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    • 1. 发明申请
    • 레이저 반사형 마스크 및 그 제조방법
    • 激光反射掩模及其制造方法
    • WO2011027972A2
    • 2011-03-10
    • PCT/KR2010/004772
    • 2010-07-21
    • 위아코퍼레이션 주식회사윤형열박래황김수찬이찬구김용문
    • 윤형열박래황김수찬이찬구김용문
    • H01L21/027
    • G03F1/52G03F1/50
    • 본 발명은 레이저 반사형 마스크 및 그 제조방법에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 레이저 빔의 반사영역에 소정 깊이의 반사막 매립홈이 형성되어 있는 베이스 기판 상부에 반사율 차이를 갖는 반사막을 순차적으로 반복해서 적층하고, 화학기계연마(Chemical Mechanical Polishing, CMP)공정이나, 레이저 빔의 조사 또는 식각용액을 통한 리프트 오프(Lift-off) 공정을 통해 반사막 매립홈에 매립된 부분을 제외한 나머지 영역에 적층된 반사막을 제거하여 홈에 매립된 형태의 반사막 패턴을 형성함으로써 마스크의 제조공정을 용이하게 하는 동시에 정확한 패턴을 형성할 수 있는 레이저 반사형 마스크 및 그 제조방법에 관한 것이다. 본 발명에 따른 레이저 반사형 마스크 제조방법은, 베이스 기판 상부에 희생막을 형성하는 단계와; 상기 베이스 기판에서 레이저 빔의 반사영역으로 예정된 영역에 대한 식각공정을 통해, 상기 희생막 및 상기 베이스 기판을 리세스하여 희생막패턴 및 소정 깊이의 반사막 매립홈을 형성하는 단계와; 상기 희생막패턴 및 반사막 매립홈이 형성된 베이스 기판 상부에 반사율이 서로 다른 제1반사막과 제2반사막을 상기 반사막 매립홈이 완전히 매립될 때까지 교대로 반복해서 적층하는 단계와; 상기 베이스 기판의 저면 방향으로부터 상기 베이스 기판에 레이저 빔을 조사하여 상기 희생막패턴과 상기 희생막패턴 상부에 적층된 상기 제1 및 제2반사막을 제거하는 레이저 리프트 오프(laser lift-off)공정을 통해 상기 반사막 매립홈에 매립된 형태의 반사막패턴을 형성하는 단계; 및 상기 베이스 기판 상부에 잔류하는 상기 희생막패턴을 제거하는 단계;를 포함하여 구성되는 것을 특징으로 한다.
    • 本发明涉及一种激光反射掩模及其制造方法,更具体地涉及一种激光反射掩模及其制造方法,其可以促进掩模处理,并通过顺序和重复堆叠来精确地形成图案 在基板上具有不同反射率的反射层,其中在激光束反射区域中限定其中具有预定深度的反射层填充凹部的反射层,并且通过借助于 化学机械抛光(CMP)工艺,激光束照射或用蚀刻溶液的剥离过程,以便形成填充凹部的反射层图案。 根据本发明的制造激光反射掩模的方法包括以下步骤:在基板上形成牺牲层; 通过在区域上通过蚀刻工艺在所述基板上形成激光束反射区域,通过在所述牺牲层和所述基板上形成凹陷来形成具有预定深度的凹陷的牺牲层图案和反射层; 在其上形成有牺牲层图案和反射层填充凹部的基板上交替地和重复堆叠具有相互不同的反射率的第一反射层和第二反射层,直到反射层凹陷完全被填充; 通过进行激光剥离处理来形成填充反射层填充凹部的反射层图案,所述激光剥离处理从基板下方的方向照射基板上的激光束,以去除牺牲层图案,并且将第一和第二反射层堆叠在牺牲层上 层图案; 以及去除残留在基板上的牺牲层图案的剩余部分。
    • 4. 发明申请
    • 레이저 분할빔을 이용한 선택적 박막 제거장치
    • 选择性薄膜拆卸设备使用分开的激光束
    • WO2012148117A2
    • 2012-11-01
    • PCT/KR2012/002928
    • 2012-04-18
    • 위아코퍼레이션 주식회사김수찬이시영이찬구배현섭
    • 김수찬이시영이찬구배현섭
    • B23K26/36
    • B23K26/0676B23K26/0648B23K26/0823B23K26/0853B23K26/0869B23K26/364B23K26/38B23K26/40B23K2201/42B23K2203/50
    • 레이저 분할빔을 이용한 선택적 박막 제거장치가 개시된다. 본 발명에 따른 박막 제거장치는, deep UV 파장의 엑시머 레이저빔을 생성하는 빔생성부와, 레이저빔을 분할하여 분할빔을 출력하는 두 개 이상의 헤드부와, 가공 대상물의 상부에서 헤드부가 직선 이동할 수 있도록 하는 헤드지지부와, 헤드부의 하부에 위치하고 평면 상에서 위치 이동이 가능한 스테이지와, 각각의 헤드부를 헤드지지부 상에서 독립적으로 이동시켜 위치 설정하는 헤드구동부를 포함한다. 그리고 헤드부는, 분할빔의 온오프를 가능하게 하는 빔셔터와, 가공 대상물의 상단에서 분할빔의 균일도를 향상하기 위한 빔균질기와, 가공 대상물의 상부에서 분할빔을 축소하는 프로젝션 렌즈 유닛을 포함한다.
    • 公开了使用分割的激光束的选择性薄膜去除装置。 本发明的薄膜去除装置包括:用于产生深紫外波长的准分子激光束的光束产生单元; 两个或更多个头单元,用于通过分割激光束来输出分束; 头部支撑单元,用于使头单元能够从处理对象的上部线性移动; 位于每个头单元的下部并且可以在平面上移动的台阶; 以及头驱动单元,用于独立地从热支撑单元移动每个头单元以设置每个头单元的位置。 另外,头单元包括:用于使分割光束能够开/关的光束快门; 光束均化器,用于改善处理目标的上端处的分束的均匀性; 以及用于减小处理对象的上部的分割光束的投影透镜单元。