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    • 5. 发明申请
    • PHOTOVOLTAIKSYSTEM FÜR DIE DIREKTE WASSERSTOFFERZEUGUNG UND -SAMMLUNG
    • 用于直接制氢和收集的光伏系统
    • WO2005007932A2
    • 2005-01-27
    • PCT/DE2004/001542
    • 2004-07-13
    • HAHN-MEITNER-INSTITUT BERLIN GMBHTRIBUTSCH, Helmut
    • TRIBUTSCH, Helmut
    • C25B1/00
    • H01L31/0322C25B1/003F24S10/746F24S23/00H01L31/03928Y02E10/44Y02E10/541Y02E60/364Y02E60/368Y02P20/135
    • Ein bekanntes Photovoltaiksystem umfasst eine von Wasser umgebene und mit gesammeltem Sonnenlicht bestrahlte photoelektrochemisch aktive Photovoltaikstruktur ohne laterale stromsammelnde Elemente. Die Photovoltaikstruktur ist jedoch stark korrosionsgefährdet. Weiterhin ist eine Trennung der erzeugten Dissoziationsgase erforderlich. Der Lichteinfall erfolgt nur von einer Seite. Bei dem erfindungsgemässen Photovoltaiksystem ist eine vom Elektrolysestrom durchflossene, selbsttragende Photovoltaikmembran (PM) vorgesehen, die das umgebende Wasser in zwei getrennte Wasserkammern (WKA, WKK) unterteilt, wobei in der einen Wasserkammer (WKA) Sauerstoff und in der anderen Wasserkammer (WKK) Wasserstoff produziert wird. Beide Kammern werden mit Sonnenlicht bestrahlt. In der Wasserkammer (WKK) für die Wasserstoffproduktion ist die aktive Photovoltaikstruktur (PVS), insbesondere in Form einer vereinfachten CIS-Solarzelle, angeordnet. Die Photovoltaikmembran (PM) ist auf beiden Seiten mit einer elektrisch leitenden und lichtdurchlässigen Titandioxidschicht (TS) belegt ist. Beide Titandioxidschichten (TS) sind materialtechnisch modifiziert und weisen sauerstoff- bzw. wasserstoffkatalysierende Eigenschaften auf. Bevorzugt ist die Photovoltaikmembran (PM) flexibel ausgebildet und als axiale Trennwand in einen Schlauch (S) integriert, der einen lichtdurchlässigen Einsatz (LE) aufweist und eine einfache licht- und brennstoffsammelnde Struktur darstellt.
    • 一个众所周知的光伏系统包括由水包围,并照射太阳光收集照片电化学活性光伏结构与没有横向电流收集元件。 然而,光伏结构严重腐蚀。 此外,需要分离所产生的解离气体。 光入射只发生在一侧。 AUML在本发明&亲吻光伏系统提供了一种载流,自支撑从电解电流的光伏膜(PM),其在两个分开的水室(WKA,CHP)周围的水被分开,其特征在于,在水腔室(WKA)氧气,并在其它水室(CHP )产生氢气。 两个房间都被阳光照射。 在水室(CHP)的F导航用途r为产生氢的是活性光伏结构(PVS),以简化的CIS太阳电池的形式排列在特定。 光电膜(PM)的两侧覆盖有导电和半透明的二氧化钛层(TS)。 二氧化钛层(TS)都是材料技术上改性的并具有氧或氢催化性质。 优选地,所述光伏膜(PM)形成的柔性和集成为一轴向分隔壁成管(S),包括一个半透明BEAR。具有插入物(LE)和拉尔表示简单且轻量的结构brennstoffsammelnde

    • 6. 发明申请
    • QUANTENPUNKT AUS ELEKTRISCH LEITENDEM KOHLENSTOFF, VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG UND ANWENDUNG
    • 导电性的碳,加工过程用于生产和应用量子点
    • WO2004070735A1
    • 2004-08-19
    • PCT/DE2004/000231
    • 2004-02-05
    • HAHN-MEITNER-INSTITUT BERLIN GMBHWEIDINGER, AloisHOFSÄSS, HansKRAUSER, JohannMERTESACKER, BerndZOLLONDZ, Jens-Hendrik
    • WEIDINGER, AloisHOFSÄSS, HansKRAUSER, JohannMERTESACKER, BerndZOLLONDZ, Jens-Hendrik
    • H01B1/04
    • H01B1/04B82Y10/00H01L21/0405H01L28/22H01L29/127H01L29/1602H01L51/0045H01L51/0048H01L51/0052H01L51/0595
