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1. 发明申请

WO2012059692A1 NOUVEAU PROCÉDÉ DE PRÉPARATION DE REVÊTEMENTS MÉTALLIQUES 审中-公开
标题翻译：用于形成金属涂层的新工艺
公开(公告)号：WO2012059692A1
公开(公告)日：2012-05-10
申请号：PCT/FR2011/052563
申请日：2011-11-03
申请人： CENTRE NATIONAL DE LA RECHERCHE SCIENTIFIQUE (C.N.R.S) , UNIVERSITE DU MAINE , BARDEAU, Jean-François , DELORME, Nicolas , EDELY, Mathieu , GOURBIL, Agnès
发明人： BARDEAU, Jean-François , DELORME, Nicolas , EDELY, Mathieu , GOURBIL, Agnès
IPC分类号： C23C14/18 , C23C14/02 , C03C17/40
CPC分类号： C23C14/18 , C03C17/001 , C03C17/40 , C23C14/025 , C23C14/027
摘要： Nouveau procédé de préparation de revêtements métalliques La présente invention concerne un procédé de dépôt d'un revêtement métallique de faible épaisseur, de faible rugosité moyenne et présentant une bonne adhérence sur un support à base de silice.
摘要翻译：本发明的用于形成金属涂层的新颖方法涉及一种沉积具有低平均粗糙度并且与二氧化硅基底良好粘附的薄金属涂层的方法。

2. 发明申请

WO2012002969A1 MOLYBDENUM CONTAINING TARGETS 审中-公开
标题翻译：含有目标的莫尔宾
公开(公告)号：WO2012002969A1
公开(公告)日：2012-01-05
申请号：PCT/US2010/040756
申请日：2010-07-01
申请人： H. C. STARCK, INC. , ROZAK, Gary, Alan , GAYDOS, Mark, E. , HOGAN, Patrick, Alan , SUN, Shuwei
发明人： ROZAK, Gary, Alan , GAYDOS, Mark, E. , HOGAN, Patrick, Alan , SUN, Shuwei
IPC分类号： C23C14/34 , C23F1/14
CPC分类号： H01J37/3429 , B22F2998/10 , C03C17/40 , C22C1/045 , C22C27/04 , C23C14/0688 , C23C14/14 , C23C14/16 , C23C14/34 , C23C14/3407 , C23C14/3414 , C23C14/3492 , C23C14/35 , C23C14/548 , C23C14/5873 , C23G1/106 , C23G1/205 , G06F3/044 , G06F2203/04103 , Y10T428/12014 , Y10T428/12021 , Y10T428/12597 , Y10T428/31678 , B22F1/0003 , B22F3/02 , B22F3/18
摘要： The invention is directed at sputter targets including 50 atomic % or more molybdenum, a second metal element of titanium, and a third metal element of chromium or tantalum, and deposited films prepared by the sputter targets. In a preferred aspect of the invention, the sputter target includes a phase that is rich in molybdenum, a phase that is rich in titanium, and a phase that is rich in the third metal element.
摘要翻译：本发明涉及包括50原子％或更多的钼，钛的第二金属元素和铬或钽的第三金属元素的溅射靶以及由溅射靶制备的沉积膜。在本发明的优选方面，溅射靶包括富含钼的相，富含钛的相和富含第三金属元素的相。

3. 发明申请

WO2011005952A2 METHODS FOR FORMING FRITTED COVER SHEETS WITH MASKS AND GLASS PACKAGES COMPRISING THE SAME 审中-公开
标题翻译：用于形成包含遮盖物和玻璃包装的封面的方法
公开(公告)号：WO2011005952A2
公开(公告)日：2011-01-13
申请号：PCT/US2010/041359
申请日：2010-07-08
申请人： CORNING INCORPORATED , ABBOTT, John S. Jr. , NGUYEN, Kelvin , ZHANG, Lu
发明人： ABBOTT, John S. Jr. , NGUYEN, Kelvin , ZHANG, Lu
IPC分类号： C03C8/24
CPC分类号： C03C27/06 , C03C8/24 , C03C17/09 , C03C17/40 , C03C2217/252 , C03C2217/253 , C03C2218/328 , C03C2218/34 , C03C2218/355 , C03C2218/365 , H01L51/5246 , Y10T428/24868
摘要： A method for forming a fritted cover sheet for sealing a glass package includes providing a transparent substrate having a sealing surface and a backing surface and forming at least one mask on one of the sealing surface of the substrate or the backing surface of the substrate. A sealing frit may be formed on the sealing surface of the substrate such that the at least one mask is positioned adjacent a perimeter defined by the sealing frit.
摘要翻译：一种形成用于密封玻璃包装的烧结覆盖片的方法包括提供具有密封表面和背衬表面的透明基底，并在基底的密封表面或基底的背衬表面之一上形成至少一个掩模。可以在基板的密封表面上形成密封玻璃料，使得至少一个掩模邻近由密封玻璃料限定的周边。

