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2. 发明申请

WO2011049283A1 표면개질된 마스크 템플릿을 이용한 미세 도전패턴 형성방법 审中-公开
标题翻译：使用表面改性掩模模板制作精细导电图案的方法
公开(公告)号：WO2011049283A1
公开(公告)日：2011-04-28
申请号：PCT/KR2010/003664
申请日：2010-06-08
申请人： 한국기계연구원 , 신동윤 , 이택민
发明人： 신동윤 , 이택민
IPC分类号： H01L21/027
CPC分类号： H05K3/1258 , B41M3/006 , C09D11/102 , C23C18/06 , C23C18/08 , H05K3/105 , H05K3/125 , H05K2203/107 , H05K2203/1173 , H05K2203/121
摘要： 본 발명은 소수성 물질로 표면개질된 마스크 템플릿을 이용한 미세패턴 형성방법에 관한 것으로서, 기판 상에 고분자 물질을 적층하는 고분자 물질 적층단계; 상기 고분자 물질 상에 소수성 물질을 도포하여 상기 고분자 물질 내에 상기 소수성 물질을 침투시키는 소수성 물질 도포단계; 상기 고분자 물질 중 일부를 제거하여 상기 기판의 일부 영역을 외부에 노출시키는 함몰부를 형성하는 마스크 템플릿 형성단계; 상기 마스크 템플릿 상에 전도성 잉크를 적층하는 잉크 적층단계; 및 상기 전도성 잉크 내부에 용해된 금속 화합물로부터 금속 입자를 추출하기 위하여 열을 가하여, 상기 고분자 물질이 도포된 부위는 전기적 절연성을 가지는 절연패턴을 형성하고, 상기 함몰부 내의 전도성 잉크는 상기 금속 입자들이 추출되어 융합됨으로써 전기적 전도성을 가지는 도전패턴을 형성하는 열처리단계;를 포함하는 것을 특징으로 한다.
摘要翻译：本发明涉及使用具有疏水性材料的表面改性掩模模板制造精细导电图案的方法，所述方法包括：聚合材料沉积步骤，其中聚合物材料沉积在基底上; 疏水材料施加步骤，其中将疏水材料施加到聚合物材料上以将疏水材料穿透入聚合材料; 掩模模板形成步骤，其中除去一部分聚合物材料以将衬底的某些区域暴露于外部并形成凹部; 油墨沉积步骤，其中导电油墨沉积在掩模模板上; 以及热处理步骤，其中施加热量以从溶解在导电油墨中的金属化合物提取金属颗粒，使得施加聚合物材料的区域形成具有电绝缘性能的绝缘图案，同时凹陷内的导电油墨当金属颗粒被提取时，部分形成具有导电性质的导电图案。

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