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1. 发明申请

WO2007032779A2 APPARATUS AND METHOD FOR INSPECTION AND TESTING OF FLAT PANEL DISPLAY SUBSTRATES 审中-公开
标题翻译：用于检查和测试平板显示基板的装置和方法
公开(公告)号：WO2007032779A2
公开(公告)日：2007-03-22
申请号：PCT/US2006/011381
申请日：2006-03-28
申请人： MULTIBEAM SYSTEMS, INC.
发明人： PARKER, William, N.
IPC分类号： H01J3/14
CPC分类号： H01J37/256 , H01J9/42 , H01J37/09 , H01J37/147 , H01J37/244 , H01J2237/0492 , H01J2237/1501 , H01J2237/162 , H01J2237/188 , H01J2237/24475 , H01J2237/2448 , H01J2237/2594 , H01J2237/2817
摘要： A charged particle optical system for testing, imaging or inspecting substrates comprises: a charged particle optical assembly configured to produce a line of charged particle beams equally spaced along a main scan axis, each beam being deflectable through a large angle along the main scan axis; and linear detector optics aligned along the main scan axis. The detector optics includes a linear secondary electron detector, a field free tube, voltage contrast plates and a linear backscattered electron detector. The large beam deflection is achieved using an electrostatic deflector for which the exit aperture is larger than the entrance aperture. One embodiment of the deflector includes: two parallel plates with chamfered inner surfaces disposed perpendicularly to the main scan axis; and a multiplicity of electrodes positioned peripherally in the gap between the plates, the electrodes being configured to maintain a uniform electric field transverse to the main scan axis.
摘要翻译：用于测试，成像或检查基板的带电粒子光学系统包括：带电粒子光学组件，被配置为产生沿着主扫描轴等距间隔的带电粒子束线，每个束可沿主扫描轴线偏转大角度; 以及沿主扫描轴对准的线性检测器光学元件。检测器光学器件包括线性二次电子检测器，无磁场管，电压对比板和线性背散射电子检测器。使用静电偏转器实现大的光束偏转，出射孔大于入射孔。偏转器的一个实施例包括：具有与主扫描轴垂直设置的倒角内表面的两个平行板; 以及多个电极位于板之间的间隙周边，电极被配置为保持横向于主扫描轴的均匀电场。

2. 发明申请

WO2011121875A1 電子ビーム照射方法、及び走査電子顕微鏡审中-公开
标题翻译：电子束辐照法和扫描电子显微镜
公开(公告)号：WO2011121875A1
公开(公告)日：2011-10-06
申请号：PCT/JP2011/000706
申请日：2011-02-09
申请人：株式会社日立ハイテクノロジーズ , 横須賀俊之 , 山崎実 , 数見秀之 , 田子一農
发明人：横須賀　俊之 , 山崎　実 , 数見　秀之 , 田子　一農
IPC分类号： H01J37/22 , H01J37/147 , H01J37/20 , H01J37/28
CPC分类号： H01J37/28 , H01J37/026 , H01J37/266 , H01J37/268 , H01J2237/0048 , H01J2237/24564 , H01J2237/2594
摘要：本発明は、試料（１００９）の予備照射領域（１１０１）に電子ビーム（１００３）を予備照射した後に、前記試料の観察領域（１１０２）に前記電子ビームを照射して観察を行う走査電子顕微鏡において、前記予備照射領域を複数の領域（１１０３）に分割し、（ａ）前記各分割領域に含まれるパターンの密集度、（ｂ）各前記分割領域に含まれるパターンを形成する材料の種類、に基づき、前記各分割領域に対する電子ビームの予備照射条件を決定することを特徴とする。この際、予備照射領域内の各分割領域における帯電の差異を抑制するような予備照射条件が算出される。これにより、（ａ）予備照射領域内のパターンの密集度が位置によって異なる場合、（ｂ）予備照射領域内に異なる複数の材質が含まれている場合、にも試料の帯電の不均一さを抑制することが可能となった。
摘要翻译：提供了一种扫描电子显微镜，其中通过将电子束（1003）预先给予样品（1009）的预给料区域（1101），然后将电子束照射到观察区域（1102）上进行观察），并且其中所述预给料区域被分成多个区域（1103），并且基于（a）密度来确定每个所述分割区域的电子束（1003）的预给料条件每个划分区域中包含的图案的类型，和（b）形成每个分割区域中的图案的材料的类型。在这种情况下，计算预给料条件以减轻给药前区域内分开区域之间的通电差异。即使（a）根据其中的位置，在预给料区域内的图案浓度变化时，也能够减轻样品内的起电不均匀性，以及（b）预给料区域中包含多种不同的材料。

