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热词
    • 1. 发明申请
    • 液晶表示装置
    • 液晶显示器
    • WO2006068216A1
    • 2006-06-29
    • PCT/JP2005/023584
    • 2005-12-22
    • 松下電工株式会社日本ゼオン株式会社山木 健之横川 弘辻本 光福崎 僚三吉原 眞紀豊嶋 哲也荒川 公平
    • 山木 健之横川 弘辻本 光福崎 僚三吉原 眞紀豊嶋 哲也荒川 公平
    • G02F1/13363G02B1/11G02B5/30G02F1/1335G02F1/139
    • G02F1/13363G02F1/133502G02F1/1395G02F2413/02
    •  液晶セル、光学異方体及び出射側偏光子を有する反射型若しくは半透過型の液晶表示装置であって、前記光学異方体は波長550nmで測定した面内レターデーション値(Re(550))と波長450nmで測定した面内レターデーション値(Re(450))との比Re(450)/Re(550)が1.007以下である。また、液晶セル、該液晶セルを挟む一対の出射側偏光子及び入射側偏光子、並びに光学補償板を有するOCBモードの液晶表示装置であって、前記光学補償板は面内レターデーションReを有し、厚み方向の平均屈折率が面内の平均屈折率よりも小さく、厚み方向で屈折率が変化するものである。さらに前記の出射側偏光子はいずれも液晶セルから遠い側の面に反射防止膜を含み、該反射防止膜は、中空微粒子又は多孔質微粒子を含むシリコーン硬化被膜からなる屈折率1.37以下の低屈折率層を含んだ積層体である。
    • 具有液晶单元,光学各向异性体和出射偏振器的反射或半透明型液晶显示器。 在波长450nm下测量的光学各向异性体的面内延迟值(Re(450))与面内延迟值(Re(550))的比率Re(450)/ Re(550) 在波长550nm处测得的值为1.007以下。 具有液晶单元的OCB模式的液晶显示器,一对出射偏振器和夹着液晶单元的入射偏振片,以及光学补偿板。 光学补偿板具有面内相位差Re,厚度方向的平均折射率小于平面内的折射率,折射率在厚度方向上变化。 出射偏振片具有形成在比液晶单元更远离其他表面的表面上的抗反射膜。 防反射膜是包含由包含中空颗粒或多孔颗粒并且折射率为1.37以下的硅固化涂层制成的低折射率层的多层膜。
    • 2. 发明申请
    • コーティング材組成物及び塗装品
    • 涂料组合物和涂层物品
    • WO2006093156A1
    • 2006-09-08
    • PCT/JP2006/303767
    • 2006-02-28
    • 松下電工株式会社辻本 光福崎 僚三山木 健之横川 弘
    • 辻本 光福崎 僚三山木 健之横川 弘
    • C09D183/04C09D163/00
    • C09D163/00C08G59/306C08G77/24C08G77/50C09D5/1675C09D183/14G02B1/105G02B1/14G02B1/18
    •  プラスチック基材等の可塑性の基材に被膜を形成した場合であっても、被膜形成時や、被膜形成後に高温下に曝された際に、低屈折率で、高い耐擦傷性、防汚性、耐薬品性、耐クラック性を維持することができるコーティング材組成物を提供する。  下記一般式(A)で示されるシラン化合物と、分子中に1個以上のエポキシ基を含有するエポキシ基含有有機化合物を含有し、前記シラン化合物の含有量が樹脂成分全量に対して60~97重量%であり、前記エポキシ基含有有機化合物の含有量が、樹脂成分全量に対して3~10重量%である。  X m R 1 3-m Si-Y-SiR 1 3-m X m    (A)  〔R 1 は炭素数1~6の一価炭化水素基。Yはフッ素原子を1個以上含有する二価有機基。Xは加水分解性基。mは1~3の整数である。〕このようなコーティング材組成物にて形成される被膜は、高い耐クラック性を、高温下に曝された際にも維持することができる。
    • 公开了一种能够形成能够保持低折射率,高耐磨性,高防污性,高耐化学性和高抗裂性的涂膜的涂料组合物,即使在塑料基材上形成,例如由塑料制成的基材, 在涂膜形成期间或之后暴露于高温。 具体公开了含有下述通式(A)表示的硅烷化合物和分子中具有一个以上环氧基的含环氧基的有机化合物的涂料组合物,其中硅烷化合物含量为60-97重量% 相对于树脂成分的总量,相对于树脂成分的总量,含环氧基的有机化合物的含量为3-10重量%。 X 3 3-m
    • 3. 发明申请
    • 反射防止基材の製造方法及び反射防止基材
    • 生产抗反基因和抗逆基因的方法
    • WO2009017197A1
    • 2009-02-05
    • PCT/JP2008/063775
    • 2008-07-31
    • パナソニック電工株式会社辻本 光福崎 僚三横川 弘
    • 辻本 光福崎 僚三横川 弘
    • G02B1/11B05D3/06B32B27/18G09F9/00
    • G02B1/111B05D5/061B32B7/02
    •  基材の表面に反射防止膜を形成することにより得る反射防止基材の製造方法は、塗料を用意する工程と、基材に塗料を塗布して、基材に湿潤膜を形成する工程と、湿潤膜を加熱して乾燥膜を形成する工程とを備える。塗料は、紫外線硬化性樹脂と、屈折率1.0~1.5の低屈折率粒子と、溶剤とを含有している。低屈折率粒子は、紫外線硬化性樹脂よりも比重が小さく、紫外線硬化性樹脂の硬化物よりも屈折率が低いように構成されている。特徴部分は、前記乾燥膜に紫外線を照射して、紫外線硬化性樹脂を硬化する工程をさらに供えることである。これにより、一度の塗布により屈折率の異なる二層に分離した、反射防止機能を備えた硬化膜を形成することができる。
    • 一种通过在基材的表面上形成抗反射膜来制造抗反射基材的方法。 该方法包括制备涂料的步骤,将涂料施加到基底以在基底上形成湿膜的步骤以及加热湿膜以形成干膜的步骤。 涂层材料包括紫外线固化树脂,折射率为1.0-1.5的低折射率颗粒和溶剂。 低折射率颗粒的比重低于紫外线固化树脂,并且折射率低于由紫外线固化树脂获得的固化物体的折射率。 该方法的特征在于还包括用紫外线照射干膜以固化紫外线固化树脂的步骤。 因此,可以通过一种涂料施加操作形成由分离的折射率不同且具有防反射性的两层构成的固化膜。