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1. 发明申请

WO2009025297A1 樹脂ブラックマトリックス、遮光性感光性樹脂組成物、ＴＦＴ素子基板及び液晶表示装置审中-公开
标题翻译：树脂黑色矩阵，光阻光敏树脂组合物，TFT元件基板和液晶显示装置
公开(公告)号：WO2009025297A1
公开(公告)日：2009-02-26
申请号：PCT/JP2008/064827
申请日：2008-08-20
申请人：三菱化学株式会社 , 利光恵理子 , 廣田隆男 , 門脇雅美
发明人：利光恵理子 , 廣田隆男 , 門脇雅美
IPC分类号： G02B5/20 , G02B5/00 , G02F1/1335 , G03F7/004
CPC分类号： G03F7/0007 , G02B5/223 , G02F1/136209 , G02F2202/02 , G02F2202/04 , G03F7/031
摘要：十分な遮光性を有し、かつ、ＴＦＴ素子の発熱による温度上昇も抑えられ、ＴＦＴ素子基板の故障や液晶駆動の乱れがなく信頼性の高い樹脂ブラックマトリックスを提供するため、樹脂ブラックマトリックスの、波長４００ｎｍ～７００ｎｍの範囲における最高光透過率を１％以下とし、且つ、波長８５０ｎｍ～３０００ｎｍの範囲における平均光透過率を６０％以上とするか、最低光透過率を５０％以上にする。
摘要翻译：提供了一种高度可靠的树脂黑矩阵，其具有足够的阻光特性，抑制由TFT元件产生的热量引起的温度升高，并且不会导致TFT元件基板的故障和液晶驱动的波动。在400nm-700nm的波长范围内的树脂黑矩阵的最大透光率允许为1％以下，850nm〜3000nm的波长范围的平均透光率为60％以上。或者，允许最小透光率为50％以上。

2. 发明申请

WO2005031463A1 ネガ型青紫色レーザー感光性組成物、画像形成材料、画像形成材、及び画像形成方法审中-公开
标题翻译：负性蓝紫激光光敏组合物，图像形成材料，图像形成和图像形成方法
公开(公告)号：WO2005031463A1
公开(公告)日：2005-04-07
申请号：PCT/JP2004/014299
申请日：2004-09-22
申请人：三菱化学株式会社 , 水上潤二 , 亀山泰弘 , 利光恵理子 , 瑞穂右二
发明人：水上潤二 , 亀山泰弘 , 利光恵理子 , 瑞穂右二
IPC分类号： G03F7/031
CPC分类号： G03F7/031
摘要： A negative blue-violet laser photosensitive composition that is highly sensitive to laser beams of blue-violet region, excelling in not only safe light properties under a yellow light but also the resolution and rectangularity of obtained image, which negative blue-violet laser photosensitive composition especially can appropriately be used as a dry film resist material and used in direct lithography by blue-violet laser beams. There are further provided, using the negative blue-violet laser photosensitive composition, an image forming material, image former and method of image formation. In particular, there is provided a negative blue-violet laser photosensitive composition wherein the minimum exposure intensity at which the exposure by blue-violet laser beams causes the residual film ratio to be 90% or higher is 40 mJ/cm or less and wherein with respect to a residual film ratio - exposure intensity curve obtained by plotting the residual film ratio at exposed part [t(%)] against the logarithm of exposure intensity by blue-violet laser beams [logE(mJ/cm )], the gamma value of straight line binding point at a residual film ratio of 15% with point at a residual film ratio of 80%, t = gammalogE + delta, is 4.0x10 or more. There are further provided, using the negative blue-violet laser photosensitive composition, an image forming material, image former and method of image formation.
摘要翻译：对蓝紫色区域的激光束高度敏感的负蓝紫色激光感光组合物，不仅在黄光下具有安全的光特性，而且还具有所得图像的分辨率和矩形性，该负蓝紫激光感光组合物特别可以适当地用作干膜抗蚀剂材料，并用于通过蓝紫色激光束的直接光刻。进一步提供使用负蓝紫激光感光组合物的图像形成材料，成像剂和图像形成方法。特别地，提供了一种负蓝紫激光感光组合物，其中蓝紫激光束曝光的最小曝光强度使得残留膜比率为90％或更高，为40mJ / cm 2以下并且其中相对于通过将曝光部分[t（％）]上的残留膜比与通过蓝紫色激光束的曝光强度的对数绘制而获得的残留膜比 - 曝光强度曲线[logE（mJ / cm 2））]，残留膜比为15％，残留膜比为80％，t = gammalogE +δ时的直线结合点的γ值为4.0×10 2以上。进一步提供使用负蓝紫激光感光组合物的图像形成材料，成像剂和图像形成方法。

3. 发明申请

WO2004015497A1 青紫色レーザー感光性レジスト材層を有する画像形成材及びそのレジスト画像形成方法审中-公开
标题翻译：具有蓝色紫外线激光敏感材料层的图像形成材料及其抗蚀剂图像形成方法
公开(公告)号：WO2004015497A1
公开(公告)日：2004-02-19
申请号：PCT/JP2003/009932
申请日：2003-08-05
申请人：三菱化学株式会社 , 浦野年由 , 亀山泰弘 , 藤田理恵子 , 宮沢隆司 , 利光恵理子
发明人：浦野年由 , 亀山泰弘 , 藤田理恵子 , 宮沢隆司 , 利光恵理子
IPC分类号： G03F7/004
CPC分类号： G03F7/033 , G03F7/0045 , G03F7/031
摘要：青紫色領域のレーザー光に対して高感度であると共に、膜厚を上げても感度が低下しない青紫色レーザー感光性レジスト材層を有する画像形成材、及びそのレジスト画像形成方法を提供する。　被加工基板上に青紫色レーザー感光性レジスト材層を有する画像形成材であって、該感光性レジスト材層が、膜厚１０μｍ以上であり、且つ、波長４０５ｎｍにおける吸光度が膜厚１μｍ当たり０．３以下のものである青紫色レーザー感光性レジスト材層を有する画像形成材、及び、該画像形成材の感光性レジスト材層を、波長３２０～４５０ｎｍのレーザー光により走査露光した後、現像処理するレジスト画像形成方法。
摘要翻译：具有对蓝紫色区域中的激光束高度敏感并且没有灵敏度甚至膜厚度降低的蓝紫色激光 - 光敏抗蚀剂材料层的图像形成材料增加。一种图像形成材料，其包括形成在待加工基板上的蓝紫色激光 - 光致抗蚀剂材料层，其中所述光敏抗蚀剂材料层具有至少10μm的膜厚度的蓝紫色激光 - 光敏抗蚀剂材料层和波长405nm处的吸光度，每1μm薄膜高达0.3个; 以及通过具有320-450nm波长的激光束扫描和曝光图像形成材料的光致抗蚀剂材料层的抗蚀剂图像形成方法，然后显影所得材料。

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