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    • 75. 发明申请
    • 化合物及びその製造方法、並びに、組成物、光学部品形成用組成物、リソグラフィー用膜形成組成物、レジスト組成物、レジストパターンの形成方法、感放射線性組成物、アモルファス膜の製造方法、リソグラフィー用下層膜形成材料、リソグラフィー用下層膜形成用組成物、リソグラフィー用下層膜の製造方法、レジストパターン形成方法、回路パターン形成方法、及び、精製方法
    • 用于形成光学组分的组合物,组合物,用于形成光刻膜的组合物,耐蚀性组合物,形成耐蚀性图案的方法,辐射敏感性组合物,用于形成非晶膜的方法,用于形成层状膜的材料,组合物,组合物 形成地平线膜,生产层状膜下膜的方法,形成电阻图案的方法,形成电路图的方法和纯化方法
    • WO2017038979A1
    • 2017-03-09
    • PCT/JP2016/075814
    • 2016-09-02
    • 三菱瓦斯化学株式会社
    • 越後 雅敏
    • C07C43/23C07C41/26C07D301/28C07D303/28C07D303/30C07B61/00
    • C07C41/26C07B61/00C07C43/23C07D301/28C07D303/28C07D303/30
    • 下記式(1)で表される化合物及びその製造方法、並びに、組成物、光学部品形成用組成物、リソグラフィー用膜形成組成物、レジスト組成物、レジストパターンの形成方法、感放射線性組成物、アモルファス膜の製造方法、リソグラフィー用下層膜形成材料、リソグラフィー用下層膜形成用組成物、リソグラフィー用下層膜の製造方法、レジストパターン形成方法、回路パターン形成方法、及び、精製方法。(1)(式(1)中、R 1 は、炭素数1~60の2n価の基又は単結合であり、R 2 ~R 5 は、各々独立して炭素数1~30の直鎖状、分岐状若しくは環状のアルキル基、炭素数6~30のアリール基、炭素数2~30のアルケニル基、下記式(A)で表される基、下記式(B)で表される基、チオール基又は水酸基であり、ここで、R 2 ~R 5 からなる群より選ばれる少なくとも1つは、下記式(A)で表される基及び下記式(B)で表される基からなる群より選ばれる基であり、m 2 及びm 3 は各々独立して0~8の整数であり、m 4 及びm 5 は各々独立して0~9の整数であり、但し、m 2 、m 3 、m 4 及びm 5 は同時に0となることはなく、nは1~4の整数であり、p 2 ~p 5 は各々独立して0~2の整数である。(A)(式(A)中、R 6 は各々独立して、炭素数1~4のアルキレン基であり、m'は1以上の整数である。)(B)(式(B)中、R 6 は前記と同義であり、R 7 は水素原子又はメチル基であり、m''は0又は1以上の整数である。))
    • 提供:由式(1)表示的化合物及其制备方法。 一个组成 用于形成光学部件的组合物; 用于形成平版印刷膜的组合物; 抗蚀剂组合物; 形成抗蚀剂图案的方法; 辐射敏感组合物; 一种非晶膜的制造方法; 用于形成光刻下层膜的材料; 用于形成光刻下层膜的组合物; 光刻下层膜的制造方法; 形成抗蚀剂图案的方法; 一种形成电路图形的方法; 和纯化方法。 (1)(式(1)中,R 1为碳数为1〜60的2价部分或单键; R 2〜R 5分别为直链状,支链状或环状的C 1-30烷基部分, C-2-30烯基部分,由式(A)表示的部分,由式(B)表示的部分,硫醇部分或羟基部分,其中至少一个选自R2-R5 是选自由式(A)表示的部分和由式(B)表示的部分的部分; m 2和m 3独立地为0-8的整数; m4和m5独立地为0-9的整数,与 m2,m3,m4和m5不能同时为0的警告; n为1-4的整数; p2-p5独立地为0-2的整数(A)(式(A)中,R6独立地为 C 4亚烷基部分,m'为等于或大于1的整数。)(B)(式(B)中,R 6如上所定义,R 7为氢原子或甲基部分,m“为 0或等于或大于1的整数)))
    • 79. 发明申请
    • NIEDRIGVISKOSE, KONZENTRIERTE LÖSUNGEN VON ERDALKALIMETALLALKOXIDEN IN APROTISCHEN LÖSUNGSMITTELN UND VERFAHREN ZU DEREN HERSTELLUNG
    • 低粘度,浓缩的溶液在非质子溶剂碱土金属,AND METHOD FOR THEIR
    • WO2014064233A1
    • 2014-05-01
    • PCT/EP2013/072348
    • 2013-10-25
    • ROCKWOOD LITHIUM GMBH
    • WIETELMANN, UlrichSTOLL, ArminKIEFER, FlorianEMMEL, Ute
    • C07C41/26C08F4/655
    • C08F4/52C07B61/00C07C41/26C07C43/13C08F10/00C08F4/6555C08F4/12C08F4/10
    • Die Erfindung betrifft konzentrierte niedrigviskose Lösungen von gemischten Erdalkalialkoxidverbindungen M(OCH 2 R 6 ) 2-a-b (OR 7 ) a [O(CHR 8 ) n OR 9 ] b in Mischung mit einer Aluminiumverbindung AI(OCH 2 R 6 ) 3-c-d (OR 7 ) c [O(CHR 8 ) n OR 9 ] d in aprotischen Lösungsmitteln, wobei • M ein Erdalkalimetall ausgewählt aus Mg, Ca, Ba, Sr; • OCH 2 R 6 ein Alkoxidrest bestehend aus mindestens 3 und höchstens 40 C-Atomen mit einer Verzweigung in 2-Position bezogen auf die O- Funktion, also R 6 = -CHR 10 R 11 mit R 10 , R 11 = unabhängig voneinander Alkylreste C 1 - C 18 ; • R 7 ein Alkylrest mit 2-15 C-Atomen, der entweder linear ist oder eine Verzweigung > der 3-Position (bezogen auf die O-Funktion) aufweist • R 8 ein Alkylrest mit 1 -6 C-Atomen, der entweder linear ist oder eine Verzweigung > der 3-Position (bezogen auf die O-Funktion) aufweist • R 9 ein Alkylrest mit 2-15 C-Atomen, der entweder linear ist oder eine Verzweigung aufweist • n = eine ganze Zahl zwischen 1 und 4 ist und • a + b
    • 本发明涉及的混合Erdalkalialkoxidverbindungen M(OCH2R6)浓低粘度溶液2-AB(OR 7)A [O(CHR 8)NOR9] b。与铝化合物混合,AI(OCH2R6)3-CD(OR 7)C [O(CHR 8)NOR9 ] D在非质子溶剂,•M是选自Mg,Ca,钡,锶的碱土金属; •OCH2R6醇盐组成的至少3个,至多40个碳原子的相对于输出功能的2位的分支,所以R6 = -CHR10R11与R10,R11 =独立地为烷基C1 - C18; •R7是烷基与2-15个碳原子,其为线性的或支化> 3-位(相对于输出功能)•R8是烷基具有1 -6个碳原子,并且是线性的或 一个分支包括> 3-位(相对于输出功能)•R9是烷基与2-15个碳原子,其为线性的或支链的被•N = 1和4以及·之间的整数 + b <2和c + d可采取<3和0.01 -0.8 a和c的任意值和b和d的0.1 -1.99任意值。