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    • 1. 发明申请
    • Si製造方法
    • 生产Si的方法
    • WO2004009493A1
    • 2004-01-29
    • PCT/JP2003/009275
    • 2003-07-22
    • 新日本製鐵株式会社近藤 次郎岡島 正樹徳丸 慎司堂野前 等
    • 近藤 次郎岡島 正樹徳丸 慎司堂野前 等
    • C01B33/021
    • C01B33/021
    • Si製造工程等から発生する工業的価値の無かった各種形態の SiO固体から、Siを安価に効率良く製造することを目標として、 SiO固体へ、アルカリ金属元素の酸化物、水酸化物、炭酸化物、フッ化物のいずれか、又はアルカリ土類金属元素の酸化物、水酸化物、炭酸化物、フッ化物のいずれか、又はこれらの化合物の2種以上を、総量のモル数が SiO固体のモル数の1/20以上1000倍以下となる量を添加し、該混合物をSiの融点以上2000℃以下に加熱し、化学反応を行わせることによりSiを生成させ、該Siを反応副生成物から分離回収することを特徴とするSi製造方法を提供する。
    • 一种制备Si的方法,其特征在于它包括向一氧化硅固体中加入碱金属元素的氧化物,氢氧化物,碳酸盐或氟化物,或碱土金属的氧化物,氢氧化物,碳酸盐或氟化物 土金属元素或两种或更多种上述化合物,其总摩尔量为一氧化硅固体的1/20至1000倍,以制备混合物,将混合物加热至从Si熔点至2000℃的温度 ℃,以进行形成Si的反应,并将所得的Si与反应副产物分离以进行回收。 该方法可以以低成本,高效率地从Si生产工艺等中形成的各种形式的SiO固体生产Si,并且通常没有工业价值。