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    • 68. 发明申请
    • ガスバリアーフィルム及びガスバリアーフィルムの製造方法
    • 气体阻隔膜和制造气体阻隔膜的方法
    • WO2014061627A1
    • 2014-04-24
    • PCT/JP2013/077896
    • 2013-10-15
    • コニカミノルタ株式会社
    • 西尾 昌二
    • B32B9/00C23C16/42H01L51/50H05B33/02H05B33/04H05B33/10
    • C09D7/1216C09D7/61C23C14/34C23C16/401C23C16/455C23C16/50C23C16/545H01L51/5253
    •  本発明の課題は、高温高湿の使用環境下でも十分なガスバリアー性を有し、フィルムを屈曲させた場合においてもガスバリアー性の低下が十分に抑制され、クラック耐性にも優れたガスバリアーフィルムを提供することである。 本発明のガスバリアーフィルムは、基材の少なくとも一方の面にケイ素、酸素、及び炭素を含有するガスバリアー層を有しており、下記(i)~(iv)の要件を全て満たすことを特徴とする。 (i)ケイ素、酸素、及び炭素原子比率が、層厚方向の90%以上の領域において、(炭素原子比率)<(ケイ素原子比率)<(酸素原子比率)、 (ii)炭素分布曲線が少なくとも2つの極値を有する、 (iii)炭素分布曲線における炭素原子比率の最大値及び最小値の差の絶対値が5at%以上、 (iv)基材側のガスバリアー層表面に最も近い酸素分布曲線の極大値が、当該ガスバリアー層内の酸素分布曲線の極大値の中で最大値をとる。
    • 本发明解决了提供阻气膜的问题,其即使在高温,高湿度使用环境中也具有充分的阻气性; 即使当膜弯曲时也充分限制了气体阻隔性能的降低; 并具有优异的抗开裂性。 这种阻气膜的特征在于在基材的至少一个表面上具有含有硅,氧和碳的气体阻隔层,并且满足所有条件(i) - (iv)。 (i)在延伸至层厚方向的90%以上的区域中,硅,氧和碳原子比为(碳原子比)<(硅原子比)<(氧原子比),(ii)碳 分布曲线至少有两个极值,(iii)碳分布曲线中碳原子比的最大值与最小值的差绝对值为5at%以上,(iv) 最靠近基材侧的气体阻隔层的表面的氧分布曲线是所述气体阻隔层中的氧分布曲线的最大值中的最大值。