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1. 发明申请

WO2006046348A1 熱処理用縦型ボートおよび熱処理方法审中-公开
标题翻译：用于热处理和热处理方法的垂直船
公开(公告)号：WO2006046348A1
公开(公告)日：2006-05-04
申请号：PCT/JP2005/015618
申请日：2005-08-29
申请人：信越半導体株式会社 , 相原健 , 高橋修治 , 植原良幸
发明人：相原健 , 高橋修治 , 植原良幸
IPC分类号： H01L21/324 , H01L21/22 , H01L21/31 , H01L21/683
CPC分类号： H01L21/67306 , H01L21/31662 , H01L21/324
摘要：　少なくとも、複数のウェーハ状の被処理体を、支持面を有する支柱により上下に間隔をおいて支持して縦型熱処理装置内に搬入・搬出させる熱処理用縦型ボートにおいて、前記ウェーハ状の被処理体の下面を前記支柱に形成された複数の支持面４で支持し、同一の前記被処理体と接触する複数の支持面が形成する面の平面度が０．０３ｍｍ以下、平行度が０．０７ｍｍ以下であることを特徴とする熱処理用縦型ボート８。これにより、１２００°C以上の極めて高い温度で熱処理した場合であっても、熱処理中のウェーハ等にスリップ転位が発生するのを非常に効果的に防ぐことができ、さらに、高い生産性でかつ高品質の表面層を有するウェーハとすることができる熱処理用縦型ボートおよび熱処理方法が提供される。
摘要翻译：提供一种用于热处理的垂直船，用于承载和排出至少多个待垂直热处理设备处理的晶片状物体，通过将物体沿垂直方向间隔地支撑在具有支撑的支撑柱上平面。在用于热处理的垂直船（8）中，待处理的晶片状物体的下平面由形成在支撑柱上的多个支撑面（4）支撑。由与被处理物接触的支撑面形成的平面的平坦度为0.03mm以下，平行度为0.07mm以下。因此，通过热处理用立式船和热处理方法，即使在1200℃以上的极高温度下进行热处理，也能高效率地防止热处理时的水等滑动位错的产生，并且可以以高生产率制造具有高质量表面层的晶片。

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