4. 发明申请

WO2010004209A1 COMPOSITION DE RENFORCEMENT DU VERRE CREUX ET DE PROTECTION DE CELUI-CI CONTRE LA RAYURE, PROCEDES DE TRAITEMENT CORRESPONDANTS ET VERRE CREUX TRAITE OBTENU 审中-公开
标题翻译：用于加强中空玻璃和保护玻璃的组合物，相应的处理方法和结果处理的中空玻璃
公开(公告)号：WO2010004209A1
公开(公告)日：2010-01-14
申请号：PCT/FR2009/051349
申请日：2009-07-08
申请人： SAINT-GOBAIN EMBALLAGE , DA SILVA, Claude , LOHOU, Stéphane , DENIS, Jean-Baptiste
发明人： DA SILVA, Claude , LOHOU, Stéphane , DENIS, Jean-Baptiste
IPC分类号： C03C17/28 , C03C17/30 , C03C17/32
CPC分类号： C03C17/28 , C03C17/005 , C03C17/30 , C03C17/326 , C03C17/40 , C08G59/1433 , C08G59/4042 , C09D163/00 , Y10T428/1321 , C08L2666/04
摘要： Cette composition comprend, dans l'eau : comprend, dans l'eau : (A) au moins un promoteur d'adhésion portant au moins une fonction aminé et/ou au moins une fonction époxy; (B) au moins un monomère et/ou au moins un prépolymère destiné à former un système polymère apte à réagir de manière covalente avec la ou les fonctions aminé et/ou époxy du constituant (A); (C) au moins un durcisseur ou réticulant utilisé en quantité équivalente à ∓ 30% en moles de la stoechiométrie du constituant (B); le constituant (B) étant présent dans la composition à raison de 0,5 à 5 % en poids, en particulier à raison de 1,5 % en poids, exprimés en extrait sec dans l'eau; et le constituant (A) étant présent à raison de 0,2 à 3 parties en poids pour 100 parties en poids du constituant (B).
摘要翻译：本发明涉及包含在水中的组合物：（A）至少一种具有至少一个氨基官能团和/或至少一个环氧官能团的粘合促进剂; （B）至少一种单体和/或至少一种预期形成能够与组分（A）的氨基和/或环氧官能团共价反应的聚合物体系的预聚物; 和（C）至少一种使用量相当于组分（B）的化学计量的±30摩尔％的量的固化剂或交联剂。根据本发明，组合物（B）以0.5至5重量％的量存在，特别是以水固体表示的1.5重量％，并且组分（A）存在于相对于100重量份组分（B），其含量为0.2-3重量份。

5. 发明申请

WO99008974A1 GLASS-BASED COPPER-MIRRORS 审中-公开
标题翻译：基于玻璃的铜镜
公开(公告)号：WO99008974A1
公开(公告)日：1999-02-25
申请号：PCT/BE1998/000122
申请日：1998-08-10
IPC分类号： C03C17/36 , C03C17/38 , C03C17/40 , C23C14/18
CPC分类号： C03C17/3607 , C03C17/36 , C03C17/3613 , C03C17/3618 , C03C17/3626 , C03C17/3634 , C03C17/3649 , C03C17/3663 , C03C17/38 , C03C17/40 , C23C14/18
摘要： A copper-based mirror for use in furnishings and decoration, and a method for its formation, is provided by a transparent glass substrate and a stack of coating layers including a reflective copper layer, in which the stack comprises: (a) an underlayer of transparent or absorbent material selected from metals, oxides, nitrides, oxynitrides, carbides and oxycarbides, applied by vacuum deposition and having a thickness in the range 1 to 40 nm; and (b) a reflective layer of copper applied by vacuum deposition and having a thickness of at least 40 nm.
摘要翻译：用于家具和装饰的铜基镜及其形成方法由透明玻璃基板和包括反射铜层的涂层叠层提供，其中堆叠包括：（a）底层选自金属，氧化物，氮化物，氮氧化物，碳化物和碳氧化物的透明或吸收材料，通过真空沉积施加并且具有1至40nm的厚度; 和（b）通过真空沉积施加的具有至少40nm的厚度的铜的反射层。

