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    • 7. 发明申请
    • レーザー装置
    • 激光装置
    • WO2015170780A1
    • 2015-11-12
    • PCT/JP2015/063842
    • 2015-05-07
    • 国立大学法人電気通信大学
    • 桂川 眞幸
    • G02F1/35G02B5/30H01S3/10
    • G02F1/35G02B5/30G02F1/355H01S3/005H01S3/0057H01S3/0092H01S3/10
    • 複雑な構成を用いることなく、レーザー光と媒質の相互作用における線形及び非線形の光学特性を操作できるとともに、高出力且つ高ビーム品質の長波長域、及び、短波長域のレーザー光を長期間照射できる、(線形及び非線形)光学過程の操作方法及びレーザー装置を提供する。一又は複数の周波数の入射レーザー光を用いた線形及び非線形の光学過程において、発生レーザー光を含む該光学過程に関与する全てのレーザー光の異なる周波数間の相対位相を所望の値に操作することで、目的とする光学過程を実現することを特徴とする。
    • 提供了一种用于操纵(线性和非线性)光学工艺的激光装置和方法,该装置和方法使得可以在不使用复杂构造的情况下操纵激光器之间的相互作用中的线性和非线性光学性质 光和介质,并且还可以在具有高输出和高光束质量的短波长区域和长波长区域中进行激光的长期照射。 使用具有一个或多个频率的入射激光束的线性和非线性光学过程的特征在于,通过操纵作为光学过程的一部分的所有激光束的不同频率之间的相对相位,包括产生的激光 为了使相位相位成为期望值,实现了作为本发明目的的光学处理。