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1. 发明申请

WO2022094644A1 ZENTRIERUNGSVORRICHTUNG FÜR METALLPLATINEN 审中-公开
公开(公告)号：WO2022094644A1
公开(公告)日：2022-05-12
申请号：PCT/AT2021/060413
申请日：2021-11-08
申请人： EBNER INDUSTRIEOFENBAU GMBH
发明人： EBNER, Robert , HUMER, Harald , OPPERMANN, Anton , SCHATZ, Daniel
IPC分类号： F27D3/00 , F27D3/02 , F27D3/12 , F27D5/00 , C21D9/00 , C21D9/46
摘要： Die vorliegende Erfindung betrifft eine Vorrichtung (100) zum Ausrichten einer Metallplatine (150) für ein Temperiersystem (200), welches zumindest eine Temperiereinheit (201, 202, 203) zum Erwärmen oder Kühlen der Metallplatine (150) aufweist. Die Vorrichtung (100) weist zumindest zwei Auflagerrollen (101) auf, auf welchen die Metallplatine (150) auflegbar und mittels Drehens der Auflagerrollen (101) in Durchlaufrichtung (105) und innerhalb einer Förderebene (204) durch das Temperiersystem (200) beförderbar ist, wobei die Auflagerrollen (101) in Durchlaufrichtung (105) beabstandet angeordnet sind. Die Vorrichtung (100) weist ferner eine erste Zentriereinheit (110) mit zumindest einem Zentrierfinger (111) auf, welcher innerhalb der Förderebene (204) derart verschiebbar angeordnet ist, dass der Zentrierfinger (111) quer zur Durchlaufrichtung (105) verfahrbar ist, um die Metallplatine (150) in eine vorbestimmte Ausrichtung auszurichten.

2. 发明申请

WO2022082246A1 VERTIKALOFEN ZUR KONTINUIERLICHEN WÄRMEBEHANDLUNG EINES METALLBANDES 审中-公开
公开(公告)号：WO2022082246A1
公开(公告)日：2022-04-28
申请号：PCT/AT2021/060389
申请日：2021-10-20
申请人： EBNER INDUSTRIEOFENBAU GMBH
发明人： EBNER, Robert , EPPENSTEINER, Sascha , RECHBERGER, Martin
IPC分类号： C21D9/56 , C21D9/573 , F27B9/28 , F27B9/02 , F27D7/02
摘要： Die Erfindung betrifft einen Vertikalofen (1) zur kontinuierlichen Wärmebehandlung eines Metallbandes (2) insbesondere für Elektroband, wobei der Vertikalofen (1) in einer Förderrichtung des Metallbandes (2) gesehen - eine Einlasszone (3) für das Metallband (2); - eine Aufheiz-/Haltezone (4) mit einem Glühraum zum Erwärmen und temperaturmäßigen Verweilen des Metallbandes (2); - eine erste Kühlzone (5) zum Abkühlen des Metallbandes (2); - eine nach der ersten Kühlzone (5) angeordnete Umlenkvorrichtung (6) mit zumindest einer Rollenanordnung (7), zum Umlenken des Metallbandes (2) in Richtung einer Auslasszone (8) für das Metallband (2) umfasst, wobei eine zweite Kühlzone (9) in Bezug auf die Förderrichtung nach der Umlenkvorrichtung (6) angeordnet ist.

3. 发明申请

WO2021217191A1 APPARATUS FOR HEATING MULTIPLE CRUCIBLES 审中-公开
公开(公告)号：WO2021217191A1
公开(公告)日：2021-11-04
申请号：PCT/AT2021/060145
申请日：2021-04-27
申请人： EBNER INDUSTRIEOFENBAU GMBH
发明人： EBNER, Robert , ARIYAWONG, Kanaparin , HSIUNG, Chih-Yung , BARBAR, Ghassan
IPC分类号： C30B11/00 , C30B35/00 , F27B14/14 , C30B29/40 , C30B29/36 , C30B29/20 , C30B11/002 , C30B11/003 , C30B11/006 , C30B11/007 , C30B29/403 , C30B35/002 , F27B14/20 , F27B2014/0881
摘要： The present invention relates to a crucible device (100) for growing crystals. The crucible device (100) comprises a heating chamber (140), at least a first crucible (110) in which a first crystal (111) is growable, and at least a second crucible (120) in which a second crystal (121) is growable. The first crucible (110) and the second crucible (120) are arranged within the heating chamber (140) spaced apart from each other along a horizontal and vertical and any orientational direction. The crucible device (100) further comprises a heating system arranged within the heating chamber (140), wherein the heating system is configured for adjusting a temperature along the horizontal and vertical and any orientational directions.