3. 发明申请

WO0159807A9 IN-SITU PROBE FOR OPTIMIZING ELECTRON BEAM INSPECTION AND METROLOGY BASED ON SURFACE POTENTIAL 审中-公开
标题翻译：基于表面电位优化电子束检测和计量的现场探测
公开(公告)号：WO0159807A9
公开(公告)日：2002-10-31
申请号：PCT/US0104041
申请日：2001-02-07
申请人： KLA TENCOR CORP , MCCORD MARK A , LAUBER JAN , PEI JUN , FERNANDEZ JORGE P
发明人： MCCORD MARK A , LAUBER JAN , PEI JUN , FERNANDEZ JORGE P
IPC分类号： G01Q40/02 , H01J37/28 , H01J37/304 , H01J37/02 , H01J37/26
CPC分类号： H01J37/28 , H01J2237/004 , H01J2237/2594 , H01J2237/2814 , H01J2237/2817
摘要： Disclosed is a method and apparatus for generating an image from a sample using a charged particle beam. The apparatus further includes a measurement device (228) arranged to measure a characteristic of the sample portion to obtain a surface voltage value of the sample portion that is exposed to the charged particle beam. For example, the measurement device is an electrostatic voltmeter positioned to obtain a surface voltage value of the exposed sample portion. A charged particle beam is directed substantially towards a portion of the sample under a first set of operating conditions. A surface charge value of the sample portion is obtained under the first set of operating conditions. It is then determined whether an optimum set of operating conditions associated with a predetermined surface charge value have been found. When the optimum conditions have not been found, the operating conditions are adjusted and the charged particle beam is directed substantially towards the sample portion. When the optimum conditions have been found, the charged particle beam is directed substantially towards the sample portion under the found optimum operating conditions.
摘要翻译：公开了一种使用带电粒子束从样品生成图像的方法和装置。该装置还包括测量装置（228），其被布置成测量样品部分的特性以获得暴露于带电粒子束的样品部分的表面电压值。例如，测量装置是定位成获得暴露的样品部分的表面电压值的静电电压表。在第一组操作条件下，带电粒子束基本上指向样品的一部分。在第一组操作条件下获得样品部分的表面电荷值。然后确定是否已经找到与预定表面电荷值相关联的最佳操作条件集合。当没有找到最佳条件时，调节操作条件，并且带电粒子束基本上指向样品部分。当已经找到最佳条件时，在找到的最佳操作条件下，带电粒子束基本上指向样品部分。

4. 发明申请

WO2011138853A1 走査電子顕微鏡及び試料観察方法审中-公开
标题翻译：扫描电子显微镜和样品观察方法
公开(公告)号：WO2011138853A1
公开(公告)日：2011-11-10
申请号：PCT/JP2011/002300
申请日：2011-04-20
申请人：株式会社日立ハイテクノロジーズ , 高田哲 , 鈴木直正 , 坂直磨 , 加藤達一
发明人：高田　哲 , 鈴木　直正 , 坂　直磨 , 加藤　達一
IPC分类号： H01J37/22 , H01J37/147 , H01J37/20 , H01J37/28
CPC分类号： H01J37/28 , H01J37/026 , H01J2237/2594 , H01J2237/281 , H01J2237/2815
摘要：本発明の走査電子顕微鏡は、試料（１１０）のプリチャージを行う際に、前記試料に対して複数の入射方向（４０３、４０４）から電子線を入射させることや、プリチャージ照射領域を同心状の複数のリング状領域（８０７、８１３）に分け、前記各リング状領域に対し電子線を走査させることを特徴とする。これにより、コンタクトホール壁面で失われる二次電子が減少してコンタクトホールの底の情報を得ることが可能となるので、プリチャージ時に電子線の傾斜によりコンタクトホール内の帯電が不均一となり、観察が困難となる問題を解決することができるようになった。
摘要翻译：扫描电子显微镜的特征在于，在对样品（100）进行预充电时，电子束从多个入射方向（403,404）进入样品，并且预充电辐射区域被分割形成多个同心环形区域（807,813），并且电子束相对于每个环形区域被扫描。由于这样可减少在接触孔的壁面处损失的二次电子的数量，并且能够获得关于接触孔的底部部分的信息，所以由于接触孔的预充电，接触孔内的带电问题变得不均匀使观察困难的电子束的倾角变得可以解决。

