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1. 发明申请

WO2013159943A1 METHOD FOR CLEANING PHOTOMASKS USING MEGASONIC ENERGY 审中-公开
标题翻译：使用微波能量清洁光子的方法
公开(公告)号：WO2013159943A1
公开(公告)日：2013-10-31
申请号：PCT/EP2013/025001
申请日：2013-04-25
申请人： SÜSS MICROTEC PHOTOMASK EQUIPMENT GMBH & CO. KG
发明人： SINGH, SherJang , DIETZE, Uwe , DRESS, Peter
IPC分类号： G03F1/00 , G03F1/82
CPC分类号： G03F1/82
摘要： A method for cleaning photomasks is described, in which megasonic energy is introduced into a liquid on the surface of the photomask to be cleaned. In order to promote cleaning and to control cavitation events within the liquid, the liquid contains mainly Dl-water and at least one first component mixed therein, said first component being present at a concentration of between 0.0001% and 1.00% by volume and said first component having a pH of at least 7, a zeta potential of at most -20 mV, a boiling point of at least 60°C and a vapour pressure of less than 5333 Pa (40mm Hg) at 25°C.
摘要翻译：描述了一种清洁光掩模的方法，其中将兆声波能量引入待清洁的光掩模的表面上的液体中。为了促进洗涤和控制液体内的气蚀事件，液体主要含有D1-水和混合在其中的至少一种第一组分，所述第一组分以0.0001％至1.00体积％的浓度存在，并且所述第一在25℃下pH值至少为7，ζ电位至多为-20mV，沸点至少为60℃，蒸气压小于5333Pa（40mmHg）的组分。

2. 发明申请

WO2017032804A1 VORRICHTUNG ZUM AUFBRINGEN EINES MIT UV-STRAHLUNG BEAUFSCHLAGTEN FLÜSSIGEN MEDIUMS AUF EIN SUBSTRAT 审中-公开
标题翻译：设备用于将用紫外线辐射应用于液体介质到衬底
公开(公告)号：WO2017032804A1
公开(公告)日：2017-03-02
申请号：PCT/EP2016/069986
申请日：2016-08-24
申请人： SÜSS MICROTEC PHOTOMASK EQUIPMENT GMBH & CO. KG
发明人： DUDA, Jörg , DIETZE, Uwe
IPC分类号： B08B3/10 , B08B7/00 , G03F1/82 , H01L21/67 , H01L21/02 , B05B1/04 , B05B17/08
CPC分类号： B05B1/04 , B08B3/10 , B08B7/0057 , G03F1/82 , H01L21/67051 , H01L21/6715
摘要： Eine Vorrichtung zum Aufbringen eines mit UV-Strahlung beaufschlagten flüssigen Mediums auf ein Substrat wird offenbart, die Folgendes aufweist: ein Gehäuse, mit einer langgestreckten Kammer, wenigstens einer Einlassöffnung, die sich zur Kammer hin öffnet und einer der wenigstens einen Einlassöffnung gegenüberliegenden, schlitzförmigen Auslassöffnung, die sich über die Länge der Kammer erstreckt, ein sich in Längsrichtung durch die Kammer erstreckendes Rohrelement, das wenigstens teilweise für UV-Strahlung transparent ist, wobei das Rohrelement derart in der Kammer angeordnet ist, dass zwischen dem Rohrelement und der Wand der Kammer ein Strömungsraum gebildet wird, der bezüglich einer Längsmittelebene der Kammer, die die Auslassöffnung mittig schneidet, symmetrisch ist, und dass sich das Rohrelement in die schlitzförmige Auslassöffnung im Gehäuse erstreckt und dabei zwei in Längsrichtung erstreckende Austrittsschlitze zwischen Rohrelement und Gehäuse bildet, und wenigstens eine UV-Strahlungsquelle im Rohrelement, die angeordnet ist, um UV-Strahlung in Richtung des Strömungsraumes und durch die Auslassöffnung aus dem Gehäuse heraus zu emittieren. Die Vorrichtung zeichnet sich dadurch aus, dass sich der Strömungsquerschnitt des Strömungsraums ausgehend von einem Bereich benachbart zur wenigstens einen Einlassöffnung zu den Austrittsschlitzen verringert. Hierdurch kommt es im Einsatz zu einer Beschleunigung der Flüssigkeit, wenn diese in Richtung der Austrittsschlitze strömt, was zu einer Homogenisierung der Strömung führt. Im Bereich der Austrittsschlitze kann außerhalb des Gehäuses ein gleichmäßiger Vorhang der Flüssigkeit gebildet werden, der auf das Substrat aufgebracht werden kann. Ferner kann durch die Verringerung des Strömungsquerschnitts eine gleichmäßige Einbringung der UV-Strahlung in die Flüssigkeit erreicht werden.
摘要翻译：用于将液体介质施加负载用UV-辐射投影到衬底公开了一种装置，其包括：具有细长腔室，至少一个入口开口，该开口朝向腔室开口和至少一个进气口相对的，狭缝形的出口开口中的一个的壳体其延伸过室的长度，通过腔室管元件，其是至少部分透明的紫外线辐射，其特征在于，所述管件被设置在所述腔室在纵向方向上延伸，所述管元件和所述腔室的壁之间流动空间形成，其相对于所述腔室的一个纵向中心平面对称相交在中间的出口开口，并且所述管件在外壳中的槽形出口开口延伸，形成所述管元件和壳体，且w之间的两个纵向延伸的出口槽 enigstens管状元件，其被设置成发射UV辐射朝向所述流动空间，并通过出口开口离开壳体的内部的UV辐射源。该装置的特征在于，从相邻的流动面积的流动横截面的面积开始减小的至少一个入口开口到所述出口槽。这导致在使用液体的加速度的，因为它向排放狭槽流动，从而导致在流动的均匀化。在出口槽的区域中，流体的均匀幕可在壳体，其可被施加到衬底外形成。此外，UV辐射的均匀贡献可以在液体中通过减小流动横截面来实现。

