterstruktur (12-12) und f) Entfernen der nicht zur Leiterstruktur (12-12) gehörenden Bereiche der Leiterschicht (4+10).
    • 本发明涉及一种方法,用于在印刷电路板接触(13)嵌入的装置(6),包括以下步骤:a)提供一个芯体(1),所述至少一个绝缘层(2)和至少一个(在绝缘层2上 )施加导体层(3,4),b)中嵌入至少一个部件(6)插入的凹部(5)的绝缘层(2)的,所述端子(8)的部件(6)基本上是在至少所述平面 导体层(4)包括芯(1)的外表面的位置,c)将光可成像抗蚀剂(9)在芯的外表面上(1),在其上的组分(6)设置,下端子之间的空间的填充 (8)覆盖所述部件(6),所述端子(8)和D)的露出端面(可光致成像曝光和显影的光致结构的清漆(9)的抗蚀剂9)的导体层(4)的区域, (E)通过将半添加过程中,对端子(8)和所述导体层4的暴露区域的露出端面沉积导电材料层(10))和对中的所述一个的外表面中形成至少一个半导体结构(12-12) 芯(1),在其上的组分(6)设置,并且端子(8)和该导体结构(12-12)之间的连接线(11)和f)除去所述非(该导体结构12-12)属于区域 导体层(4 + 10)。