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1. 发明申请

WO2009135556A1 PROJEKTIONSOPTIK FÜR DIE MIKROLITHOGRAFIE MIT INTENSITÄTS-KORREKTUREINRICHTUNG 审中-公开
标题翻译：投影镜头与强度校正FACILITY微光刻
公开(公告)号：WO2009135556A1
公开(公告)日：2009-11-12
申请号：PCT/EP2009/001684
申请日：2009-03-10
申请人： CARL ZEISS SMT AG , FIOLKA, Damien
发明人： FIOLKA, Damien
IPC分类号： G03F7/20 , G02B27/00
CPC分类号： G03F7/70308 , G02B27/0025 , G03F7/70083 , G03F7/70216
摘要： Eine Projektionsoptik (8) für die Mikrolithografie dient zur Abbildung eines Objektfeldes (5) in einer Objektebene (6) in ein Bildfeld in einer Bildebene (10). Eine Intensitäts-Korrektureinrichtung (25; 32; 35; 36) dient zur Korrektur einer Intensitätsbeaufschlagung einer Feldbeleuchtung. Die Intensitäts-Korrektureinrichtung (25; 32; 35; 36) ist im Bereich mindestens einer Korrektur-Feldebene (23, 24, 10) der Projektionsoptik (8) angeordnet. Die Korrektur-Feldebene ist der Objektebene (6) nachgeordnet. Es resultiert eine Projektionsoptik, bei der eine Korrektur von unerwünschten Variationen von Beleuchtungsparametern, insbesondere eine Korrektur einer unerwünschten Variation einer FeId-Beleuchtungsintensitätsverteilung, möglich ist.
摘要翻译：的投影光学系统（8）的用于微光刻用于在图像平面（10）中的对象平面（6）对对象成像的场（5）转换成的像场。强度校正装置（25; 32; 35; 36）用于校正一个Intensitätsbeaufschlagung一个场照明。强度校正装置（25; 32; 35; 36）是在布置在投射光学系统中的至少一个校正场平面（23，24，10）的范围内（8）。校正场平面物体面（6）下游。这导致投影光学系统，其中的照明参数不必要的变化的修正，特别是FEID照明强度分布的不期望的变化的校正是可能的。

2. 发明申请

WO2009156038A1 ILLUMINATION OPTICAL UNIT FOR MICROLITHOGRAPHY 审中-公开
标题翻译：照明光学单元
公开(公告)号：WO2009156038A1
公开(公告)日：2009-12-30
申请号：PCT/EP2009/003773
申请日：2009-05-27
申请人： CARL ZEISS SMT AG , FIOLKA, Damian , TOTZECK, Michael , ENKISCH, Hartmut , MUELLENDER, Stephan
发明人： FIOLKA, Damian , TOTZECK, Michael , ENKISCH, Hartmut , MUELLENDER, Stephan
IPC分类号： G03F7/20 , H01L21/00
CPC分类号： G03F7/70191 , G03F7/70075 , G03F7/70116 , G03F7/702 , G03F7/70566
摘要： An illumination optical unit for microlithography serves for illuminating an object field with illumination light. A first facet mirror (13) has a plurality of first facets (19). A second facet mirror (14) has a plurality of second facets (20). Facet pairs (19, 20) comprising respectively a facet of the first facet mirror and a facet of the second facet mirror predefine a plurality of illumination channels for illuminating the object field. At least some of the illumination channels have in each case an assigned polarization element for predefining an individual polarization state (x-Pol, y-Pol, xy-Pol, yx-Pol) of the illumination light guided in the respective illumination channel. This results in illumination of the object field which ensures a high structure resolution of a downstream imaging.
摘要翻译：用于微光刻的照明光学单元用于照明光照射物场。第一刻面镜（13）具有多个第一刻面（19）。第二刻面镜（14）具有多个第二刻面（20）。分别包括第一分面反射镜的小平面和第二面反射镜的小面的方形对（19,20）预先定义用于照亮对象场的多个照明通道。至少一些照明通道在每种情况下都具有分配的偏振元件，用于预定在各个照明通道中引导的照明光的单独偏振状态（x-Pol，y-Pol，xy-Pol，yx-Pol）。这导致对象场的照明，其确保下游成像的高结构分辨率。

3. 发明申请

WO2007017013A3 ANORDNUNG ZUR LAGERUNG EINES OPTISCHEN BAUELEMENTS 审中-公开
公开(公告)号：WO2007017013A3
公开(公告)日：2007-02-15
申请号：PCT/EP2006/006353
申请日：2006-06-30
申请人： CARL ZEISS SMT AG , SCHÖPPACH, Armin , ZENGERLING, Christian
发明人： SCHÖPPACH, Armin , ZENGERLING, Christian
IPC分类号： G02B7/02 , G03F7/20
摘要： Anordnung zur Lagerung eines einen äußeren Umfangsbereich aufweisenden optischen Elements (18, 21), insbesondere einer Linse oder eines Spiegels, relativ zu einem Träger (6) über wenigstens drei am äußeren Umfangsbereich des optischen Elements (18, 21) angeordnete Anlenkstellen (17). Das optische Element (18, 21) ist über die Anlenkstellen (17) in wenigstens einer Richtung durch elastisch federnde Elemente (14, 15, 16) kraftschlüssig gehalten, wobei sich die elastisch federnden Elemente für jede Anlenkstelle (17) in einer Lagereinrichtung (1) mit einem Trägerkörper (2) befinden. Die Lagereinrichtungen (1) halten das optische Element statisch bestimmt am Träger (6).

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