5. 发明申请

WO2007032779A3 APPARATUS AND METHOD FOR INSPECTION AND TESTING OF FLAT PANEL DISPLAY SUBSTRATES 审中-公开
标题翻译：用于检查和测试平板显示基板的装置和方法
公开(公告)号：WO2007032779A3
公开(公告)日：2007-10-11
申请号：PCT/US2006011381
申请日：2006-03-28
申请人： MULTIBEAM SYSTEMS INC
发明人： PARKER WILLIAM N
IPC分类号： H01J37/28 , H01J37/147
CPC分类号： H01J37/256 , H01J9/42 , H01J37/09 , H01J37/147 , H01J37/244 , H01J2237/0492 , H01J2237/1501 , H01J2237/162 , H01J2237/188 , H01J2237/24475 , H01J2237/2448 , H01J2237/2594 , H01J2237/2817
摘要： A charged particle optical system for testing, imaging or inspecting substrates comprises a charged particle optical assembly configure to produce a line of charged particle beams equally spaced along a main scan axis, each beam (2714) being deflectable through a large angle along the main scan axis, and linear detector optics aligned along the main scan axis The detector optics includes a linear secondary electron detector, a field free tube, voltage contrast plates and a linear backscattered electron detector The large beam deflection is achieved using an electrostatic deflector (2713) for which the exit aperture is larger than the entrance aperture One embodiment of the deflector includes two parallel plates (3001, 3005) with chamfered inner surfaces disposed perpendicularly to the main scan axis, and a multiplicity of electrodes (3002, 3003, 3004) positioned peripherally in the gap between the plates, the electrodes being configured to maintain a uniform electric field transverse to the main scan axis.
摘要翻译：用于测试，成像或检查基板的带电粒子光学系统包括被配置为产生沿着主扫描轴等距间隔的带电粒子束线的带电粒子光学组件，每个光束（2714）可沿主扫描偏转大角度轴和线性检测器光学元件沿着主扫描轴对准检测器光学器件包括线性二次电子检测器，无场电子管，电压对比板和线性背散射电子检测器使用静电偏转器（2713）实现大光束偏转其出口孔径大于入口孔径。偏转器的一个实施例包括两个平行板（3001,3005），其具有垂直于主扫描轴线设置的倒角内表面，以及多个沿周向定位的电极（3002,3003,3004）在板之间的间隙中，电极被配置为保持横向t均匀的电场 o主扫描轴。

6. 发明申请

WO2001059807A1 IN-SITU PROBE FOR OPTIMIZING ELECTRON BEAM INSPECTION AND METROLOGY BASED ON SURFACE POTENTIAL 审中-公开
标题翻译：基于表面电位优化电子束检测和计量的现场探测
公开(公告)号：WO2001059807A1
公开(公告)日：2001-08-16
申请号：PCT/US2001/004041
申请日：2001-02-07
申请人： KLA-TENCOR CORPORATION , MCCORD, Mark, A. , LAUBER, Jan , PEI, Jun , FERNANDEZ, Jorge, P.
发明人： MCCORD, Mark, A. , LAUBER, Jan , PEI, Jun , FERNANDEZ, Jorge, P.
IPC分类号： H01J37/304
CPC分类号： H01J37/28 , H01J2237/004 , H01J2237/2594 , H01J2237/2814 , H01J2237/2817
摘要： Disclosed is a method and apparatus for generating an image from a sample using a charged particle beam. The apparatus further includes a measurement device (228) arranged to measure a characteristic of the sample portion to obtain a surface voltage value of the sample portion that is exposed to the charged particle beam. For example, the measurement device is an electrostatic voltmeter positioned to obtain a surface voltage value of the exposed sample portion. A charged particle beam is directed substantially towards a portion of the sample under a first set of operating conditions. A surface charge value of the sample portion is obtained under the first set of operating conditions. It is then determined whether an optimum set of operating conditions associated with a predetermined surface charge value have been found. When the optimum conditions have not been found, the operating conditions are adjusted and the charged particle beam is directed substantially towards the sample portion. When the optimum conditions have been found, the charged particle beam is directed substantially towards the sample portion under the found optimum operating conditions.
摘要翻译：公开了一种使用带电粒子束从样品生成图像的方法和装置。该装置还包括测量装置（228），其被布置成测量样品部分的特性以获得暴露于带电粒子束的样品部分的表面电压值。例如，测量装置是定位成获得暴露的样品部分的表面电压值的静电电压表。在第一组操作条件下，带电粒子束基本上指向样品的一部分。在第一组操作条件下获得样品部分的表面电荷值。然后确定是否已经找到与预定表面电荷值相关联的最佳操作条件集合。当没有找到最佳条件时，调节操作条件，并且带电粒子束基本上指向样品部分。当已经找到最佳条件时，在找到的最佳操作条件下，带电粒子束基本上指向样品部分。

