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    • 1. 发明申请
    • カチオン電着塗装用金属表面処理液
    • 用于通过阳离子电沉积涂覆金属的表面预处理流体
    • WO2008075739A1
    • 2008-06-26
    • PCT/JP2007/074537
    • 2007-12-20
    • 日本ペイント株式会社印部 俊雄亀田 浩史コルベルク トーマス
    • 印部 俊雄亀田 浩史コルベルク トーマス
    • C23C22/06C23C22/34C23C28/00C25D13/20
    • C23C22/34C23C2222/20C25D3/56C25D13/20
    •  表面処理した金属基材に対して、カチオン電着塗装を行った場合、充分なつきまわり性の発現が可能であり、防食性に優れている、ジルコニウムイオンによる表面処理を提供すること。  ジルコニウムイオン、銅イオン、および、その他の金属イオンを含む、pHが1.5~6.5のカチオン電着塗装用金属表面処理液であって、上記その他の金属イオンが、錫イオン、インジウムイオン、アルミニウムイオン、ニオブイオン、タンタルイオン、イットリウムイオン、セリウムイオンからなる群から少なくとも1つ選ばれるものであり、上記ジルコニウムイオンの濃度が10~10000ppmであり、上記ジルコニウムイオンに対する銅イオンの濃度比が質量換算で0.005~1であり、かつ、上記その他の金属イオンの銅イオンに対する濃度比が質量換算で0.1~1000である。
    • 本发明提供一种用于通过阳离子电沉积涂覆的金属基材的表面预处理流体,这使得可以在电沉积中获得令人满意的抛光力并且具有优异的耐腐蚀性能。 一种表面预处理流体,用于通过阳离子电沉积涂覆金属的表面预处理流体,其包含锆离子,铜离子和其它金属离子,并且具有1.5至6.5的pH,其中上述其它金属离子是选自以下的至少一种离子 由锡离子,铟离子,铝离子,铌离子,钽离子,钇离子和铈离子组成,锆离子浓度为10〜10000ppm,铜离子与锆离子的浓度比和其他金属离子浓度 铜离子分别为0.005〜1质量%,0.1〜1000质量%。