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热词
    • 1. 发明申请
    • 抵抗体および抵抗素子
    • 电阻和电阻元件
    • WO2012133074A1
    • 2012-10-04
    • PCT/JP2012/057260
    • 2012-03-22
    • 株式会社村田製作所廣瀬 左京
    • 廣瀬 左京
    • H01C7/00H01C7/04H01C7/18
    • H01C7/18G01K7/22H01C7/006H01C7/047H01C17/12
    •  比較的任意の温度で、ある程度の温度幅をもって、大きな抵抗変化率を示す、抵抗素子を提供する。 抵抗素子(1)は、VO 2 を主成分とし、かつ、W、Nb、MoおよびTiの少なくとも1種を添加元素として含む、薄膜からなる抵抗体(3)を備える。薄膜は、複数の層状領域(4,5)をその厚み方向に分布させていて、これら層状領域(4,5)は、隣り合うものの間で、上記添加元素の添加量が互いに異ならされている。抵抗体(3)の複数の層状領域(4,5)を横切る電流が流れるように、端子電極(6,7)が設けられる。好ましくは、複数の層状領域(4,5)の分布間隔が、8nm以上かつ35nm以下に選ばれる。
    • 提供了一种电阻元件,其在相对任何温度下具有一定温度范围并且具有高电阻变化率。 电阻元件(1)具有电阻体(3),该电阻体由以VO2为主要成分的薄膜形成,并含有W,Nb,Mo,Ti中的至少一种作为添加元素。 薄膜具有沿其宽度方向分布的多个层状区域(4,5),并且相邻的层状区域(4,5)中添加的元素的量彼此不同, 。 端子电极(6,7)设置成电流流过电阻器(3)的多个层状区域(4,5)。 优选地,选择8〜35nm作为多个层状区域(4,5)的分布间隔。
    • 2. 发明申请
    • 抵抗記憶素子およびその使用方法
    • 电阻记忆元件及其使用
    • WO2010095295A1
    • 2010-08-26
    • PCT/JP2009/065633
    • 2009-09-08
    • 株式会社村田製作所廣瀬 左京
    • 廣瀬 左京
    • H01L27/10H01L45/00H01L49/00
    • H01L45/1233G11C13/0002G11C13/0007G11C2213/31H01L27/101H01L45/147
    •  抵抗変化率が大きく、かつ優れたメモリー効果を有する、抵抗記憶素子を提供する。  素体(2)と、素体(2)の少なくとも一部を介して対向する少なくとも1対の電極(3,4)とを備える、抵抗記憶素子(1)であって、素体(2)は、一般式:Ti 1-x M x O 2 (Mは、Fe、Co、NiおよびCuのうちの少なくとも1種。0.005≦x≦0.05)で示される組成を有する、多結晶体としての酸化物半導体から構成される。第1の電極(3)は、素体(2)との界面領域において整流性と抵抗変化特性とを発現し得るショットキー障壁を形成し得る材料から構成され、第2の電極(4)は、第1の電極(3)と比較して、素体(2)に対してよりオーミックな接合が得られる材料から構成される。
    • 公开了具有高电阻变化率和优异记忆效应的电阻式存储元件。 具体公开的是一种电阻式存储元件(1),其包括元件体(2)和至少一对电极(3,4),它们通过元件体(2)的至少一部分彼此面对。 元件体(2)由具有以下通式表示的组成的多晶氧化物半导体形成:Ti1-xMxO2(其中M表示Fe,Co,Ni和Cu中的至少一种,x满足0.005 = x = 0.05)。 第一电极(3)由能够形成肖特基势垒的材料形成,该肖特基势垒可以在与元件体(2)的界面区域具有整流性和电阻变化特性。 第二电极(4)由与第一电极(3)相比能够与元件体(2)获得更多欧姆结的材料形成。
    • 4. 发明申请
    • 抵抗記憶素子およびその使用方法
    • 电阻记忆元件及其使用
    • WO2010095296A1
    • 2010-08-26
    • PCT/JP2009/065634
    • 2009-09-08
    • 株式会社村田製作所廣瀬 左京
    • 廣瀬 左京
    • H01L27/10H01L45/00H01L49/00
    • H01L45/147G11C11/5685G11C13/0007G11C13/0061G11C13/0064G11C13/0069G11C2013/0073G11C2213/31G11C2213/72G11C2213/73G11C2213/79H01L27/101H01L45/06H01L45/1233