    • Quantenpunkte zeigen eine besonders in der Nanoelektronik vorteilhaft nutzbare Quantisierung ihrer elektrischen Eigenschaften. Der präzise Aufbau, die Herstellung und der Einbau von Quantenpunkten sind jedoch sehr kompliziert und gelingen nur ungenügend. Der erfindungsgemässe Quantenpunkt (QP) ist gekennzeichnet durch einen eingebetteten Aufbau als zylindrischer Bereich mit graphitartiger Struktur (GLC) in einer elektrisch isolierenden Kohlenstoffschicht (DLCQP) mit diamantartiger Struktur, die zwischen zwei elektrisch isolierenden, diese Eigenschaft auch nach einem lonendurchgang zeigenden Isolierschichten (IL 1 IL 2 ) angeordnet ist. Somit wird erstmals ein geometrisch und lokal genau definierter Quantenpunkt in dem für die Nanoelektronik sehr interessanten DLC-Material vorgestellt, der Abmasse von unter 8 nm aufweisen kann und besonders zur Realisierung eines Einzel-Elektron-Transistors (SET) geeignet ist. Durch integrierte Nanodrähte kann eine einfache Kontaktierung erfolgen. Die Herstellung erfolgt in einfacher Weise durch Bestrahlung eines Schichtenpakets (LS) mit einem lonenstrahl (IB). Der Quantenpunkt (QP) und die Nanodrähte (NW) entstehen dabei in der lonenspur (IT) durch Umwandlung des nicht-leitenden Kohlenstoffs (DLC) mit diamantartiger Struktur in leitenden Kohlenstoff (GLC) mit graphitartiger Struktur.
    • 量子点具有其电气特性的有利可用特别是在纳米电子学量化。 然而,精确的施工,制造和安装的量子点是非常复杂的,只有成功不足。 本发明的量子点(QP)的特征在于一个嵌入式结构为具有电绝缘性碳层(DLCQP)与类金刚石结构的石墨状结构(GLC)的圆筒形区域,两者之间电绝缘的,此属性(即使经过lonendurchgang面对绝缘层IL1 IL2 )被布置。 因此,一个几何精确定义和局部量子点设置在非常有趣的纳米电子学DLC材料首先介绍可以具有小于8纳米的身体比例,特别是为实现单电子晶体管(SET)合适的。 通过集成的纳米线简单接触可制成。 所述制剂以简单的方式通过用离子束(IB)的层分组(LS)的照射来进行。 量子点(QP)和纳米线(NW)出现作为lonenspur(IT)由非导电性碳(DLC)的转换的结果而具有在导电碳(GLC)类金刚石结构具有类似于石墨的结构。
    • 7. 发明申请
    • VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG EINER CHALKOGENID-HALBLEITERSCHICHT MIT OPTISCHER IN-SITU-PROZESSKONTROLLE UND VORRICHTUNG ZUR VERFAHRENSDURCHFÜHRUNG
    • 制造用于实施硫族化合物半导体层光学原位方法控制方法及装置
    • WO2004051734A1
    • 2004-06-17
    • PCT/DE2003/003891
    • 2003-11-24
    • HAHN-MEITNER-INSTITUT BERLIN GMBHSCHEER, RolandNEISSER, Axel
    • SCHEER, RolandNEISSER, Axel
    • H01L21/66
    • C23C14/548C23C14/547H01L31/0324
    • Bei dem nächstliegenden bekannten Verfahren wird Licht einer kohärenten Lichtquelle auf die aktuelle Schichtoberfläche geschickt und die diffuse Rückstreuung aufgrund von wachstumsabhängig veränderlichen Mikrorauigkeiten mit einem Detektor zeitabhängig detektiert. Somit kann über markante Punkte ein zeitlicher Zusammenhang zum Prozess hergestellt werden. Das bekannte Verfahren ohne Ortsauflösung ist jedoch nur auf ortsfeste Substrate is anwendbar. Daher ist bei dem erfindungsgemäßen Verfahren für Koverdampfungsprozesse im kontinuierlichem Betrieb, das besonders Anwendung in der Chalkopyrit-Dünnfilmtechnologie für Solarzellen findet, der Lichtstrahl (LLS) zyklisch und kontinuierlich über das bewegte Substrat (S) führbar, wobei die Abtastgeschwindigkeit des Lichtstrahls (LLS) deutlich höher ist als die Fortschrittsgeschwindigkeit des bewegten Substrats (S). Die Detektion des Rückstreulichts erfolgt in Abhängigkeit vom Auftreffort auf die aktuelle Schicht­oberfläche. Durch Zuordnung gemessener markanter Punkte (1, 2, 2a, 3, 4) zum bekannten Abscheidungsprozess wird ein örtliches Streulichtprofil erstellt, mit dem eine Vorausschau auf die zu erwartende Schichtqualität zu jedem Zeitpunkt und Ort des Depositionsprozesses getroffen werden kann. Abweichungen können in-situ durch Änderung entsprechender Prozessparameter ausgeregelt werden.
