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热词
    • 1. 发明申请
    • VORRICHTUNG ZUR THERMISCHEN BEARBEITUNG EINES GEFÖRDERTEN QUASI-ENDLOSEN WERK-STÜCKS
    • DEVICE FOR A支持的准连续工件热加工
    • WO2010089131A1
    • 2010-08-12
    • PCT/EP2010/000725
    • 2010-02-05
    • ADVANCED PHOTONICS TECHNOLOGIES AGBÄR, Kai K.O.WIRTH, Rolf
    • BÄR, Kai K.O.WIRTH, Rolf
    • F26B3/30F26B5/14F26B13/28F26B13/30F26B21/00B21B45/02
    • F26B5/14B21B45/0281F26B3/30F26B13/28F26B13/30F26B21/004
    • Vorrichtung zur thermischen Bearbeitung eines geförderten quasi-endlosen Werkstücks, insbesondere Flächenkörpers, mit einer Fördereinrichtung zum Transport des Werkstücks in einer Förderrichtung, einem NIR-Strahlungsheizer zur Erwärmung einer Oberfläche des Werkstücks mittels Strahlung, deren wesentlicher Wirkanteil im Bereich des nahen Infrarot und deren Leistungsdichte auf der Oberfläche oberhalb von 100 kW/m 2 liegt, einer dem NIR-Strahlungsheizer in Förderrichtung nachgeordneten Flüssigkeitskühleinrichtung zum Aufbringen einer Kühlflüssigkeit auf die Oberfläche und einer der Flüssigkeitskühleinrichtung nachgeordneten Kühlflüssigkeits-Abtrageinrichtung zum Entfernen der Kühlflüssigkeit von der Oberfläche, wobei die Kühlflüssigkeits-Abtrageinrichtung eine Gasstrahleinrichtung zur Beaufschlagung der gesamten mit Kühlflüssigkeit bedeckten Oberfläche des Werkstücks mit einem unter Druck stehenden Gas zum Abblasen der Kühlflüssigkeit von der Oberfläche aufweist.
    • 一种用于输送的准无端工件的热加工,特别是片材,具有输送装置设备,用于在输送方向上输送所述工件,用于通过辐射,其主要活性成分在近红外范围和功率密度来加热所述工件的表面上的近红外辐射加热器 超过100 kW / m 2的表面上,在液体冷却的下游的输送方向的NIR辐射加热器用于将冷却液体到表面并从该表面去除冷却液体,其中该冷却液体去除装置是用于气体喷射装置的冷却液体去除装置的下游的液体冷却装置的一个 使覆盖有与加压气体冷却工件的液面从在表面上吹冷却液整 有。
    • 6. 发明申请
    • STRAHLERMODUL
    • 反射器模块
    • WO2004088713A2
    • 2004-10-14
    • PCT/EP2004/003476
    • 2004-04-01
    • ADVANCED PHOTONICS TECHNOLOGIES AGGESELL, GüntherBERGE, TorstenWIRTH, Rolf
    • GESELL, GüntherBERGE, TorstenWIRTH, Rolf
    • H01K
    • F26B3/30F26B3/28H05B3/009
    • Strahlermodul für thermische bzw. UV-Bearbeitungsprozesse, mit einer Mehrzahl von im wesentlichen nebeneinander und parallel zueinander angeordneten Strahlungsquellen für elektromagnetische Strahlung, deren wesentlicher Wirkanteil im UV-Bereich, sichtbaren Bereich und/oder Bereich des nahen IR, insbesondere im Wellenlängenbereich zwischen 250 nm und 1,5 µm, liegt, wobei die Strahlungsquellen jeweils einen langgestreckten Mittelabschnitt, zwei umgebogene Enden und zwei den Mittelabschnitt mit den Enden verbindenden Krümmungsabschnitten aufweisen, und einem die Strahlungsquellen tragenden Reflektor- und Kühlkörper, wobei der Reflektor- und Kühlkörper zwei den Krümmungsabschnitten der Strahlungsquellen vom geradlinig langgestreckten Hauptabschnitt zu den Enden zugeordnete, einstückig angeformte Endreflektorabschnitte aufweist.
    • 为250nm且之间包括通过侧和平行的多个基本上侧的彼此辐射源的电磁辐射,其主要活性成分在UV范围,可见光范围和/或近红外的范围内的热或UV处理工艺,特别是在波长范围内的散热器模块 1.5微米,则在每种情况下所述辐射源包括一个细长的中间部分中,两个弯曲的端部和两个中间部分到连接曲率部分的端部,和所述辐射源发射反射和冷却体,其中,所述反射和冷却体包括辐射源2个曲率部 由直伸长主节分配给端部,其具有一体形成的端反射器。