7. 发明申请

WO2007106759A2 METHOD TO REDUCE CROSS TALK IN A MULTI COLUMN E-BEAM TEST SYSTEM 审中-公开
标题翻译：减少多列电子束测试系统中的交叉点的方法
公开(公告)号：WO2007106759A2
公开(公告)日：2007-09-20
申请号：PCT/US2007063759
申请日：2007-03-12
申请人： APPLIED MATERIALS INC , SCHMID RALF , SCHWEDES THOMAS
发明人： SCHMID RALF , SCHWEDES THOMAS
IPC分类号： G01R31/305
CPC分类号： G01R31/305 , G09G3/006 , G09G3/3648 , H01J37/28 , H01J2237/2594
摘要： A method and apparatus for reducing or eliminating crosstalk between a plurality of electron beams is described. The plurality of electron beams may produce test areas on a large area substrate that are adjacent wherein secondary electrons from one test area may be detected in an adjacent test area. In one embodiment, the timing of a primary beam emission and detection of secondary electrons from that primary beam is controlled to eliminate or reduce the possibility of detection of secondary electrons from another primary beam.
摘要翻译：描述了用于减少或消除多个电子束之间的串扰的方法和装置。多个电子束可以在邻近的大面积衬底上产生测试区域，其中可以在相邻测试区域中检测来自一个测试区域的二次电子。在一个实施例中，主光束发射的定时和来自该主光束的二次电子的检测被控制以消除或减少从另一个主光束检测二次电子的可能性。

8. 发明申请

WO2007086400A1 試料表面検査方法及び検査装置审中-公开
标题翻译：检测样品表面的方法和装置
公开(公告)号：WO2007086400A1
公开(公告)日：2007-08-02
申请号：PCT/JP2007/051047
申请日：2007-01-24
申请人：株式会社荏原製作所 , 野路伸治 , 内藤儀彦 , 曽布川拓司 , 寺尾健二 , 畠山雅規 , 奥村勝弥
发明人：野路伸治 , 内藤儀彦 , 曽布川拓司 , 寺尾健二 , 畠山雅規 , 奥村勝弥
IPC分类号： H01J37/29 , G01N23/225 , H01J37/147 , H01J37/20 , H01J37/21 , H01L21/66
CPC分类号： H01J37/265 , G01R31/307 , H01J37/04 , H01J2237/2441 , H01J2237/2446 , H01J2237/2594 , H01J2237/2817
摘要：　精度の良い試料表面検査を行える方法及び装置を提供する。　電子線式試料表面検査装置を用いて試料表面を検査する方法であって、前記試料表面検査装置の電子銃から発生した電子ビームを前記試料表面に照射し、前記試料表面から発生した二次電子を検出器の電子検出面に向けて結像させ前記試料表面を検査する方法において、前記検出器の検出面における前記二次電子の結像条件を、前記試料表面の電位が前記試料表面に照射された電子ビームの量に応じて変化さるように制御することに特徴を有する
摘要翻译：提供了一种用于执行高精度样品表面检查的方法和装置。该方法用于通过使用电子束型样品表面检查装置来检查样品表面。在该方法中，用从样品表面检查装置的电子枪产生的电子束照射样品表面，从样品表面产生的二次电子聚焦在检测器的电子检测表面上，并检查样品表面。该方法的特征在于，根据施加在样品表面上的电子束的量，将二次电子在检测器的检测表面上的聚焦条件控制为使样品表面上的电位发生变化。