3. 发明申请

WO2018158394A1 VORRICHTUNG ZUM AUFBRINGEN EINES MIT UV-STRAHLUNG BEAUFSCHLAGTEN FLÜSSIGEN MEDIUMS AUF EIN SUBSTRAT 审中-公开
公开(公告)号：WO2018158394A1
公开(公告)日：2018-09-07
申请号：PCT/EP2018/055103
申请日：2018-03-01
申请人： SÜSS MICROTEC PHOTOMASK EQUIPMENT GMBH & CO. KG
发明人： DRESS, Peter , DIETZE, Uwe , GRABITZ, Peter
IPC分类号： B08B3/10 , B08B7/00 , G03F1/82 , H01L21/67
摘要： Es ist eine Vorrichtung (1) zum Aufbringen eines mit UV-Strahlung beaufschlagten flüssigen Mediums auf ein Substrat (2) offenbart. Die Vorrichtung (1) weist folgendes auf: ein Gehäuse (114, 14), mit einer langgestreckten Kammer (122, 22), wenigstens einer Einlassöffnung, die sich zur Kammer (122, 22) hin öffnet und einer der wenigstens einen Einlassöffnung gegenüberliegenden, schlitzförmigen Auslassöffnung (21), die sich über die Länge der Kammer (122, 22) erstreckt, ein sich in Längsrichtung durch die Kammer (122, 22) erstreckendes Rohrelement (180, 30), das wenigstens teilweise für UV-Strahlung transparent ist, wobei das Rohrelement (180, 30) derart in der Kammer (122, 22) angeordnet ist, dass zwischen dem Rohrelement (180, 30) und der Wand der Kammer (122, 22) ein Strömungsraum (184) gebildet wird, der bezüglich einer Längsmittelebene der Kammer (122, 22), die die Auslassöffnung (21) mittig schneidet, symmetrisch ist, und dass sich das Rohrelement (180, 30) in die schlitzförmige Auslassöffnung (21) im Gehäuse (114, 14) erstreckt und dabei zwei in Längsrichtung erstreckende Austrittsschlitze (186, 37) zwischen Rohrelement (180, 30) und Gehäuse (114, 14) bildet, und wenigstens eine UV-Strahlungsquelle im Rohrelement (180, 30), die angeordnet ist, um UV-Strahlung in Richtung des Strömungsraumes und durch die Auslassöffnung (21) aus dem Gehäuse (114, 14) heraus zu emittieren, um Radikale in der Flüssigkeit zu erzeugen und auf die Oberfläche des Substrat (2) zu bringen. Die Vorrichtung (1) istgekennzeichnetdurch Mittel zum Einstellen der durch die Auslassöffnung (21) durch das Rohrelement (180, 30) austretenden Strahlung derart, dass die Strahlungsintensität zur Längsmittelebenen der Kammer (122, 22) hin zunimmt.