4. 发明申请

WO2019141682A1 DURCHLAUFOFEN FÜR ALUMINIUMBÄNDER 审中-公开
公开(公告)号：WO2019141682A1
公开(公告)日：2019-07-25
申请号：PCT/EP2019/050956
申请日：2019-01-15
申请人： EBNER INDUSTRIEOFENBAU GMBH
发明人： EBNER, Robert , PSCHEBEZIN, Ulrich , POCHERDORFER, Alexander , FRÖHLICH, Günther , KUMAR, Manoj
IPC分类号： F27B9/02 , C22F1/04
摘要： Die vorliegende Erfindung betrifft eine Durchlaufofenanlage (100) zum Wärmebehandeln eines Metallbauteils (110), insbesondere eines Aluminiumbandes. Die Durchlaufofenanlage (100) weist eine erste Erwärmungseinheit (101), in welcher das Metallbauteil (110) zum Lösungsglühen auf eine erste Temperatur im Bereich von 350 °C bis 700 °C erwärmbar ist, eine Abkühleinheit (102), in welcher das Metallbauteil (110) von 300 °C bis 750 °C auf 70 °C bis 250 °C abkühlbar ist, und eine zweite Erwärmungseinheit (103), in welcher das Metallbauteil (110) auf 150 °C bis 290 °C erwärmbar ist, auf. Die erste Erwärmungseinheit (101), die Abkühleinheit (102) und die zweite Erwärmungseinheit (103) beiden eine gemeinsame Trägerstruktur (106) auf, an welcher die erste Erwärmungseinheit (101), die Abkühleinheit (102) und die zweite Erwärmungseinheit (103) miteinander befestigt sind. Ferner weist die Durchlaufofenanlage (100) eine gemeinsame Förderbahn (107) auf, welche sich durch die erste Erwärmungseinheit (101), die Abkühleinheit (102) und die zweite Erwärmungseinheit (103) erstreckt, wobei die Förderbahn (107) derart ausgebildet ist, dass das Metallbauteil (110) entlang der Förderbahn (107) in Förderrichtung (109) durch die erste Erwärmungseinheit (101), die Abkühleinheit (102) und die zweite Erwärmungseinheit (103) zur Wärmebehandlung durchführbar ist.

5. 发明申请

WO2022061388A1 VERFAHREN ZUR ZÜCHTUNG VON KRISTALLEN 审中-公开
公开(公告)号：WO2022061388A1
公开(公告)日：2022-03-31
申请号：PCT/AT2021/060343
申请日：2021-09-23
申请人： EBNER INDUSTRIEOFENBAU GMBH
发明人： ARIYAWONG, Kanaparin , BARBAR, Ghassan , EBNER, Robert , HSIUNG, Chih-Yung
IPC分类号： C30B23/00 , C30B23/06 , C30B29/36
摘要： Die Erfindung betrifft Verfahren zum Züchten von Kristallen mittels PVT oder PVD oder CVD, umfassend die Schritte: - Bereitstellen einer Kammer für das Kristallwachstum; - Bereitstellen eines Tiegels, welcher in der Kammer angeordnet ist und welcher Tiegel zumindest eine Abscheidesektion mit einem Impfkristall, sowie ein Ausgangsmaterial zum Züchten eines Kristalls aufweist; - Bereitstellen zumindest einer Temperaturüberwachungsvorrichtung, insbesondere Pyrometer; - Bereitstellen einer Gaszuführungsvorrichtung sowie zumindest eines Fluid-Ein- und Auslasses; - Bereitstellen einer Drucküberwachungsvorrichtung; - Evakuieren der Kammer mittels einer Abpumpvorrichtung; - Spülen der Kammer mit einem Inertgas, vorzugsweise Argon; - Aufheizen der Kammer auf eine Züchtungstemperatur von 2000 bis 2400°C mittels zumindest einer Heizvorrichtung; - Verringern des Drucks auf 0,1 bis 100 mbar; - Zuführen eines Dotierstoffs, vorzugsweise Stickstoff, (während eines Wachstumsprozesses); - Regeln der Prozessparameter im Wachstumsprozess; - Erhöhen des Drucks in der Kammer am Ende des Wachstumsprozesses; - Abkühlen der Kammer, wobei das Aufheizen der Kammer von Umgebungstemperatur auf die Züchtungstemperatur innerhalb von 10 bis 10000 Minuten erfolgt.

