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2. 发明申请

WO2015189001A1 LITHOGRAPHIC APPARATUS AND EXPOSURE METHOD 审中-公开
标题翻译：平面设备和曝光方法
公开(公告)号：WO2015189001A1
公开(公告)日：2015-12-17
申请号：PCT/EP2015/060537
申请日：2015-05-13
申请人： ASML NETHERLANDS B.V.
发明人： KRAMER, Pieter, Jacob , GILIJAMSE, Rogier , LAMMERS, Niels , SLOTBOOM, Daan, Maurits
IPC分类号： G03F9/00
CPC分类号： G03F9/7046 , G03F7/70141 , G03F7/70483 , G03F7/70525 , G03F7/706 , G03F7/70633 , G03F7/70775 , G03F9/7003 , G03F9/7049 , G03F9/7073
摘要： An exposure method is described, the method comprising the steps of a) transferring a first pattern onto each of a plurality of target portions of a substrate, the first pattern including at least one alignment mark; b) measuring a position of a plurality of alignment marks and determining an alignment mark displacement (dx, dy) for each of the plurality of alignment marks as a difference between a respective predetermined nominal position of the alignment mark and the respective measured position of the alignment mark; c) fitting a mathematical model to the plurality of alignment mark displacements to obtain a fitted mathematical model, d) determining a position of the first pattern in each of the plurality of target portions, based on the fitted mathematical model; e) transferring a second pattern onto each of the plurality of target portions, using the determined position of the first pattern in each of the plurality of target portions, wherein the mathematical model comprises polynomials Z1 and Z2: Z1 = r 2 cos(2 θ ) Z2 = r 2 sin(2 θ ) in polar coordinates (r, θ) or Z1 = x 2 - y Z 2= xy in Cartesian coordinates (x, y).
摘要翻译：描述了一种曝光方法，所述方法包括以下步骤：a）将第一图案转印到基板的多个目标部分中的每一个上，所述第一图案包括至少一个对准标记; b）测量多个对准标记的位置，并确定多个对准标记中的每一个的对准标记位移（dx，dy），作为对准标记的相应预定标称位置与相应测量位置之间的差对准标记 c）将数学模型拟合到所述多个对准标记位移以获得拟合的数学模型，d）基于所拟合的数学模型确定所述多个目标部分中的每一个中的所述第一图案的位置; e）使用所述多个目标部分中的每一个中的所述第一图案的确定位置将第二图案转移到所述多个目标部分中的每一个上，其中所述数学模型包括多项式Z1和Z2：Z1 = r 2 cos（2θ） Z2 = r 2 sin（2θ）极坐标（r，θ）或Z1 = x 2 -y Z 2 = xy在笛卡尔坐标（x，y）。

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