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1. 发明申请

WO2017036717A3 BEAM SPLITTING APPARATUS 审中-公开
标题翻译：光束分裂装置
公开(公告)号：WO2017036717A3
公开(公告)日：2017-08-17
申请号：PCT/EP2016068513
申请日：2016-08-03
申请人： ASML NETHERLANDS BV
发明人： DE VRIES GOSSE CHARLES , NIENHUYS HAN-KWANG
IPC分类号： G02B5/18 , G02B6/293 , G02B27/10 , G03F7/20 , H01S3/09
CPC分类号： G03F7/70991 , G02B5/1838 , G02B5/1857 , G02B5/1861 , G02B6/29314 , G02B27/1086 , G02B27/1093 , G03F7/70025 , G03F7/70033 , G03F7/70158 , G03F7/70208 , G03F7/70316 , G03F7/7055 , G03F7/70566 , H01S3/0903
摘要： A beam-splitting apparatus (40) arranged to receive an input radiation beam (B) and split the input radiation beam (B) into a plurality of output radiation beams (Ba - Bj). The beam-splitting apparatus (40) comprising a plurality of reflective diffraction gratings (41-45) arranged to receive a radiation beam and configured to form a diffraction pattern comprising a plurality of diffraction orders, at least some of the reflective diffraction gratings (42-45) being arranged to receive a 0th diffraction order formed at another of the reflective diffraction gratings (41-44). The reflective diffraction gratings are arranged such that the optical path of each output radiation beam (Ba - Bj) includes no more than one instance of a diffraction order which is not a 0th diffraction order.
摘要翻译：一个分束装置（40），用于接收输入辐射束（B）并将输入辐射束（B）分成多个输出辐射束（Ba-Bj）。所述分束设备（40）包括布置成接收辐射束并被配置为形成包括多个衍射级的衍射图案的多个反射式衍射光栅（41-45），至少一些所述反射式衍射光栅（42 -45）被布置成接收在另一个反射式衍射光栅（41-44）处形成的第0衍射级。反射式衍射光栅被布置为使得每个输出辐射束（Ba-Bj）的光路包括不多于一个衍射级数的非零级衍射级。

2. 发明申请

WO2016135166A3 METHOD AND APPARATUS FOR INSPECTION AND METROLOGY 审中-公开
标题翻译：检验和计量方法与装置
公开(公告)号：WO2016135166A3
公开(公告)日：2016-10-27
申请号：PCT/EP2016053809
申请日：2016-02-24
申请人： ASML NETHERLANDS BV
发明人： VAN BERKEL KOOS , AKBULUT DUYGU , VAN DE WIJDEVEN JEROEN JOHAN MAARTEN , ZIJP FERRY
IPC分类号： G03F7/20 , G01N21/956 , G02B21/00
CPC分类号： G03F7/70775 , G01N21/956 , G02B21/0016 , G03F7/70625 , G03F7/70633 , G03F9/7019
摘要： A method and apparatus for position control of a component relative to a surface is disclosed. The method may include calculating an estimated effect of, or derived from, Casimir force acting between the component and the surface, and compensating positioning of the component relative to the surface using the estimated effect.
摘要翻译：公开了一种用于相对于表面的部件的位置控制的方法和装置。该方法可以包括计算在组件和表面之间作用的卡西米力的估计效果或来自其的效果，以及使用估计的效果来补偿部件相对于表面的定位。

3. 发明申请

WO2015101461A3 METHOD AND APPARATUS FOR DESIGN OF A METROLOGY TARGET 审中-公开
标题翻译：用于设计计量目标的方法和设备
公开(公告)号：WO2015101461A3
公开(公告)日：2015-08-20
申请号：PCT/EP2014076545
申请日：2014-12-04
申请人： ASML NETHERLANDS BV
发明人： CHEN GUANGQING , BAI SHUFENG , WANG JEN-SHIANG
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70633 , G03F7/705 , G03F7/70625 , G03F7/70641 , G03F7/70683
摘要： A system to, and a method to, select a metrology target for use on a substrate including performing a lithographic simulation for a plurality of points on a process window region for each proposed target, identifying a catastrophic error for any of the plurality of points for each proposed target, eliminating each target having a catastrophic error at any of the plurality of points, performing a metrology simulation to determine a parameter over the process window for each target not having a catastrophic error at any of the plurality of points, and using the one or more resulting determined simulated parameters to evaluate target quality.
摘要翻译：一种用于选择在衬底上使用的度量衡目标的系统和方法，包括针对每个提议的目标对处理窗口区域上的多个点执行光刻仿真，识别用于多个点中的任何点的灾难性错误，每个提出的目标，消除在多个点中的任何点处具有灾难性错误的每个目标，执行计量模拟以确定在多个点中的任一个点处没有灾难性错误的每个目标在处理窗口上的参数，并且使用一个或多个结果确定的模拟参数以评估目标质量。