6. 发明申请

WO2019138134A1 KONVEKTIONSOFEN 审中-公开
公开(公告)号：WO2019138134A1
公开(公告)日：2019-07-18
申请号：PCT/EP2019/050932
申请日：2019-01-15
申请人： EBNER INDUSTRIEOFENBAU GMBH
发明人： EBNER, Robert , PSCHEBEZIN, Ulrich , KUMAR, Manoj , SAUSCHLAGER, Andreas
IPC分类号： F27B5/14 , F27B5/16 , F27B17/00 , F27D7/04
CPC分类号： F27B5/14 , C22F1/04 , C22F1/06 , F27B5/16 , F27B17/0075 , F27D7/04 , F27D2007/045
摘要： Die vorliegende Erfindung betrifft eine Ofenvorrichtung (100) zum Erwärmen einer Platine (101), insbesondere einer Metallplatine (101), mittels Konvektion. Die Ofenvorrichtung (100) weist ein Gehäuse (102), in welchem ein Temperierbereich (103) zum Temperieren eines Bauteils und ein Einstellbereich (104) ausgebildet sind, auf, wobei der Einstellbereich (104) eine Temperiereinrichtung (105) zum Einstellen einer Temperatur eines Temperierfluids aufweist. Ferner weist die Ofenvorrichtung (100) eine Positionierungseinrichtung (106) zum Positionieren der Platine (101) in dem Temperierbereich (103) in einer vorbestimmten Ausrichtung und einen Ventilator (107) auf, welcher im Gehäuse (102) angeordnet ist und ausgebildet ist, das Temperierfluid im Gehäuse (102) zwischen dem Temperierbereich (103) und dem Einstellbereich (104) zu zirkulieren, so dass das Temperierfluid in einer Strömungsrichtung (108) entlang einer Oberfläche der Platine (101) strömbar ist.

7. 发明申请

WO2019106083A1 TEMPERIEREINHEIT FÜR EINE OFENVORRICHTUNG ZUM WÄRMEBEHANDELN EINER PLATINE 审中-公开
公开(公告)号：WO2019106083A1
公开(公告)日：2019-06-06
申请号：PCT/EP2018/082994
申请日：2018-11-29
申请人： EBNER INDUSTRIEOFENBAU GMBH
发明人： EBNER, Robert , SAUSCHLAGER, Andreas , OPPERMANN, Anton , SCHATZ, Daniel , KIRSCHNER, Günter , HEITZMANN, Lukas , HUMER, Harald , MUSIC, Mustafa
IPC分类号： F27D9/00 , C21D11/00
CPC分类号： F27D9/00 , C21D1/00 , C21D8/02 , C21D8/0294 , C21D8/0494 , C21D9/00 , C21D9/0056 , C21D9/0062 , C21D9/46 , C21D11/00 , C21D11/005 , C21D2211/00 , F27D2009/007 , F27D2009/0081
摘要： Die vorliegende Erfindung betrifft eine Temperiereinheit für eine Ofenvorrichtung (100) zum Wärmebehandeln einer Platine (101), insbesondere einer Metallplatine (101). Die Temperiereinheit weist einen Temperierkörper auf, welcher in einem Ofenraum (113) der Ofenvorrichtung (100) anordbar ist. Der Temperierkörper (103) weist eine Vielzahl von Aufnahmebohrungen (104) auf. Ferner weist die Temperiereinheit eine Vielzahl von Temperierstiften (105) auf, wobei die Temperierstifte (105) relativ zu dem Temperierkörper (103) beweglich in den Aufnahmebohrungen (104) gelagert sind. Die Temperierstifte (105) sind derart steuerbar, dass eine Temperiergruppe (106) der Temperierstifte (105) aus dem Temperierkörper (103) in Richtung Platine (101) ausfahrbar ist, damit ein thermischer Kontakt zwischen der Temperiergruppe (106) an Temperierstiften (105) mit einer vorbestimmten Temperierzone der Platine (101) generierbar ist.

8. 发明申请

WO2019081695A1 SYSTEM ZUM ÜBERWACHEN EINES THERMISCHEN BEHANDLUNGSPROZESSES EINER CHARGE IN EINER TEMPERIERVORRICHTUNG 审中-公开
公开(公告)号：WO2019081695A1
公开(公告)日：2019-05-02
申请号：PCT/EP2018/079381
申请日：2018-10-26
申请人： EBNER INDUSTRIEOFENBAU GMBH
发明人： EBNER, Robert , SAUSCHLAGER, Andreas , GÖTSCH, Leopold , BECK, Christian
IPC分类号： G01K7/42 , G01K7/02 , B25J9/00 , B25J15/00 , B25J19/02
CPC分类号： G01K7/42 , B25J11/00 , G01K7/02 , G01K2007/422
摘要： Die vorliegende Erfindung betrifft ein System (100) zum Überwachen eines thermischen Behandlungsprozesses einer Charge (101) in einer Temperiervorrichtung (120). Das System (100) weist ein Messelement (102) auf, wobei das Messelement (102) innerhalb der Temperiervorrichtung (120) derart platzierbar ist, dass das Messelement (102) derselben Temperatur wie die Charge (101) aussetzbar ist. Das Messelement (102) weist eine Kontaktierungsstelle (103) auf. Das System (100) weist ferner eine Auslesevorrichtung (104) auf, welche selektiv an die Kontaktierungsstelle (103) derart koppelbar ist, dass die Temperatursignale von der Kontaktierungsstelle (103) auslesbar sind.

