专利快速检索-快速检索全球专利，免费商用专利数据库-IPRDB

1. 发明申请

WO2020109486A1 PROCEDE ET SYSTEME POUR MESURER UNE SURFACE D'UN OBJET COMPRENANT DES STRUCTURES DIFFERENTES PAR INTERFEROMETRIE A FAIBLE COHERENCE 审中-公开
公开(公告)号：WO2020109486A1
公开(公告)日：2020-06-04
申请号：PCT/EP2019/082942
申请日：2019-11-28
申请人： UNITY SEMICONDUCTOR
发明人： BOULANGER, Jean-François , BERGOËND, Isabelle
IPC分类号： G01B9/02 , G01B11/06 , G01B11/0625 , G01B2210/56 , G01B9/02083 , G01B9/02088 , G01B9/0209
摘要： L'invention concerne un procédé (100) de mesure d'une surface d'un objet (17) comprenant au moins une structure (41, 42) par interférométrie optique à faible cohérence, le procédé (100) comprenant les étapes suivantes : - acquisition (102) d'un signal interférométrique en une pluralité de points, dits de mesure, de ladite surface dans un champ de vue; pour au moins un point de mesure : - attribution (104) du signal interférométrique acquis à une classe de signaux interférométriques parmi une pluralité de classes, chaque classe étant associée à un signal interférométrique de référence représentatif d'une structure type; et - analyse (114) du signal interférométrique pour en déduire une information sur la structure au point de mesure, en fonction de sa classe. L'invention concerne également un système de mesure mettant en œuvre le procédé selon l'invention.

2. 发明申请

WO2018219785A1 PROCEDE ET SYSTEME POUR RECONSTITUER UNE INFORMATION DE COULEUR D'UN ECHANTILLON MESURE PAR PROFILOMETRIE OPTIQUE EN LUMIERE BLANCHE, ET APPLICATIONS DE CE PROCEDE 审中-公开
公开(公告)号：WO2018219785A1
公开(公告)日：2018-12-06
申请号：PCT/EP2018/063705
申请日：2018-05-24
申请人： UNITY SEMICONDUCTOR
发明人： BOULANGER, Jean-François , PETITGRAND, Sylvain
IPC分类号： G01B9/02 , G01J3/28 , G01J3/453 , G01J3/46
CPC分类号： G01B9/0209 , G01B9/02084 , G01B11/2441
摘要： Procédé pour reconstituer une information de couleur d'un échantillon mesuré par profilométrie optique en lumière blanche, comprenant une acquisition (21) d'interférogrammes en une pluralité de points ou pixels dudit échantillon, ce procédé comprenant en outre, pour au moins un point de mesure: - un calcul (22) de densité spectrale optique de l'interférogramme, - à partir de cette densité spectrale optique, une détermination d'une réflectance spectrale, - un traitement (24) de ladite réflectance spectrale pour générer une information de couleur dudit échantillon (17).

3. 发明申请

WO2019149638A1 PROCEDE ET DISPOSITIF D'INSPECTION D'UNE SURFACE D'UN OBJET COMPORTANT DES MATERIAUX DISSIMILAIRES 审中-公开
公开(公告)号：WO2019149638A1
公开(公告)日：2019-08-08
申请号：PCT/EP2019/051894
申请日：2019-01-25
申请人： UNITY SEMICONDUCTOR , COMMISSARIAT A L'ENERGIE ATOMIQUE ET AUX ENERGIES ALTERNATIVES
发明人： BOULANGER, Jean-François , GODNY, Stéphane
IPC分类号： G01B9/02 , G01B11/06 , G01B11/24
摘要： La présente invention concerne un procédé (100) de mesure du profil d'une surface (400) d'un objet à mesurer (300), notamment comprenant des zones en au moins deux matériaux différents, l'objet à mesurer (300) faisant partie d'une pluralité d'objets sensiblement identiques, la pluralité d'objets comprenant en outre au moins un objet de référence (304, 306) ayant au moins une surface de référence, le procédé (100) comprenant les étapes : de détermination (102) d'une fonction de correction, à partir d'un premier signal de profil d'une première surface de référence et d'un second signal de profil d'une seconde surface de référence, la seconde surface de référence étant métallisée; d'acquisition (110) d'un signal de profil de la surface de l'objet à mesurer; et d'application (116) de la fonction de correction au signal de profil de la surface (400) de l'objet à mesurer (300) pour obtenir un signal de profil corrigé; les signaux de profil étant obtenus à partir de mesures interférométriques (104, 112). L'invention concerne également un dispositif de mesure du profil d'une surface d'un objet mettant en œuvre un tel procédé.

4. 发明申请

WO2017178306A1 PROCEDE ET SYSTEME D'INSPECTION ET DE MESURE OPTIQUE D'UNE FACE D'UN OBJET 审中-公开
标题翻译：用于检查和光学测量物体的方法和系统
公开(公告)号：WO2017178306A1
公开(公告)日：2017-10-19
申请号：PCT/EP2017/058145
申请日：2017-04-05
申请人： UNITY SEMICONDUCTOR
发明人： BOULANGER, Jean-François , THOUY, Benoit
IPC分类号： G01B9/02 , G01B11/06 , G01B11/24 , G02B21/00 , G01N21/95 , G01N21/956 , H01L21/66
摘要： La présente invention concerne un procédé (100) d'inspection et de mesure d'une face d'un objet comprenant au moins deux surfaces décalées en profondeur l'une par rapport à l'autre, lesdites surfaces formant en particulier une marche ou une tranchée sur/dans ladite face, ledit procédé (100) comprenant les étapes suivantes : - mesure (102) d'un signal interférométrique, dit signal mesuré, en plusieurs points, dits de mesure, de ladite face inspectée; - pour au moins un point de mesure, extraction (108) du signal mesuré relativement à au moins une, en particulier à chaque, surface, ladite extraction (108) fournissant pour ledit point de mesure un signal interférométrique, dit individuel, pour ladite surface; - analyse (110) profilométrique des signaux individuels, de manière indépendante pour chaque surface. Elle concerne également un système d'inspection et de mesure d'une face d'un objet mettant en œuvre un tel procédé.
摘要翻译：解码方法技术领域本发明涉及一种解码方法（100），用于检查和测量包括相对于彼此的至少两个表面深度的物体的表面; 另一方面，所述表面特别是在所述面上/中形成台阶或切片，所述方法是（100）包括以下步骤： - 干涉测量信号的测量（102），所述测量的信号在所述测量的所述测量的脸的所述测量的若干点处; 对于至少一个测量点，提取（108）所测量的信号; 相对＆agrave; 至少有一个，特别是＆agr; 所述提取（108）为所述测量点提供干涉信号，所述个体用于所述表面; - 单独信号的轮廓分析（110），以独立的方式用于每个表面。它也涉及检查和测量实施这种程序的物体的面部的系统。

你已经成功收藏专利！

检索式保存成功!

IPRDB

热门服务

关于我们

友情链接

联系方式