6. 发明申请

WO2012156162A2 METHOD FOR ELECTROLESS PLATING 审中-公开
标题翻译：电镀镀层的方法
公开(公告)号：WO2012156162A2
公开(公告)日：2012-11-22
申请号：PCT/EP2012056960
申请日：2012-04-17
申请人： ATOTECH DEUTSCHLAND GMBH , BRUENING FRANK , BECK BIRGIT , DOSSE BEXY , ETZKORN JOHANNES
发明人： BRUENING FRANK , BECK BIRGIT , DOSSE BEXY , ETZKORN JOHANNES
IPC分类号： C23C18/20 , C23C18/28 , C23C18/30 , C23C18/40
CPC分类号： C03C17/40 , C03C17/10 , C23C18/1889 , C23C18/40 , Y10T428/12597
摘要： The present invention discloses a method for electroless plating of a metal or metal alloy onto a metal or a metal alloy structure comprising a metal such as molybdenum or titanium and alloys containing such metals. The method comprises the steps of activation, treatment in an aqueous solution comprising at least one nitrogen-containing compound or a hydroxy carboxylic acid and electroless plating of a metal or metal alloy.
摘要翻译：本发明公开了一种将金属或金属合金化学镀在金属或金属合金结构上的方法，所述金属或金属合金结构包括诸如钼或钛的金属和含有这些金属的合金。该方法包括在包含至少一种含氮化合物或羟基羧酸的水溶液中进行活化，处理金属或金属合金的化学镀的步骤。

7. 发明申请

WO2011076527A1 MIRROR ELEMENTS FOR EUV LITHOGRAPHY AND PRODUCTION METHODS THEREFOR 审中-公开
标题翻译：镜像的镜像元素及其生产方法
公开(公告)号：WO2011076527A1
公开(公告)日：2011-06-30
申请号：PCT/EP2010/068476
申请日：2010-11-30
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH , CLAUSS, Wilfried
发明人： CLAUSS, Wilfried
IPC分类号： G02B1/12 , G02B7/18 , G02B5/08 , C03B19/06 , C04B35/645 , C03B32/00
CPC分类号： C03C23/0005 , C03B32/005 , C03B2201/42 , C03C17/00 , C03C17/40 , C03C2218/31 , G02B1/12 , G02B5/0891 , G02B7/181 , G03F7/70316 , G03F7/7095 , G21K1/062
摘要： The invention relates to a method for the production of a mirror element (10) that has a reflective coating (10a) for the EUV wavelength range and a substrate (10b), the method comprising: pre-compacting the substrate (10b) by hot isostatic pressing, and applying the reflective coating (10a) to the pre-compacted substrate (10b). In the method, either the pre-compacting of the substrate (10b) is performed until a saturation value of the compaction of the substrate (10b) by long-term EUV irradiation is reached, or, for further compaction, the pre-compacted substrate (10b) is irradiated, especially homogeneously, with ions (16) and/or with electrons in a surface region (15) in which the coating (10a) has been or will be applied. The invention also relates to a mirror element (10) for the EUV wavelength range having a substrate (10b) pre-compacted by hot isostatic pressing, and to an EUV projection exposure system having at least one such mirror element (10).
摘要翻译：本发明涉及一种用于生产具有用于EUV波长范围的反射涂层（10a）的反射镜元件（10）和基底（10b）的方法，所述方法包括：通过热预加压基底（10b）等离子体压制，并将反射涂层（10a）施加到预压实的基板（10b）上。在该方法中，进行基板（10b）的预压实，直到达到通过长期EUV照射的基板（10b）的压实的饱和值，或者为了进一步压缩，预压实基板（10b）在涂覆（10a）已经或将被施加的表面区域（15）中与离子（16）和/或电子特别均匀地照射。本发明还涉及一种用于EUV波长范围的反射镜元件（10），其具有通过热等静压压制而预压实的基底（10b），以及具有至少一个这样的镜元件（10）的EUV投影曝光系统。