9. 发明申请

WO2018162474A1 BANDSCHWEBEANLAGE MIT EINEM DÜSENSYSTEM 审中-公开
公开(公告)号：WO2018162474A1
公开(公告)日：2018-09-13
申请号：PCT/EP2018/055464
申请日：2018-03-06
申请人： EBNER INDUSTRIEOFENBAU GMBH
发明人： EBNER, Robert , PSCHEBEZIN, Ulrich , LUKATSCH, Roland , POCHERDORFER, Alexander , FRÖHLICH, Günther , GÖTSCH, Leopold
IPC分类号： C21D9/573 , C21D9/63 , F27B9/24
摘要： Die vorliegende Erfindung betrifft ein Düsensystem (100) für eine Bandschwebeanlage (300) zum schwebenden Führen eines bandförmigen Materials (101). Ein Düsenkörper (102), welcher entlang einer Förderrichtung (103) des bandförmigen Materials (101), welches innerhalb einer Bandlaufebene beförderbar ist, weist einen vorderen Randbereich (104) und einen, gegenüber diesem liegenden hinteren Randbereich (105) auf. Eine vordere Gasdüsenanordnung (110) ist an dem vorderen Randbereich (104) derart angeordnet, dass ein vorderer Gasstrahl (111) in Richtung der Bandlaufebene zum Bilden eines Schwebedüsenfelds (106) für das bandförmige Material (101) strömbar ist. Eine hintere Gasdüsenanordnung (120) ist an dem hinteren Randbereich (105) derart angeordnet, dass ein hinterer Gasstrahl (121) in Richtung der Bandlaufebene zum Bilden des Schwebedüsenfelds (106) für das bandförmige Material (101) strömbar ist. Eine Düsenanordnung (130) ist in Förderrichtung (103) vor der vorderen Gasdüsenanordnung (110) oder hinter der hinteren Gasdüsenanordnung (120) angeordnet, wobei die Düsenanordnung (130) derart eingerichtet ist, dass ein flüssiges Fluid in einem Fluidstrahl (131) in das Schwebedüsenfeld (106) in Richtung der Bandlaufebene zum Temperieren des bandförmigen Materials strömbar ist.

10. 发明申请

WO2015067552A1 CONTROLLING A TEMPERATURE OF A CRUCIBLE INSIDE AN OVEN 审中-公开
标题翻译：控制烤箱内部可溶性的温度
公开(公告)号：WO2015067552A1
公开(公告)日：2015-05-14
申请号：PCT/EP2014/073540
申请日：2014-11-03
申请人： EBNER INDUSTRIEOFENBAU GMBH
发明人： JONES, Bernard D. , SKELTON, Dean C. , MCGEE, Thomas S. , EBNER, Robert
IPC分类号： C30B11/00 , C30B29/20
CPC分类号： C30B11/002 , C30B11/003 , C30B11/006 , C30B29/20 , C30B35/00
摘要： The present invention relates to a furnace system for growing crystals. The furnace system comprises a crucible (110) for growing a crystal and a furnace (120) comprising a housing (121) having an inner volume (Vi). The housing (121) comprises a through hole (124) connecting the inner volume (Vi) with an environment of the housing (121). An insulation plug (101) is movably insertable into the through hole (124) for controlling a heat extraction out of the crucible (110) by radiation, wherein the insulation plug (101) is free of a force transmitting contact with the crucible (110).
摘要翻译：本发明涉及一种用于生长晶体的炉系统。炉系统包括用于生长晶体的坩埚（110）和包括具有内部容积（Vi）的壳体（121）的炉（120）。壳体（121）包括将内部容积（Vi）与壳体（121）的环境连接的通孔（124）。绝缘插头（101）可移动地插入到通孔（124）中，用于通过辐射控制从坩埚（110）中的热量提取，其中绝缘插头（101）没有与坩埚（110）的力传递接触）。

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