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    • 63. 发明申请
    • フッ素系添加剤を有するシリコン含有レジスト下層膜形成組成物
    • 用于形成含硅含氟膜的组合物,其含有含氟的添加剂
    • WO2012053600A1
    • 2012-04-26
    • PCT/JP2011/074174
    • 2011-10-20
    • 日産化学工業株式会社菅野 裕太中島 誠三崎 朋子松山 元信原口 将幸
    • 菅野 裕太中島 誠三崎 朋子松山 元信原口 将幸
    • G03F7/11H01L21/027
    • G03F7/091C08G77/14C08G77/26C09D183/06G03F7/0752G03F7/11H01L21/0271H01L21/3081C08L33/16C09D183/08
    • 【課題】塗布性能、パターン形状を改善することが可能なハードマスクとして使用できるレジスト下層膜を形成するためのリソグラフィー用レジスト下層膜形成組成物を提供することである。 【解決手段】(I)成分として分子内に2個以上のラジカル重合性二重結合を有するモノマーAと、分子内にフルオロアルキル基及び少なくとも1個のラジカル重合性二重結合を有するモノマーBと、分子内にケイ素原子を有する有機基及び少なくとも1個のラジカル重合性二重結合を有するモノマーDとを、該モノマーA、該モノマーB及び該モノマーDの合計モルに対して、5モル%以上200モル%以下の重合開始剤Cの存在下で重合させることにより得られる含フッ素高分岐ポリマーと、(II)成分として加水分解性シラン化合物、その加水分解物、その加水分解縮合物、又はそれらの組み合わせであるケイ素含有化合物とを含むリソグラフィー用レジスト下層膜形成組成物。
    • [问题]提供一种用于形成用于光刻应用的抗蚀剂下层膜的组合物,其可用于形成可用作能够改善涂料性能和图案形状的硬掩模的抗蚀剂下层膜。 [解决方案]用于形成用于光刻用途的抗蚀剂下层膜的组合物包括(I)通过在分子中聚合具有至少两个可自由基聚合的双键的单体(A)作为组分而制备的含氟高度高分子, 分子中具有氟代烷基和至少一个自由基聚合性双键的单体(B)和分子内具有含硅原子的有机基团和至少一个自由基聚合性双键的单体(D) 相对于单体(A),(B)和(D)和(II)的总摩尔量,聚合引发剂(C)的存在量为5〜200摩尔%,含有硅的化合物,其含有 作为组分,可水解硅烷化合物,化合物的水解产物,化合物的水解缩合产物或其组合。
    • 67. 发明申请
    • 酸素透過性ハードコンタクトレンズ材料
    • OXYGEN-PERMEABLE硬接触透镜材料
    • WO2009022379A1
    • 2009-02-19
    • PCT/JP2007/065730
    • 2007-08-10
    • 株式会社 メニコン松本 昌浩
    • 松本 昌浩
    • G02C7/04
    • G02B1/043C08L43/04C08L33/16
    •  ハードコンタクトレンズ材料は、一般式(A)で表わされるシリコーン系モノマー及び下記一般式(B)で表わされるフッ素系モノマーから実質的に構成されるモノマー成分であって親水性成分を含まないモノマー成分と、架橋剤とを重合して得られる共重合体を含有する。共重合体は、40~60重量部のシリコーン系モノマー及び30~50重量部のフッ素系モノマーを備えるモノマー成分と、5~15重量部の架橋剤との重合により得られる。このハードコンタクトレンズ材料は数時間以内の短時間で共重合を行っても未重合モノマー量を低く抑えることができ、酸素透過性や耐汚損性など、各モノマーの性能を十分に発揮する。 (A)(式中、R 1 及びR 2 はそれぞれ水素原子又はメチル基を示し、mは1~5の整数を示し、nは1~3の整数を示す)  (B)(式中、R 3 は水素原子又はメチル基を示し、R 4 は1~4の炭素数を有する炭化水素基であって該炭化水素基中の水素の少なくとも一部がフッ素基で置換されている炭化水素基を示す)
    • 一种硬质隐形眼镜用材料,其含有共聚物,该共聚物通过将基本上由通式(A)表示的硅氧烷单体和由通式(B)表示的含氟单体组成的单体组分同时不含亲水性成分和 交联剂。 共聚物通过聚合40至60重量份的硅氧烷单体,30至50重量份的含氟单体和5至15重量份的交联剂来制备。 即使在几小时的时间内进行共聚,也可以使未聚合单体的含量降低,同时由于透氧性,耐污渍性,划痕性等单体,也可以发挥令人满意的性能。 ((A)其中R1和R2各自为氢或甲基; m为1至5的整数; n为1至3的整数)((B)其中R3为氢或甲基; R4为烃基 具有1至4个碳原子,其中氢原子至少部分被氟基取代)