8. 发明申请

WO2010081088A1 ENGINEERED SERS SUBSTRATES EMPLOYING NANOPARTICLE CLUSTER ARRAYS WITH MULTISCALE SIGNAL ENHANCEMENT 审中-公开
标题翻译：采用多尺度信号增强技术的纳米级聚类阵列工程基础
公开(公告)号：WO2010081088A1
公开(公告)日：2010-07-15
申请号：PCT/US2010/020640
申请日：2010-01-11
申请人： TRUSTEES OF BOSTON UNIVERSITY , REINHARD, Bjoern Marcus , DAL NEGRO, Luca
发明人： REINHARD, Bjoern Marcus , DAL NEGRO, Luca
IPC分类号： G01J3/433 , G01J3/44
CPC分类号： G02B5/008 , B82Y30/00 , C03C17/40 , C03C2217/255 , C03C2217/425 , G01N21/01 , G01N21/658 , G01N2201/02 , Y10T428/12104 , Y10T428/24909
摘要： Defined nanoparticle cluster arrays (NCAs) with total lateral dimensions of up to 25.4 µm by 25.4 µm have been fabricated on top of a 10 nm thin gold film using template guided self-assembly. This approach provides precise control of the structural parameters in the arrays allowing a systematic variation of the average number of nanoparticles in the clusters (n) and the edge to edge separation (Λ) between 1
摘要翻译：使用模板引导自组装，在10nm薄金膜的顶部上制造了总侧向尺寸高达25.4μm×25.4μm的定义的纳米颗粒簇阵列（NCAs）。该方法提供对阵列中的结构参数的精确控制，允许群集（n）中的纳米颗粒的平均数目和1

9. 发明申请

WO2007070249A3 SPUTTERING AND METHODS FOR DEPOSITING A FILM CONTAINING TIN AND NIOBIUM 审中-公开
标题翻译：用于沉积含有金属和铌的薄膜的溅射和方法
公开(公告)号：WO2007070249A3
公开(公告)日：2007-08-30
申请号：PCT/US2006045689
申请日：2006-11-29
申请人： CARDINAL CG CO , HARTIG KLAUS
发明人： HARTIG KLAUS
IPC分类号： H01J37/34 , C03C17/06 , C03C17/09 , C03C17/22 , C03C17/245 , C03C17/34 , C03C17/36 , C03C17/40 , C23C4/12 , C23C14/34 , C23C14/35 , E06B3/67
CPC分类号： C23C4/08 , C03C17/09 , C03C17/245 , C03C17/36 , C03C17/366 , C03C17/3681 , C03C17/40 , C03C2217/211 , C03C2217/218 , C03C2217/23 , C03C2217/24 , C03C2218/154 , C23C4/06 , C23C4/134 , C23C14/3414 , C23C14/3457
摘要： Sputtering targets and sputtering methods for depositing a film that includes tin and niobium. Substrates bearing coatings comprising tin and niobium, for example, low-emissivity coatings including blocker films comprising tin and niobium, or solar control coatings (e.g., conductive oxide coatings) including tin and niobium methods of manufacturing sputtering targets comprising tin and niobium.
摘要翻译：用于沉积包括锡和铌的膜的溅射靶和溅射方法。包含锡和铌的衬底承载涂层，例如低辐射涂层，包括包含锡和铌的阻挡膜，或包括锡和铌的太阳能控制涂层（例如，导电氧化物涂层）的方法，其制造包含锡和铌的溅射靶。

10. 发明申请

WO2007070249A2 SPUTTERING TARGETS AND METHODS FOR DEPOSITING FILM CONTAINING TIN AND NIOBIUM 审中-公开
标题翻译：用于沉积含有金属和铌的薄膜的溅射靶和方法
公开(公告)号：WO2007070249A2
公开(公告)日：2007-06-21
申请号：PCT/US2006/045689
申请日：2006-11-29
申请人： CARDINAL CG COMPANY , HARTIG, Klaus
发明人： HARTIG, Klaus
IPC分类号： H01J37/34 , C23C14/35 , C23C14/34 , C23C4/12 , C03C17/06
CPC分类号： C23C4/08 , C03C17/09 , C03C17/245 , C03C17/36 , C03C17/366 , C03C17/3681 , C03C17/40 , C03C2217/211 , C03C2217/218 , C03C2217/23 , C03C2217/24 , C03C2218/154 , C23C4/06 , C23C4/134 , C23C14/3414 , C23C14/3457
摘要： Sputtering targets and sputtering methods for depositing a film that includes tin and niobium. Substrates bearing coatings comprising tin and niobium, for example, low-emissivity coatings including blocker films comprising tin and niobium, or solar control coatings (e.g., conductive oxide coatings) including tin and niobium methods of manufacturing sputtering targets comprising tin and niobium.
摘要翻译：用于沉积包括锡和铌的膜的溅射靶和溅射方法。包含锡和铌的衬底承载涂层，例如低辐射涂层，包括包含锡和铌的阻挡膜，或包括锡和铌的太阳能控制涂层（例如，导电氧化物涂层）的方法，其制造包含锡和铌的溅射靶。

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