    • 在与最接近的已知方法中,相干光源的光在当前层表面上发送,并检测漫背散射由于生长因变量微观粗糙度用检测器随时间变化的。 因此,时间可以连接到进程上做出显着的部位。 然而,如果没有空间分辨率的公知的方法只适用于静止的基片被。 因此,在连续运转Koverdampfungsprozesse本发明的方法,其中发现在黄铜矿薄膜技术用于将光束(LLS)的太阳能电池具体应用循环地和连续地通过移动基板(S)的,其中所述光束的扫描速度(LLS)显著 比移动基板(S)的前进速度更高。 反向散射光的检测作为入射角的当前层表面上的功能进行。 通过分配所测量的突出点(1,2,2A,3A,4)与已知的沉积工艺创建本地散射光轮廓,在任何时间的预期的膜质量和放置在沉积过程中的预测可以采取。 偏差可以在原位通过改变合适的工艺参数进行补偿。
    • 10. 发明申请
    • EINSEITIG KONTAKTIERTE SOLARZELLE MIT DURCHKONTAKTIERUNGEN UND VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG
    • WO2007140763A3
    • 2007-12-13
    • PCT/DE2007/001007
    • 2007-06-02
    • HAHN-MEITNER-INSTITUT BERLIN GMBHSTANGL, RolfGALL, Stefan
    • STANGL, RolfGALL, Stefan
    • H01L31/0224
    • Bekannte einseitig kontaktierte Solarzellen mit Durchkontaktierungen der Emitterschicht durch die Absorberschicht weisen Kontaktsysteme und funktionelle Solarzellenschichten auf, die aufwändige Isolierungs- und Strukturierungsschritte erforderlich machen. Die Solarzelle (HKS) nach der Erfindung weist eine große Ausführungsvielzahl bei immer gleich bleibender einfacher Herstellbarkeit und hoher Effizienz auf und kann gleichermaßen mit Vorderoder Rückseitenkontaktierung, Wafer- oder Dünnschichtbasierung, Substratoder Superstrat-Konfiguration und Emitter- oder Feldpassivierungsschicht-Wrap-Through-Durchkontaktierung (DK) durch die Absorberschicht (AS) ausgeführt werden. Das auf eine Seite der Absorberschicht (AS) aufgebrachte Kontaktgitter (KG) ist zumindest auf seiner Oberseite mit einer elektrisch nicht leitenden Isolationsschicht (IS) überzogen. Es befindet sich entweder zwischen der Absorberschicht (AS) und der Emitterschicht (ES) oder der Absorberschicht (AS) und einer Feldpassivierungsschicht (FSF/BSF), die jeweils unstrukturiert ganzflächig abgeschieden werden und die wiederum flächig von einer Kontaktschicht (KS) belegt werden. Damit befinden sich beide Kontaktsysteme (KG, KS) immer auf der Oberseite (OS) der Solarzelle (HKS). Die jeweils andere funktionale Solarzellenschicht wird durch die Absorberschicht (AS) hindurch zum Kontaktgitter (KG) über punkt-, linien- gitter- oder netzförmige Durchgangsöffnungen (DG) durchkontaktiert.