    •  抵抗変化率が大きく、かつ優れたメモリー効果を有する、抵抗記憶素子を提供する。  素体(2)と、素体(2)の少なくとも一部を介して対向する少なくとも1対の電極(3,4)とを備える、抵抗記憶素子(1)であって、素体(2)は、一般式:(Ba 1-x Sr x )Ti 1-y M y O 3 (Mは、Mn、FeおよびCoのうちの少なくとも1種。0≦x≦1.0かつ0.005≦y≦0.05)で示される組成を有する酸化物半導体から構成される。第1の電極(3)は、素体(2)との界面領域において整流性と抵抗変化特性とを発現し得るショットキー障壁を形成し得る材料から構成され、第2の電極(4)は、第1の電極(3)と比較して、素体(2)に対してよりオーミックな接合が得られる材料から構成される。
    • 公开了具有高电阻变化率和良好记忆效应的电阻式存储元件。 具体公开的是一种电阻式存储元件(1),其包括元件体(2)和至少一对通过元件体(2)的至少一部分彼此面对的电极(3,4)。 元件体(2)由具有由以下通式表示的组成的氧化物半导体形成:(Ba1-xSrx)Ti1-yMyO3(其中M表示Mn,Fe和Co中的至少一种,x满足0 = x = 1.0,y满足0.005 = y = 0.05)。 第一电极(3)由能够形成肖特基势垒的材料形成,该肖特基势垒可以在与元件体(2)的界面区域具有整流性和电阻变化特性。 第二电极(4)由与第一电极(3)相比能够与元件体(2)获得更多欧姆结的材料形成。
    • 5. 发明申请
    • 抵抗素子、赤外線センサおよび電気機器
    • 电感元件,红外光传感器和电气设备
    • WO2011052518A1
    • 2011-05-05
    • PCT/JP2010/068806
    • 2010-10-25
    • 株式会社村田製作所廣瀬 左京
    • 廣瀬 左京
    • G01J5/20H01C7/04
    • H01C7/043G01J5/04G01J5/046G01J5/20H01C17/06533
    •  たとえば赤外線センサにおいて用いられる負の温度係数を有する抵抗素子について、任意の温度で大きな抵抗変化を実現し得るようにする。 RBaMn 2 O 6 (Rは、Nd、Sm、Eu、Gd、Tb、Dy、HoおよびYから選ばれる少なくとも1種。)で示される酸化物導電体を主成分とし、負の温度係数を有する素体(2)と、素体(2)の表層部(7)に電界を印加するために設けられる、1対の電極(3,4)とを備える、抵抗素子(5)を、たとえば赤外線センサ(1)において使用するとき、素体(2)に電界強度100V/cm以上の電界を印加した際に素体(2)の抵抗に相関する素体(2)に流れる電流を測定するようにして、赤外線を検出する。
    • 公开了一种具有负温度系数的电阻元件,其用于例如红外光传感器中并且能够在任意温度下产生大的电阻变化。 具体公开的是一种电阻元件(5),它包括:主要由由RBaMn2O6表示的氧化物导体(其中R表示选自Nd,Sm,Eu,Gd,Tb, Dy,Ho和Y),具有负温度系数; 以及为了向元件体(2)的表面部分(7)施加电场而设置的一对电极(3,4)。 例如,当在红外光传感器(1)中使用电阻元件(5)时,通过根据元件体(2)的电阻来测量流过元件体(2)的电流来感测红外光, 对元件体(2)施加场强不小于100V / cm的电场。
    • 6. 发明申请
    • 抵抗記憶素子
    • 电阻记忆元件
    • WO2008123139A1
    • 2008-10-16
    • PCT/JP2008/055272
    • 2008-03-21
    • 株式会社村田製作所廣瀬 左京
    • 廣瀬 左京
    • H01L27/10H01L45/00H01L49/00
    • H01C7/10H01C7/1006H01C7/18H01C17/06533H01L45/04H01L45/147H01L45/1608
    •  スイッチング電圧が比較的高く、かつ比較的高い抵抗変化率を実現できる、抵抗記憶素子を提供する。  素体(2)と、素体(2)の少なくとも一部を介して対向する対向電極(3,4)とを備え、素体(2)は、一般式:{(Sr 1-x M x ) 1-y A y }(Ti 1-z B z )O 3 (Mは、BaおよびCaの少なくとも一方。Aは、Yおよび希土類元素から選ばれる少なくとも1種の元素。Bは、NbおよびTaの少なくとも一方。)で表され、かつ、0<x≦0.5のとき、0.001≦y+z≦0.02(ただし、0≦y≦0.02、0≦z≦0.02)、0.5<x≦0.8のとき、0.003≦y+z≦0.02(ただし、0≦y≦0.02、0≦z≦0.02)、および0.8<x≦1.0のとき、0.005≦y+z≦0.01(ただし、0≦y≦0.02、0≦z≦0.02)という条件を満たす半導体セラミックからなる。