4. 发明申请

WO2014139763A2 LITHOGRAPHIC APPARATUS AND TO A REFLECTOR APPARATUS 审中-公开
标题翻译：光刻设备和反射器设备
公开(公告)号：WO2014139763A2
公开(公告)日：2014-09-18
申请号：PCT/EP2014053060
申请日：2014-02-18
申请人： ASML NETHERLANDS BV
发明人： OSUMAN ANDANI
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： F25B21/04 , G02B7/181 , G03F7/70891 , H01L35/30 , H01L35/32
摘要： Disclosed is a reflector apparatus comprising a reflector and an array of thermoelectric heat pumps each having a first end proximal to and in thermal contact with the reflector and having a second end distal from the reflector, a lithography tool having such a reflector apparatus, and a method of using the same.
摘要翻译：公开了一种反射器装置，该反射器装置包括反射器和热电热泵阵列，每个热电热泵阵列具有接近反射器并且与反射器热接触的第一端，并且具有远离反射器的第二端，具有这种反射器装置的光刻工具，使用相同的方法。

5. 发明申请

WO2013107740A3 METHOD AND APPARTUS TO DETERMINE DIMENSIONAL PARAMTERS OF A BLOCK CO-POLYMER STRUCTURE 审中-公开
标题翻译：确定块状共聚物结构尺寸参数的方法和方法
公开(公告)号：WO2013107740A3
公开(公告)日：2014-08-21
申请号：PCT/EP2013050673
申请日：2013-01-15
申请人： ASML NETHERLANDS BV
发明人： VAN HEESCH CHRIS , MEESSEN HIERONYMUS
IPC分类号： G06T7/00 , G06F17/50 , G06T7/60
CPC分类号： G06T7/0008 , G01B11/03 , G03F7/0002 , G03F7/70625 , G06F17/5045 , G06T7/0006 , G06T7/001 , G06T7/60 , G06T2207/10061 , G06T2207/20032 , G06T2207/20061 , G06T2207/30108 , G06T2207/30148
摘要： A method and system to analyze various dimensional parameters of a structure, such as a self-assembled block copolymer structure whether formed by graphoepitaxy or chemical epitaxy. The method involves image processing including median filtering and feature detection to determine critical dimension information, and optionally the use of a Hough transform to find periodicity values and to determine placement errors.
摘要翻译：分析结构的各种尺寸参数的方法和系统，诸如自组装的嵌段共聚物结构，无论是通过石墨刻蚀或化学外延形成的。该方法涉及图像处理，包括中值滤波和特征检测以确定关键尺寸信息，以及可选地使用霍夫变换来查找周期值并确定放置误差。

6. 发明申请

WO2014019846A3 POSITION MEASURING APPARATUS, POSITION MEASURING METHOD, LITHOGRAPHIC APPARATUS AND DEVICE MANUFACTURING METHOD 审中-公开
标题翻译：位置测量装置，位置测量方法，平面设备和装置制造方法
公开(公告)号：WO2014019846A3
公开(公告)日：2014-05-22
申请号：PCT/EP2013064982
申请日：2013-07-16
申请人： ASML NETHERLANDS BV
发明人： MATHIJSSEN SIMON GIJSBERT JOSEPHUS , DEN BOEF ARIE JEFFREY
IPC分类号： G03F9/00
CPC分类号： G03F7/70141 , G03F9/7026 , G03F9/7034
摘要： An apparatus for measuring positions of marks on a substrate, includes an illumination arrangement for supplying radiation with a predetermined illumination profile across a pupil of the apparatus, an objective lens for forming a spot of radiation on a mark using radiation supplied by said illumination arrangement, a radiation processing element for processing radiation that is diffracted by the mark, a first detection arrangement for detecting variations in an intensity of radiation output by the radiation processing element and for calculating therefrom a position of the mark, an optical arrangement, a second detection arrangement, wherein the optical arrangement serves to direct diffracted radiation to the second detection arrangement, and wherein the second detection arrangement is configured to detect size and/or position variations in the radiation and to calculate therefrom a defocus and/or local tilt of the mark.
摘要翻译：一种用于测量基板上的标记位置的装置，包括：用于向设备的光瞳提供具有预定照明轮廓的辐射的照明装置;用于使用由所述照明装置提供的辐射在标记上形成辐射点的物镜; 用于处理由标记衍射的辐射的辐射处理元件;第一检测装置，用于检测由辐射处理元件输出的辐射强度的变化，并用于计算标记的位置，光学装置，第二检测装置，其中所述光学装置用于将衍射辐射引导到所述第二检测装置，并且其中所述第二检测装置被配置为检测所述辐射中的尺寸和/或位置变化并由其计算所述标记的散焦和/或所述局部倾斜。