4. 发明申请

WO2018091604A1 APPARATUS AND METHOD FOR CLEANING A PARTIAL AREA OF A SUBSTRATE 审中-公开
公开(公告)号：WO2018091604A1
公开(公告)日：2018-05-24
申请号：PCT/EP2017/079502
申请日：2017-11-16
申请人： SÜSS MICROTEC PHOTOMASK EQUIPMENT GMBH & CO. KG
发明人： DATTILO, Davide , DIETZE, Uwe , SAMAYOA, Martin
IPC分类号： G03F1/82 , G03F1/64 , B08B1/00
摘要： An apparatus and a method for cleaning a partial area of a substrate, in particular a photomask, are described. The apparatus has a cleaning head having a lower surface configured to be arranged above and in close proximity to the substrate area to be cleaned, the lower surface having a central opening formed therein, a first annular groove, surrounding the central opening, and at least a second groove, arranged between the first annular groove and the central opening, the first annular groove being fluidly connected to a first port allowing connection to an external supply source and the second annular groove being fluidly connected to a second port allowing connection to an external supply source, a tape supply mechanism arranged to supply an abrasive tape to the central opening in the lower surface of the cleaning head, such that a portion of the abrasive tape protrudes therefrom and a liquid media conduit having an outlet arranged to supply a liquid to a backside of the abrasive tape at or at the vicinity of the central opening. In the method a protruding portion of an abrasive tape, which protrudes from a central opening of a cleaning head is placed in contact with the area of the substrate to be cleaned to thereby bring a lower surface of the cleaning head in close proximity to the substrate area to be cleaned. A liquid is supplied to a backside of the abrasive tape at or at the vicinity of the central opening of the cleaning head, such that at least the portion of the abrasive tape protruding from the central opening is wetted, and a relative movement is caused between the abrasive tape and the surface area of the substrate to be cleaned. The method also encompasses applying a cleaning fluid to the substrate area to be cleaned via at least one first groove or the at least one second groove in the lower surface of the substrate and applying a suction force to the other groove.

5. 发明申请

WO2018091601A1 HALTER ZUR AUFNAHME UND ZUM SCHUTZ EINER SEITE EINER PHOTOMASKE ODER EINER PHOTOMASKE MIT PELLICLE GEGENÜBER EINEM REINIGUNGSMEDIUM, VERFAHREN ZUM REINIGEN EINER PHOTOMASKE ODER EINER PHOTOMASKE MIT PELLICLE UND VORRICHTUNG ZUM ÖFFNEN UND SCHLIEßEN EINES HALTERS 审中-公开
公开(公告)号：WO2018091601A1
公开(公告)日：2018-05-24
申请号：PCT/EP2017/079497
申请日：2017-11-16
申请人： SÜSS MICROTEC PHOTOMASK EQUIPMENT GMBH & CO. KG
发明人： KRÜMBERG, Jens , BESER, Adem , DIETZE, Uwe
IPC分类号： G03F7/20 , G03F1/66
摘要： Es sind ein Halter zur Aufnahme und zum Schutz einer Seite einer Photomaske oder einer Photomaske mit Pellicle, gegenüber einem Reinigungsmedium sowie ein Verfahren zum Reinigen einer solchen Photomaske und eine Vorrichtung zum Öffnen und Schließen eines Halters beschrieben. Der Halter (1) weist eine Basis mit wenigstens drei Auflageelementen (15) auf, die zur Aufnahme und zum Halten der Photomaske oder der Photomaske mit Pellicle beabstandet zu einem Boden (9) der Basis angeordnet sind, sowie einen Dichtrahmen (7, 20, 21), mit einer Oberseite (24) und einer Unterseite (25), wobei die Unterseite auf die Basis aufsetzbar ist, und wobei der Dichtrahmen eine Mittelöffnung (26) aufweist, die so bemessen ist, dass sie die Photomaske mit Abstand aufnehmen kann. Am Dichtrahmen ist ein umlaufendes, elastisches Dichtelement (22) vorgesehen, das sich vom Innenumfang der Mittelöffnung schräg zur Oberseite des Dichtrahmens geneigt in die Mittelöffnung hinein erstreckt, wobei das Dichtelement in einem unbelasteten Zustand einen Innenumfang besitzt, der kleiner ist als der Außenumfang der Photomaske und in einem belasteten Zustand eine in der Mittelöffnung aufgenommene Photomaske umlaufend am Seitenrand kontaktiert.

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