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    • 2. 发明申请
    • プラズマ装置用部品およびその製造方法
    • 等离子体装置部件及其制造方法
    • WO2015080134A1
    • 2015-06-04
    • PCT/JP2014/081189
    • 2014-11-26
    • 株式会社東芝東芝マテリアル株式会社
    • 佐藤 道雄日野 高志中谷 仁
    • C23C24/04C04B35/50C04B41/87H01L21/3065
    • C23C24/04C04B41/009C04B41/5045C04B41/87C04B35/00
    •  衝撃焼結法により形成された粒径が1μm以下の微小粒子を含む酸化イットリウム被膜を有するプラズマ装置用部品において、酸化イットリウム被膜には1~8質量%のLa,Ce,Sm,Dy,Gd,Er,Ybから選択されたランタノイド系元素の酸化物を含有した被膜を有し、被膜の厚さが10μm以上であり、被膜の密度が90%以上であり、被膜の単位面積20μm×20μm中に存在する粒界が確認できる粒子が面積率で0~80%である一方、粒界が結合した粒子の面積率が20~100%であることを特徴とするプラズマ装置用部品およびその製造方法である。上記構成によれば、プラズマ工程中にパーティクルの発生を安定かつ有効に抑制し、生産性の低下やエッチングや成膜コストの増加を押さえるとともに、微細なパーティクルの発生を抑制して、不純物による製品の汚染を防止することを可能にしたプラズマ装置用部品およびその製造方法を提供できる。
    • 本发明是等离子体装置部件,其特征在于,所述等离子体装置部件具有包含通过冲击烧结而形成的微粒的氧化钇膜,其特征在于,所述氧化钇膜含有1-8 选自La,Ce,Sm,Dy,Gd,Er和Yb的镧系元素的氧化物的质量%,膜的厚度为至少10μm,膜密度为至少90%,面积比 的颗粒存在于膜的20μm×20μm的单位面积中,其晶界可见的是0-80%,而晶界熔融的颗粒的面积比为20-100%; 及其制造方法。 所述构造提供:等离子体装置部件,其可以稳定有效地限制等离子体处理期间的颗粒的发生,生产率的降低和蚀刻和成膜成本的增加,并且通过限制发生的方法防止杂质污染产物 的微粒; 及其制造方法。