7. 发明申请

WO2014072149A2 METHOD AND APPARATUS FOR GENERATING RADIATION 审中-公开
标题翻译：用于产生辐射的方法和装置
公开(公告)号：WO2014072149A2
公开(公告)日：2014-05-15
申请号：PCT/EP2013071141
申请日：2013-10-10
申请人： ASML NETHERLANDS BV
发明人： LOOPSTRA ERIK , YAKUNIN ANDREI , BANINE VADIM , NIKIPELOV ANDREY , OSORIO OLIVEROS EDGAR , STRUYCKEN ALEXANDER , VAN DRIEËNHUIZEN BERT , VAN SCHOOT JAN
IPC分类号： G03F7/20 , H05G2/00
CPC分类号： H05G2/006 , G03F7/70033 , G03F7/7085 , G21K1/062 , G21K2201/067 , H01S3/073 , H01S3/08059 , H01S3/0815 , H01S3/1307 , H01S3/2232 , H01S3/2383 , H05G2/008
摘要： A method of generating radiation for a lithography apparatus. The method comprises providing a continuously renewing fuel target at a plasma formation location and directing a continuous-wave excitation beam at the plasma formation location such that fuel within the continuously renewing fuel target is excited by the continuous-wave excitation beam to generate a radiation generating plasma.
摘要翻译：一种为光刻设备产生辐射的方法。该方法包括在等离子体形成位置处提供连续更新的燃料目标并且在等离子体形成位置处引导连续波激发光束，使得连续更新的燃料靶内的燃料被连续波激发光束激发以产生辐射产生等离子体。

8. 发明申请

WO2014067754A2 SENSOR AND LITHOGRAPHIC APPARATUS 审中-公开
标题翻译：传感器和光刻设备
公开(公告)号：WO2014067754A2
公开(公告)日：2014-05-08
申请号：PCT/EP2013071080
申请日：2013-10-09
申请人： ASML NETHERLANDS BV
发明人： NIHTIANOV STOYAN , KOK HAICO , WEHRENS MARTIJN
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： H01L27/1464 , G03F7/70558 , G03F7/7085 , H01L27/14609 , H01L27/14643 , H01L27/14689 , H01L31/028 , H01L31/035281 , H01L31/1804
摘要： A backside illuminated sensor comprising a supporting substrate, a semiconductor layer which comprises a photodiode comprising a region of n-doped semiconductor provided at a first surface of the semiconductor layer, and a region of p-doped semiconductor, wherein a depletion region is formed between the region of n-doped semiconductor and the region of p-doped semiconductor, and a layer of p-doping protective material provided on a second surface of the semiconductor layer, wherein the first surface of the semiconductor layer is fixed to a surface of the supporting substrate.
摘要翻译：一种背照式传感器，包括支撑衬底，包括光电二极管的半导体层，所述光电二极管包括设置在所述半导体层的第一表面处的n掺杂半导体区域和p掺杂半导体区域，其中耗尽区域形成在 n掺杂半导体区域和p掺杂半导体区域，以及设置在半导体层的第二表面上的p-掺杂保护材料层，其中半导体层的第一表面被固定到支撑基材。

9. 发明申请

WO2013174656A3 LITHOGRAPHIC APPARATUS 审中-公开
标题翻译： LITHOGRAPHIC设备
公开(公告)号：WO2013174656A3
公开(公告)日：2014-01-23
申请号：PCT/EP2013059617
申请日：2013-05-08
申请人： ASML NETHERLANDS BV
发明人： OSORIO OLIVEROS EDGAR
IPC分类号： G03F7/20 , G03F1/24 , G21K1/06
CPC分类号： G03F7/70916 , B82Y10/00 , B82Y30/00 , G02B5/085 , G02B5/0891 , G02B27/0006 , G03F1/24 , G03F1/62 , G03F7/7015 , G03F7/70958 , G21K1/062 , G21K2201/067 , Y10S977/734
摘要： A reflector comprising a reflecting surface or structure provided with a cap layer formed from Silicene or a Silicene derivative. The reflector may be provided in a lithographic apparatus.
摘要翻译：一种反射器，包括设置有由硅或硅烷衍生物形成的盖层的反射表面或结构。反射器可以设置在光刻设备中。

10. 发明申请

WO2013117518A3 SUPPORT AND LITHOGRAPHIC APPARATUS COMPRISING A SUPPORT 审中-公开
标题翻译：支持和包含支持的平台设备
公开(公告)号：WO2013117518A3
公开(公告)日：2013-12-27
申请号：PCT/EP2013052154
申请日：2013-02-04
申请人： ASML NETHERLANDS BV
发明人： CADEE THEODORUS PETRUS MARIA , BANINE VADIM YEVGENYEVICH , ZAAL KOEN JACOBUS JOHANNES MARIA , BADIE RAMIN , SINGH HARMEET
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70725 , G03F7/70708 , G03F7/70733 , H01L21/6875
摘要： A lithographic apparatus has a support (S) that is provided with burls (BR) for holding an object (W). The support has been fabricated with a lithographic manufacturing method, e.g., a MEMS- technology, so as to create burls whose orientations or positions are individually electrically controllable.
摘要翻译：光刻设备具有支撑件（S），其具有用于保持物体（W）的孔（BR）。已经使用光刻制造方法（例如MEMS技术）来制造支撑件，以便产生其取向或位置可单独电可控制的孔。

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