9. 发明申请

WO2006120861A1 ＴＦＴアレイ基板検査装置审中-公开
标题翻译： TFT阵列基板检查装置
公开(公告)号：WO2006120861A1
公开(公告)日：2006-11-16
申请号：PCT/JP2006/308337
申请日：2006-04-20
申请人：株式会社島津製作所 , 篠原真
发明人：篠原真
IPC分类号： G01R31/00 , G01N21/956 , G01N23/225 , G01R31/02
CPC分类号： G01N21/956 , G01N23/225 , G02F2001/136254 , H01J2237/2594
摘要：　ＴＦＴアレイ基板１０のトランジスタの駆動状態を検出する駆動状態検出装置（例えば、電子ビーム源２と二次電子検出器５を備える手段、又は電子ビーム源１２と二次電子検出器１５を備える手段、若しくは光源２２と光検出器２５を備える手段又は装置、或いは光源３２と光検出器３５を備える手段又は装置）を備えている。また、ＴＦＴアレイ基板検査装置は、前記ＴＦＴアレイ基板１０を構成するトランジスタの特性を変化させるトランジスタ特性変化装置（可視光照射装置４，加熱器１４，電磁波照射装置２４，加熱器３４）を備えている。更に、ＴＦＴアレイ基板検査装置は、前記トランジスタの特性が変化した状態の前記ＴＦＴアレイ基板１０の駆動状態を駆動状態検出装置の出力から検査する検査装置（６，１６，２６，３６）を備えている。
摘要翻译：公开了一种驱动状态检测装置（包括电子束源（2）和二次电子检测器（5）的装置，包括电子束源和二次电子检测器的装置，包括：光源（22）和光检测器（25），或包括光源（32）和光检测器（35）的装置或装置），用于检测TFT阵列基板（10）的晶体管的驱动状态。 TFT阵列基板检查装置包括晶体管特性改变装置（包括可见光照射装置（4），加热器（14），微波照射装置（24）和加热器（34）），用于改变晶体管的特性构成TFT阵列器件（10）。 TFT阵列基板检查装置还包括用于在晶体管的特性改变的状态下检查TFT阵列基板（10）的驱动状态的测试装置（6,16,26,36）的输出的驱动状态检测装置。

10. 发明申请

WO2003007330A1 試料帯電測定方法及び荷電粒子線装置审中-公开
标题翻译：样品电化学测量方法和充电颗粒光束装置
公开(公告)号：WO2003007330A1
公开(公告)日：2003-01-23
申请号：PCT/JP2002/006994
申请日：2002-07-10
申请人：株式会社日立製作所 , 江角真 , 小瀬洋一 , 池上明 , 戸所秀男 , 石島達晃 , 佐藤隆博 , 深谷律雄 , 淺尾一成
发明人：江角真 , 小瀬洋一 , 池上明 , 戸所秀男 , 石島達晃 , 佐藤隆博 , 深谷律雄 , 淺尾一成
IPC分类号： H01J37/28
CPC分类号： H01J37/265 , G01N23/2251 , H01J37/21 , H01J37/244 , H01J37/28 , H01J2237/0041 , H01J2237/216 , H01J2237/244 , H01J2237/24564 , H01J2237/24592 , H01J2237/2594 , H01J2237/2817
摘要： A charged particle beam irradiation method preferable for reducing the out−of−focus of a charged particle beam apparatus caused by sample electrification, the variation in magnification, and the error in measured length value, and a charged particle beam apparatus are disclosed. This invention proposes a technique for measuring the potential distribution over a sample with an electrostatic potentiometer while a charged particle beam is passing through a sample loaded by a loading mechanism. Another proposal is a technique for measuring the local electrification of a predetermined portion on the sample to measure a large−area electrification amount by separating the large−area electrification amount from the electrification amount. A further proposal is a technique for measuring the electrification amount of a predetermined portion under at least two charged−particle optical conditions and a variation in dimensional values with a charged particle beam with a variation in electrification amount of the predetermined portion, and for correcting the measured length value or the magnification on the basis of the variation in dimensional values.
摘要翻译：公开了一种优选用于减少由带电粒子束装置引起的带电粒子束装置的失焦，放大倍率变化和测量长度值误差的带电粒子束照射方法和带电粒子束装置。本发明提出了一种用于在带电粒子束通过由加载机构加载的样品的情况下用静电电位计测量样品上的电位分布的技术。另一个方案是用于测量样品上的预定部分的局部带电的技术，以通过将大面积带电量与电气量分离来测量大面积带电量。进一步的提出是用于在至少两个带电粒子光学条件下测量预定部分的带电量的方法和具有预定部分的带电量变化的带电粒子束的尺寸值的变化，并且用于校正基于尺寸变化的测量长度值或放大倍率。

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