    • 公开了一种电阻存储元件,其具有相对高的开关电压并且可以实现相对较高的电阻变化率。 电阻存储元件包括通过至少一部分基材(2)彼此相对的基底材料(2)和相对的电极(3,4),其中基底材料(2)包括半导体陶瓷材料 由以下通式表示:{(Sr 1-x M x x)1-y A y(x) 其中M表示Ba或Ca中的至少一种;其中M表示Ba或Ca中的至少一种; A表示选自Y和稀土元素中的至少一种元素; 并且B表示Nb和Ta中的至少一种],并且其中x,y和z满足以下要求:当0
    • 8. 发明申请
    • 半導体セラミックおよび抵抗素子
    • 半导体陶瓷和电阻元件
    • WO2012056797A1
    • 2012-05-03
    • PCT/JP2011/068850
    • 2011-08-22
    • 株式会社村田製作所廣瀬 左京
    • 廣瀬 左京
    • H01C7/04
    • H01L29/66H01C7/04H01C7/043
    •  突入電流耐性に優れ、定常状態での発熱を抑制し得る抵抗素子を提供する。 抵抗素子(1)の素子本体(2)を、主成分が化学式R1 1-x R2 x BaMn 2 O 6 で示される構造を有する半導体セラミックで構成する。R1がNd、R2がSm、EuおよびGdのうちの少なくとも1種であるとき、xが0.05≦x≦1.0。R1がNd、R2がTb、Dy、Ho、ErおよびYのうちの少なくとも1種であるとき、0.05≦x≦0.8。R1がSm、EuおよびGdのうちの少なくとも1種、R2がTb、Dy、HoおよびYのうちの少なくとも1種であるとき、0≦x≦0.4。R1がSm、EuおよびGdのうちの少なくとも1種からなり、R2がSm、EuおよびGdのうちのR1として選ばれなかった残りの少なくとも1種からなるとき、0≦x≦1.0。
    • 能够很好地抵抗浪涌电流的电阻元件,从而使稳态发热最小化。 所述电阻元件(1)的主体(2)包括半导体陶瓷,其结构的主要成分由化学式R11-xR2xBaMn2O6表示。 当R1表示钕时,R2表示钐,铕和钆中的至少一种,x满足0.05 = x = 1.0。 当R1表示钕,R2表示铽,镝,钬,铒和钇中的至少一种时,x满足0.05 = x = 0.8。 当R1表示钐,铕和钆中的至少一种,R 2表示铽,镝,钬和钇中的至少一种时,x满足0 = x = 0.4。 当R 1包含钐,铕和钆中的至少一种时,R 2包括对于R1不选择钐,铕和钆中的至少一种,x满足0 = x = 1.0。
    • 10. 发明申请
    • 抵抗スイッチング・メモリー素子
    • 电阻开关存储器件
    • WO2010147073A1
    • 2010-12-23
    • PCT/JP2010/060019
    • 2010-06-14
    • 株式会社村田製作所廣瀬 左京
    • 廣瀬 左京
    • H01L27/10H01L45/00H01L49/00
    • H01L29/8615H01L27/101H01L29/24H01L29/47H01L45/04H01L45/085H01L45/1206H01L45/1226H01L45/1233H01L45/147
    •  2個の電極しか備えない抵抗スイッチング・メモリー素子では、制御電圧を印加することにより抵抗状態を変化させる場合と、電流や信号を流すための駆動電圧を印加する場合との双方において、2個の電極を共通して使用しなければならないため、制御電圧印加時には、電極を電流ラインまたは信号ラインから一時的に切断する必要があるという煩雑さに遭遇する。 抵抗スイッチング・メモリー素子(11)に第1ないし第3の電極(13~15)を設ける。第1の電極(13)は、酸化物半導体(12)との界面(17)において整流性と抵抗変化特性とを発現し得るショットキー障壁を形成する。第3の電極(15)は、酸化物半導体(12)に対してオーミック接合が得られる材料からなる。制御電圧は第1および第2の電極(13,14)間に印加され、駆動電圧は第1および第3の電極(13,15)間に印加されるようにする。
    • 在仅设置有两个电极的电阻式开关存储器件中,通过施加控制电压来改变电阻状态的两种情况之间共用这两个电极,并且用于提供电流或信号的驱动电压 被申请;被应用。 因此,当施加控制电压时,出现必须暂时断开电极与电流线或信号线的麻烦。 第一至第三电极(13至15)提供给电阻式开关存储器件(11)。 第一电极(13)形成可以在第一电极(13)和氧化物半导体(12)之间的界面(17)中产生整流性和电阻变化特性的肖特基势垒。 第三电极(15)由能够使第三电极(15)与氧化物半导体(12)发生欧姆接触的材料制成。 在第一和第二电极(13和14)之间施加控制电压,并且在第一和第三电极(13和15)之间施加驱动电压。